Die Atomlagenabscheidung von Cobaltphosphid zum Zwecke einer effizienten Wasserspaltung

Wir berichten von der erstmaligen erfolgreichen Herstellung von Übergangsmetallphosphiden (TMP) mittels Atomlagenabscheidung (ALD). Ultradünne Co‐P Filme wurden mit PH3‐Plasma als der Phosphorquelle und einem zusätzlichen H2‐Plasma‐Schritt, der zum Entfernen von überschüssigem P aus den wachsenden Schichten dient, abgeschieden. Der optimierte ALD‐Prozess folgte dem selbstsättigenden Schicht‐für‐Schicht‐Wachstumsverhalten und die abgeschiedenen Co‐P‐Filme zeichneten sich durch hohe Reinheit und Glätte aus. Die mittels ALD abgeschiedenen Co‐P‐Filme zeigten bessere elektrochemische und photoelektrochemische Aktivitäten für die Wasserstoffentwicklungsreaktion als gleichartige Co‐P‐Filme, die mit der traditionellen Postphosphorisierungsmethode hergestellt wurden. Außerdem zeigen wir die Abscheidung in periodische Furchen. Dies demonstriert das breite und vielversprechende Anwendungspotential dieses ALD‐Prozesses für die gleichmäßige Beschichtung komplexer dreidimensionaler (3D) Strukturen mit TMP‐Filmen.