FLUID HANDLING SYSTEM AND METHOD IN WHICH DEFECTS DUE TO LIQUID LEFT ON A SUBSTRATE CAN BE REDUCED AND LITHOGRAPHIC APPARATUS COMPRISING THE FLUID HANDLING SYSTEM
A fluid handling structure for an immersion lithographic apparatus, the fluid handling structure configured to confine immersion liquid to a space between a bottom surface of the fluid handling structure and a surface of a substrate and/or a substrate support supporting the substrate, the structure...
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| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; fre |
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| creator | VAN OSCH, Marlies Maria Egidius KISLAYA, Ankur LAU, Yuk Man |
| description | A fluid handling structure for an immersion lithographic apparatus, the fluid handling structure configured to confine immersion liquid to a space between a bottom surface of the fluid handling structure and a surface of a substrate and/or a substrate support supporting the substrate, the structure having: a feature in the bottom surface having a substantially polygonal shape defined by a plurality of sides; an opening configured to supply immersion fluid to the space; an extractor configured to extract immersion fluid from the space; and an immersion fluid recovery arrangement outside the feature and proximate a side of the feature, wherein the immersion fluid recovery arrangement comprises an immersion fluid manipulator configured to form an elongate wiper zone extending at an angle to the side of the feature and an immersion fluid recovery opening for extracting immersion fluid.
Une structure de manipulation de fluide pour un appareil lithographique à immersion, la structure de manipulation de fluide étant conçue pour confiner un liquide d'immersion dans un espace situé entre une surface inférieure de la structure de manipulation de fluide et une surface d'un substrat et/ou d'un support de substrat supportant le substrat, la structure comportant : une caractéristique dans la surface inférieure ayant une forme sensiblement polygonale définie par une pluralité de côtés ; une ouverture conçue pour fournir un fluide d'immersion dans l'espace ; un extracteur conçu pour extraire un fluide d'immersion de l'espace ; et un agencement de récupération de fluide d'immersion situé à l'extérieur de la caractéristique et à proximité d'un côté de la caractéristique, l'agencement de récupération de fluide d'immersion comprenant un manipulateur de fluide d'immersion conçu pour former une zone de racleur allongée qui s'étend à un certain angle par rapport au côté de la caractéristique et une ouverture de récupération de fluide d'immersion servant à extraire un fluide d'immersion. |
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Une structure de manipulation de fluide pour un appareil lithographique à immersion, la structure de manipulation de fluide étant conçue pour confiner un liquide d'immersion dans un espace situé entre une surface inférieure de la structure de manipulation de fluide et une surface d'un substrat et/ou d'un support de substrat supportant le substrat, la structure comportant : une caractéristique dans la surface inférieure ayant une forme sensiblement polygonale définie par une pluralité de côtés ; une ouverture conçue pour fournir un fluide d'immersion dans l'espace ; un extracteur conçu pour extraire un fluide d'immersion de l'espace ; et un agencement de récupération de fluide d'immersion situé à l'extérieur de la caractéristique et à proximité d'un côté de la caractéristique, l'agencement de récupération de fluide d'immersion comprenant un manipulateur de fluide d'immersion conçu pour former une zone de racleur allongée qui s'étend à un certain angle par rapport au côté de la caractéristique et une ouverture de récupération de fluide d'immersion servant à extraire un fluide d'immersion.</description><language>eng ; fre</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CINEMATOGRAPHY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; ORIGINALS THEREFOR ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS</subject><creationdate>2024</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20240829&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2024175287A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25544,76293</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20240829&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2024175287A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>VAN OSCH, Marlies Maria Egidius</creatorcontrib><creatorcontrib>KISLAYA, Ankur</creatorcontrib><creatorcontrib>LAU, Yuk Man</creatorcontrib><title>FLUID HANDLING SYSTEM AND METHOD IN WHICH DEFECTS DUE TO LIQUID LEFT ON A SUBSTRATE CAN BE REDUCED AND LITHOGRAPHIC APPARATUS COMPRISING THE FLUID HANDLING SYSTEM</title><description>A fluid handling structure for an immersion lithographic apparatus, the fluid handling structure configured to confine immersion liquid to a space between a bottom surface of the fluid handling structure and a surface of a substrate and/or a substrate support supporting the substrate, the structure having: a feature in the bottom surface having a substantially polygonal shape defined by a plurality of sides; an opening configured to supply immersion fluid to the space; an extractor configured to extract immersion fluid from the space; and an immersion fluid recovery arrangement outside the feature and proximate a side of the feature, wherein the immersion fluid recovery arrangement comprises an immersion fluid manipulator configured to form an elongate wiper zone extending at an angle to the side of the feature and an immersion fluid recovery opening for extracting immersion fluid.
