METHOD FOR ESTIMATING EASE OF FINE POWDER OCCURRENCE IN POLYSILICON, ESTIMATION DEVICE, METHOD FOR PRODUCING POLYSILICON, TRAINED MODEL GENERATION DEVICE AND GENERATION METHOD
The ease of occurrence of fine powder in polysilicon is estimated. Provided is a method for estimating the ease of fine powder occurrence in polysilicon that includes an estimation step that estimates the ease of occurrence of fine powder when vibration is applied to a second polysilicon from second...
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| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; fre ; jpn |
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| creator | UESUGI, Shinya YOSHIMURA, Satoko NISHIKAWA, Masayoshi |
| description | The ease of occurrence of fine powder in polysilicon is estimated. Provided is a method for estimating the ease of fine powder occurrence in polysilicon that includes an estimation step that estimates the ease of occurrence of fine powder when vibration is applied to a second polysilicon from second imaging data that include images of the second polysilicon to be estimated, using a first trained model generated using as teaching data determination data on whether the amount of fine powder occurring due to vibration is at or below a first threshold in a first polysilicon to which vibration has been applied under predetermined conditions and first imaging data that include images of the first polysilicon.
L'invention permet d'estimer la facilité d'apparition de poudre fine dans du silicium polycristallin. Elle concerne un procédé pour estimer la facilité d'apparition de poudre fine dans du silicium polycristallin, qui comprend une étape d'estimation consistant à estimer la facilité d'apparition de poudre fine lorsqu'une vibration est appliquée sur un second silicium polycristallin, à partir de secondes données d'imagerie qui comprennent des images du second silicium polycristallin à estimer, à l'aide d'un premier modèle entraîné, généré en utilisant comme données d'apprentissage des données déterminant si la quantité de poudre fine produite en raison d'une vibration est égale ou inférieure à un premier seuil dans un premier silicium polycristallin sur lequel une vibration a été appliquée dans des conditions prédéfinies, et de premières données d'imagerie qui comprennent des images du premier silicium polycristallin.
ポリシリコンにおける微粉の発生のしやすさを推定する。ポリシリコンにおける微粉発生のしやすさの推定方法であって、所定条件の振動が与えられた第１ポリシリコンにおいて、振動による微粉の発生量が所定の第１閾値以下であるか否かの判定データと、第１ポリシリコンの画像を含む第１撮像データと、を教師データとして生成された第１学習済モデルを用いて、推定対象である第２ポリシリコンの画像を含む第２撮像データから、第２ポリシリコンにおける、振動が与えられた際の微粉の発生のしやすさを推定する推定工程を含む。 |
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L'invention permet d'estimer la facilité d'apparition de poudre fine dans du silicium polycristallin. Elle concerne un procédé pour estimer la facilité d'apparition de poudre fine dans du silicium polycristallin, qui comprend une étape d'estimation consistant à estimer la facilité d'apparition de poudre fine lorsqu'une vibration est appliquée sur un second silicium polycristallin, à partir de secondes données d'imagerie qui comprennent des images du second silicium polycristallin à estimer, à l'aide d'un premier modèle entraîné, généré en utilisant comme données d'apprentissage des données déterminant si la quantité de poudre fine produite en raison d'une vibration est égale ou inférieure à un premier seuil dans un premier silicium polycristallin sur lequel une vibration a été appliquée dans des conditions prédéfinies, et de premières données d'imagerie qui comprennent des images du premier silicium polycristallin.
