ANTISTATIC COMPOSITION AND ANTISTATIC CHLORINATED RESIN COMPOSITION COMPRISING SAID ANTISTATIC COMPOSITION AND PROCESS FOR PREPARING THE SAME

Préparation antistatique comprenant un sel d'ammonium (a) représenté par la formule générale (I), dans laquelle un élément parmi R1, R2 et R3 est un groupe alkyle comportant de 5 à 24 atomes de carbone et les autres sont chacun un groupe alkyle comportant de 1 à 5 atomes de carbone, R4 est un g...

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Hauptverfasser: ANDO, SUMIO, KAGOYAMA, ATSUMU, MIYAMOTO, YASUMITSU
Format: Patent
Sprache:eng ; jpn
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creator ANDO, SUMIO
KAGOYAMA, ATSUMU
MIYAMOTO, YASUMITSU
description Préparation antistatique comprenant un sel d'ammonium (a) représenté par la formule générale (I), dans laquelle un élément parmi R1, R2 et R3 est un groupe alkyle comportant de 5 à 24 atomes de carbone et les autres sont chacun un groupe alkyle comportant de 1 à 5 atomes de carbone, R4 est un groupe alkylène comportant de 2 à 4 atomes de carbone, n est un nombre entier compris entre 1 et 15, x est un anion de l'acide chlorhydrique, de l'acide chlorique ou de l'acide perchlorique, et un perchlorate (b) représenté par la formule M(ClO4)m, dans laquelle M est un anion d'un métal appartenant aux groupes 1A et 2A de la table périodique ou un ion ammonium et m vaut 1 ou 2. La présente invention se rapporte également à une préparation comprenant ledit sel d'ammonium (a), ledit perchlorate (b) et du tri-2-éthylhexyl trimellitate (c); à une résine antistatique chlorée contenant ladite préparation antistatique et une résine chlorée; et à un procédé de préparation desdits composés.
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La présente invention se rapporte également à une préparation comprenant ledit sel d'ammonium (a), ledit perchlorate (b) et du tri-2-éthylhexyl trimellitate (c); à une résine antistatique chlorée contenant ladite préparation antistatique et une résine chlorée; et à un procédé de préparation desdits composés.</description><language>eng ; jpn</language><subject>ADHESIVES ; CHEMISTRY ; DYES ; MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FORELSEWHERE ; METALLURGY ; MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS ; MISCELLANEOUS COMPOSITIONS ; NATURAL RESINS ; PAINTS ; POLISHES</subject><creationdate>1990</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=19900517&amp;DB=EPODOC&amp;CC=WO&amp;NR=9005171A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25543,76293</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=19900517&amp;DB=EPODOC&amp;CC=WO&amp;NR=9005171A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>ANDO, SUMIO</creatorcontrib><creatorcontrib>KAGOYAMA, ATSUMU</creatorcontrib><creatorcontrib>MIYAMOTO, YASUMITSU</creatorcontrib><title>ANTISTATIC COMPOSITION AND ANTISTATIC CHLORINATED RESIN COMPOSITION COMPRISING SAID ANTISTATIC COMPOSITION AND PROCESS FOR PREPARING THE SAME</title><description>Préparation antistatique comprenant un sel d'ammonium (a) représenté par la formule générale (I), dans laquelle un élément parmi R1, R2 et R3 est un groupe alkyle comportant de 5 à 24 atomes de carbone et les autres sont chacun un groupe alkyle comportant de 1 à 5 atomes de carbone, R4 est un groupe alkylène comportant de 2 à 4 atomes de carbone, n est un nombre entier compris entre 1 et 15, x est un anion de l'acide chlorhydrique, de l'acide chlorique ou de l'acide perchlorique, et un perchlorate (b) représenté par la formule M(ClO4)m, dans laquelle M est un anion d'un métal appartenant aux groupes 1A et 2A de la table périodique ou un ion ammonium et m vaut 1 ou 2. La présente invention se rapporte également à une préparation comprenant ledit sel d'ammonium (a), ledit perchlorate (b) et du tri-2-éthylhexyl trimellitate (c); à une résine antistatique chlorée contenant ladite préparation antistatique et une résine chlorée; et à un procédé de préparation desdits composés.