Vorrichtung zum Beschichten eines Substrates innerhalb einer Vakuumkammer mittels plasmaunterstützer chemischer Dampfabscheidung

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Abscheiden einer Schicht auf einem Substrat (2) innerhalb einer Vakuumkammer (1) mittels plasmaunterstuetzter chemischer Dampfabscheidung umfassend mindestens einen Einlass (3) zum Einlassen mindestens eines Gases in die Vakuumkammer (1) sowie mindestens e...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Fahland, M, Bunk, S, Fahlteich, J, Blüthner, R, Zeibe, R
Format:	Patent
Sprache:	ger
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Schreiben Sie den ersten Kommentar!