Silane, Hybridpolymere und Photolack mit Positiv-Resist Verhalten sowie Verfahren zur Herstellung
The present invention relates to a specific heteropolymer, namely a silica (hetero)poly(co)condensate having positive resist characteristics, which is notable for polycondensation or copolycondensation of specifically modified silanes. The invention likewise relates to monomeric silanes from which t...
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| Hauptverfasser: | , |
|---|---|
| Format: | Patent |
| Sprache: | ger |
| Online-Zugang: | Volltext bestellen |
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