ポリシリコンにおける微粉の発生のしやすさを推定する。ポリシリコンにおける微粉発生のしやすさの推定方法であって、所定条件の振動が与えられた第１ポリシリコンにおいて、振動による微粉の発生量が所定の第１閾値以下であるか否かの判定データと、第１ポリシリコンの画像を含む第１撮像データと、を教師データとして生成された第１学習済モデルを用いて、推定対象である第２ポリシリコンの画像を含む第２撮像データから、第２ポリシリコンにおける、振動が与えられた際の微粉の発生のしやすさを推定する推定工程を含む。</description><language>eng ; fre ; jpn</language><subject>CALCULATING ; CHEMISTRY ; COMPOUNDS THEREOF ; COMPUTING ; COUNTING ; IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL ; INORGANIC CHEMISTRY ; INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES ; MEASURING ; METALLURGY ; NON-METALLIC ELEMENTS ; PHYSICS ; TESTING</subject><creationdate>2024</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20240822&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2024171706A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25563,76418</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20240822&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2024171706A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>UESUGI, Shinya</creatorcontrib><creatorcontrib>YOSHIMURA, Satoko</creatorcontrib><creatorcontrib>NISHIKAWA, Masayoshi</creatorcontrib><title>METHOD FOR ESTIMATING EASE OF FINE POWDER OCCURRENCE IN POLYSILICON, ESTIMATION DEVICE, METHOD FOR PRODUCING POLYSILICON, TRAINED MODEL GENERATION DEVICE AND GENERATION METHOD</title><description>The ease of occurrence of fine powder in polysilicon is estimated. Provided is a method for estimating the ease of fine powder occurrence in polysilicon that includes an estimation step that estimates the ease of occurrence of fine powder when vibration is applied to a second polysilicon from second imaging data that include images of the second polysilicon to be estimated, using a first trained model generated using as teaching data determination data on whether the amount of fine powder occurring due to vibration is at or below a first threshold in a first polysilicon to which vibration has been applied under predetermined conditions and first imaging data that include images of the first polysilicon.
L'invention permet d'estimer la facilité d'apparition de poudre fine dans du silicium polycristallin. Elle concerne un procédé pour estimer la facilité d'apparition de poudre fine dans du silicium polycristallin, qui comprend une étape d'estimation consistant à estimer la facilité d'apparition de poudre fine lorsqu'une vibration est appliquée sur un second silicium polycristallin, à partir de secondes données d'imagerie qui comprennent des images du second silicium polycristallin à estimer, à l'aide d'un premier modèle entraîné, généré en utilisant comme données d'apprentissage des données déterminant si la quantité de poudre fine produite en raison d'une vibration est égale ou inférieure à un premier seuil dans un premier silicium polycristallin sur lequel une vibration a été appliquée dans des conditions prédéfinies, et de premières données d'imagerie qui comprennent des images du premier silicium polycristallin.
ポリシリコンにおける微粉の発生のしやすさを推定する。ポリシリコンにおける微粉発生のしやすさの推定方法であって、所定条件の振動が与えられた第１ポリシリコンにおいて、振動による微粉の発生量が所定の第１閾値以下であるか否かの判定データと、第１ポリシリコンの画像を含む第１撮像データと、を教師データとして生成された第１学習済モデルを用いて、推定対象である第２ポリシリコンの画像を含む第２撮像データから、第２ポリシリコンにおける、振動が与えられた際の微粉の発生のしやすさを推定する推定工程を含む。</description><subject>CALCULATING</subject><subject>CHEMISTRY</subject><subject>COMPOUNDS THEREOF</subject><subject>COMPUTING</subject><subject>COUNTING</subject><subject>IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL</subject><subject>INORGANIC CHEMISTRY</subject><subject>INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES</subject><subject>MEASURING</subject><subject>METALLURGY</subject><subject>NON-METALLIC