</description><subject>ADHESIVES</subject><subject>CHEMISTRY</subject><subject>DYES</subject><subject>MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FORELSEWHERE</subject><subject>METALLURGY</subject><subject>MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS</subject><subject>MISCELLANEOUS COMPOSITIONS</subject><subject>NATURAL RESINS</subject><subject>PAINTS</subject><subject>POLISHES</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>1990</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZOh19AvxDA5xDPF0VnD29w3wD_YM8fT3U3D0c1FAlvLw8Q_y9HMMcXVRCHIN9vRDUQxiB3kCRd0Vgh09UTWimRkQ5O_sGhys4OYfBGS7BjgGgXSFeLgCdfq68jCwpiXmFKfyQmluBgU31xBnD93Ugvz41OKCxOTUvNSS-HB_SwMDU0NzQ0dDYyKUAACf5EAp</recordid><startdate>19900517</startdate><enddate>19900517</enddate><creator>ANDO, SUMIO</creator><creator>KAGOYAMA, ATSUMU</creator><creator>MIYAMOTO, YASUMITSU</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>19900517</creationdate><title>ANTISTATIC COMPOSITION AND ANTISTATIC CHLORINATED RESIN COMPOSITION COMPRISING SAID ANTISTATIC COMPOSITION AND PROCESS FOR PREPARING THE SAME</title><author>ANDO, SUMIO ; KAGOYAMA, ATSUMU ; MIYAMOTO, YASUMITSU</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO9005171A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; jpn</language><creationdate>1990</creationdate><topic>ADHESIVES</topic><topic>CHEMISTRY</topic><topic>DYES</topic><topic>MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FORELSEWHERE</topic><topic>METALLURGY</topic><topic>MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS</topic><topic>MISCELLANEOUS COMPOSITIONS</topic><topic>NATURAL RESINS</topic><topic>PAINTS</topic><topic>POLISHES</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>ANDO, SUMIO</creatorcontrib><creatorcontrib>KAGOYAMA, ATSUMU</creatorcontrib><creatorcontrib>MIYAMOTO, YASUMITSU</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>ANDO, SUMIO</au><au>KAGOYAMA, ATSUMU</au><au>MIYAMOTO, YASUMITSU</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>ANTISTATIC COMPOSITION AND ANTISTATIC CHLORINATED RESIN COMPOSITION COMPRISING SAID ANTISTATIC COMPOSITION AND PROCESS FOR PREPARING THE SAME</title><date>1990-05-17</date><risdate>1990</risdate><abstract>Préparation antistatique comprenant un sel d'ammonium (a) représenté par la formule générale (I), dans laquelle un élément parmi R1, R2 et R3 est un groupe alkyle comportant de 5 à 24 atomes de carbone et les autres sont chacun un groupe alkyle comportant de 1 à 5 atomes de carbone, R4 est un groupe alkylène comportant de 2 à 4 atomes de carbone, n est un nombre entier compris entre 1 et 15, x est un anion de l'acide chlorhydrique, de l'acide chlorique ou de l'acide perchlorique, et un perchlorate (b) représenté par la formule M(ClO4)m, dans laquelle M est un anion d'un métal appartenant aux groupes 1A et 2A de la table périodique ou un ion ammonium et m vaut 1 ou 2. La présente invention se rapporte également à une préparation comprenant ledit sel d'ammonium (a), ledit perchlorate (b) et du tri-2-éthylhexyl trimellitate (c); à une résine antistatique chlorée contenant ladite préparation antistatique et une résine chlorée; et à un procédé de préparation desdits composés.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record>
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