METHOD FOR CLEANING PROCESS GASES CONTAINING GASEOUS IMPURITIES

In a method for cleaning process gases containing gaseous impurities, the process gases are conducted along a process-gas passage running through a reactor plant (1, 2, 3), and through a dust separator (4) communicating with the process-gas passage. An absorbent that reacts with the gaseous impurities is injected in finely divided form into the process-gas passage in order to react with the gaseous impurities and form particles which are separated in the reactor plant (1, 2, 3) and the dust separator (4). The absorbent used comprises both fresh absorbent and a portion of the particles separated in the reactor plant and the dust separator. This portion of particles separated in the reactor plant and the dust separator are re-injected together with water into the process-gas passage at a first site (B). At least the main part of the fresh absorbent is injected into the process-gas passage at a second site (A; A') which is separate from the first site (B). Dans un procédé de nettoyage de gaz de production et renfermant des impuretés gazeuses, lesdits gaz passent par une canalisation et traversent un réacteur (1, 2, 3) et un séparateur de poussière (4) qui communique avec ladite canalisation. On injecte, dans la canalisation, une matière absorbante finement divisée qui réagit avec les impuretés gazeuses pour former des particules qui sont ensuite séparées dans le réacteur (1, 2, 3) et le séparateur de poussière (4). La matière absorbante utilisée comprend à la fois de la matière absorbante fraîche et une partie des particules qui ont été séparées dans le réacteur et le séparateur de poussière. Après séparation, lesdites particules sont réinjectées avec de l'eau dans la canalisation des gaz en un premier endroit (B). Au moins la partie principale de la matière absorbante fraîche est injectée dans la canalisation de gaz en un deuxième endroit (A; A') distinct du premier endroit (B).