SEMICONDUCTOR TETRODE

Process and embodiment for production of a semiconductor tetrode. The essence of the process in accordance with the invention lies in that double diffusion or implantation is made into a semiconductor substrate to ensure p-n-p or n-p-n bipolar transistor structure along the surface which contains em...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: ZIMMER, GYOERGY, MOHACSY, TIBOR, SZUHAR, MIHALY
Format: Patent
Sprache:eng
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