Une structure de manipulation de fluide pour un appareil lithographique à immersion, la structure de manipulation de fluide étant conçue pour confiner un liquide d'immersion dans un espace situé entre une surface inférieure de la structure de manipulation de fluide et une surface d'un substrat et/ou d'un support de substrat supportant le substrat, la structure comportant : une caractéristique dans la surface inférieure ayant une forme sensiblement polygonale définie par une pluralité de côtés ; une ouverture conçue pour fournir un fluide d'immersion dans l'espace ; un extracteur conçu pour extraire un fluide d'immersion de l'espace ; et un agencement de récupération de fluide d'immersion situé à l'extérieur de la caractéristique et à proximité d'un côté de la caractéristique, l'agencement de récupération de fluide d'immersion comprenant un manipulateur de fluide d'immersion conçu pour former une zone de racleur allongée qui s'étend à un certain angle par rapport au côté de la caractéristique et une ouverture de récupération de fluide d'immersion servant à extraire un fluide d'immersion.</description><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>MATERIALS THEREFOR</subject><subject>ORIGINALS THEREFOR</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</subject><subject>PHYSICS</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2024</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNqNjrEKwjAYhLs4iPoOB86CVkXXNPlrAmlSmz-IUxGJk6igT-STWsXRwek4uPvu-tmztNEoaOGUNW6DsA9MFTqLilh7BeOw00ZqKCpJcoCKBPawZvtuWioZ3kEgxCJwI5gghUNBaEhFSeoDs6aDbRpRdyiIuhZdMAZIX9WNCe9l1oSfZ4ZZ73Q439Poq4NsXBJLPUm3a5vut8MxXdKj3fl8mi9mq2W-XonZ_L_UC4RLRb8</recordid><startdate>20240829</startdate><enddate>20240829</enddate><creator>VAN OSCH, Marlies Maria Egidius</creator><creator>KISLAYA, Ankur</creator><creator>LAU, Yuk Man</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20240829</creationdate><title>FLUID HANDLING SYSTEM AND METHOD IN WHICH DEFECTS DUE TO LIQUID LEFT ON A SUBSTRATE CAN BE REDUCED AND LITHOGRAPHIC APPARATUS COMPRISING THE FLUID HANDLING SYSTEM</title><author>VAN OSCH, Marlies Maria Egidius ; KISLAYA, Ankur ; LAU, Yuk Man</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2024175287A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2024</creationdate><topic>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</topic><topic>CINEMATOGRAPHY</topic><topic>ELECTROGRAPHY</topic><topic>HOLOGRAPHY</topic><topic>MATERIALS THEREFOR</topic><topic>ORIGINALS THEREFOR</topic><topic>PHOTOGRAPHY</topic><topic>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</topic><topic>PHYSICS</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>VAN OSCH, Marlies Maria Egidius</creatorcontrib><creatorcontrib>KISLAYA, Ankur</creatorcontrib><creatorcontrib>LAU, Yuk Man</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>VAN OSCH, Marlies Maria Egidius</au><au>KISLAYA, Ankur</au><au>LAU, Yuk Man</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>FLUID HANDLING SYSTEM AND METHOD IN WHICH DEFECTS DUE TO LIQUID LEFT ON A SUBSTRATE CAN BE REDUCED AND LITHOGRAPHIC APPARATUS COMPRISING THE FLUID HANDLING SYSTEM</title><date>2024-08-29</date><risdate>2024</risdate><abstract>A fluid handling structure for an immersion lithographic apparatus, the fluid handling structure configured to confine immersion liquid to a space between a bottom surface of the fluid handling structure and a surface of a substrate and/or a substrate support supporting the substrate, the structure having: a feature in the bottom surface having a substantially polygonal shape defined by a plurality of sides; an opening configured to supply immersion fluid to the space; an extractor configured to extract immersion fluid from the space; and an immersion fluid recovery arrangement outside the feature and proximate a side of the feature, wherein the immersion fluid recovery arrangement comprises an immersion fluid manipulator configured to form an elongate wiper zone extending at an angle to the side of the feature and an immersion fluid recovery opening for extracting immersion fluid.
Une structure de manipulation de fluide pour un appareil lithographique à immersion, la structure de manipulation de fluide étant conçue pour confiner un liquide d'immersion dans un espace situé entre une surface inférieure de la structure de manipulation de fluide et une surface d'un substrat et/ou d'un support de substrat supportant le substrat, la structure comportant : une caractéristique dans la surface inférieure ayant une forme sensiblement polygonale définie par une pluralité de côtés ; une ouverture conçue pour fournir un fluide d'immersion dans l'espace ; un extracteur conçu pour extraire un fluide d'immersion de l'espace ; et un agencement de récupération de fluide d'immersion situé à l'extérieur de la caractéristique et à proximité d'un côté de la caractéristique, l'agencement de récupération de fluide d'immersion comprenant un manipulateur de fluide d'immersion conçu pour former une zone de racleur allongée qui s'étend à un certain angle par rapport au côté de la caractéristique et une ouverture de récupération de fluide d'immersion servant à extraire un fluide d'immersion.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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