ELEMENTS</subject><subject>PHYSICS</subject><subject>TESTING</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2024</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNqNzMEKgkAUBVA3LaL6hwdtDdQi18PMUwf0PRnHpJVITKsowf6rX8wownatLlzuPXPvUaDNWEHCBrCyuhBWUwooKgROINGEUHKj0ABLWRuDJBE0jWV-rHSuJZP_fTKBwoOW6MPELQ2rWr7Yn5M1YtQVFKwwhxQJzZQAQWravsGlNzt3l8GtPrnw1glamW1cf2vd0Hcnd3X3tuEoiHZhHMbBXoTb_1ZPpE5Jxw</recordid><startdate>20240822</startdate><enddate>20240822</enddate><creator>UESUGI, Shinya</creator><creator>YOSHIMURA, Satoko</creator><creator>NISHIKAWA, Masayoshi</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20240822</creationdate><title>METHOD FOR ESTIMATING EASE OF FINE POWDER OCCURRENCE IN POLYSILICON, ESTIMATION DEVICE, METHOD FOR PRODUCING POLYSILICON, TRAINED MODEL GENERATION DEVICE AND GENERATION METHOD</title><author>UESUGI, Shinya ; YOSHIMURA, Satoko ; NISHIKAWA, Masayoshi</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2024171706A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre ; jpn</language><creationdate>2024</creationdate><topic>CALCULATING</topic><topic>CHEMISTRY</topic><topic>COMPOUNDS THEREOF</topic><topic>COMPUTING</topic><topic>COUNTING</topic><topic>IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL</topic><topic>INORGANIC CHEMISTRY</topic><topic>INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES</topic><topic>MEASURING</topic><topic>METALLURGY</topic><topic>NON-METALLIC ELEMENTS</topic><topic>PHYSICS</topic><topic>TESTING</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>UESUGI, Shinya</creatorcontrib><creatorcontrib>YOSHIMURA, Satoko</creatorcontrib><creatorcontrib>NISHIKAWA, Masayoshi</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>UESUGI, Shinya</au><au>YOSHIMURA, Satoko</au><au>NISHIKAWA, Masayoshi</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>METHOD FOR ESTIMATING EASE OF FINE POWDER OCCURRENCE IN POLYSILICON, ESTIMATION DEVICE, METHOD FOR PRODUCING POLYSILICON, TRAINED MODEL GENERATION DEVICE AND GENERATION METHOD</title><date>2024-08-22</date><risdate>2024</risdate><abstract>The ease of occurrence of fine powder in polysilicon is estimated. Provided is a method for estimating the ease of fine powder occurrence in polysilicon that includes an estimation step that estimates the ease of occurrence of fine powder when vibration is applied to a second polysilicon from second imaging data that include images of the second polysilicon to be estimated, using a first trained model generated using as teaching data determination data on whether the amount of fine powder occurring due to vibration is at or below a first threshold in a first polysilicon to which vibration has been applied under predetermined conditions and first imaging data that include images of the first polysilicon.
L'invention permet d'estimer la facilité d'apparition de poudre fine dans du silicium polycristallin. Elle concerne un procédé pour estimer la facilité d'apparition de poudre fine dans du silicium polycristallin, qui comprend une étape d'estimation consistant à estimer la facilité d'apparition de poudre fine lorsqu'une vibration est appliquée sur un second silicium polycristallin, à partir de secondes données d'imagerie qui comprennent des images du second silicium polycristallin à estimer, à l'aide d'un premier modèle entraîné, généré en utilisant comme données d'apprentissage des données déterminant si la quantité de poudre fine produite en raison d'une vibration est égale ou inférieure à un premier seuil dans un premier silicium polycristallin sur lequel une vibration a été appliquée dans des conditions prédéfinies, et de premières données d'imagerie qui comprennent des images du premier silicium polycristallin.
ポリシリコンにおける微粉の発生のしやすさを推定する。ポリシリコンにおける微粉発生のしやすさの推定方法であって、所定条件の振動が与えられた第１ポリシリコンにおいて、振動による微粉の発生量が所定の第１閾値以下であるか否かの判定データと、第１ポリシリコンの画像を含む第１撮像データと、を教師データとして生成された第１学習済モデルを用いて、推定対象である第２ポリシリコンの画像を含む第２撮像データから、第２ポリシリコンにおける、振動が与えられた際の微粉の発生のしやすさを推定する推定工程を含む。</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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