MODELING DEFECT PROBABILITY FROM EXPECTED CRITICAL DIMENSIONS TO IMPROVE ACCURACY OF FAILURE RATE PREDICTION
A method of modeling defect probability from critical dimensions of a sample to improve failure rate prediction, and more particularly, a method of modeling defect probability using a sigmoid function to improve failure prediction is disclosed. A sigmoid function may be used to account for a range o...
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| creator | FREEMAN, Jill WANG, Fuming CAO, Yu |
| description | A method of modeling defect probability from critical dimensions of a sample to improve failure rate prediction, and more particularly, a method of modeling defect probability using a sigmoid function to improve failure prediction is disclosed. A sigmoid function may be used to account for a range of critical dimensions that may accurately predict failure in a sample and the formation of defects.
L'invention concerne un procédé de modélisation de probabilité de défaut à partir de dimensions critiques d'un échantillon pour améliorer la prédiction de taux de défaillance, et plus particulièrement, un procédé de modélisation de probabilité de défaut utilisant une fonction sigmoïde pour améliorer la prédiction de défaillance. Une fonction sigmoïde peut être utilisée pour tenir compte d'une plage de dimensions critiques pouvant prédire avec précision une défaillance dans un échantillon et la formation de défauts. |
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L'invention concerne un procédé de modélisation de probabilité de défaut à partir de dimensions critiques d'un échantillon pour améliorer la prédiction de taux de défaillance, et plus particulièrement, un procédé de modélisation de probabilité de défaut utilisant une fonction sigmoïde pour améliorer la prédiction de défaillance. Une fonction sigmoïde peut être utilisée pour tenir compte d'une plage de dimensions critiques pouvant prédire avec précision une défaillance dans un échantillon et la formation de défauts.</description><language>eng ; fre</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CINEMATOGRAPHY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; ORIGINALS THEREFOR ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS</subject><creationdate>2024</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20240802&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2024156485A2$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,777,882,25546,76297</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20240802&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2024156485A2$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>FREEMAN, Jill</creatorcontrib><creatorcontrib>WANG, Fuming</creatorcontrib><creatorcontrib>CAO, Yu</creatorcontrib><title>MODELING DEFECT PROBABILITY FROM EXPECTED CRITICAL DIMENSIONS TO IMPROVE ACCURACY OF FAILURE RATE PREDICTION</title><description>A method of modeling defect probability from critical dimensions of a sample to improve failure rate prediction, and more particularly, a method of modeling defect probability using a sigmoid function to improve failure prediction is disclosed. A sigmoid function may be used to account for a range of critical dimensions that may accurately predict failure in a sample and the formation of defects.
L'invention concerne un procédé de modélisation de probabilité de défaut à partir de dimensions critiques d'un échantillon pour améliorer la prédiction de taux de défaillance, et plus particulièrement, un procédé de modélisation de probabilité de défaut utilisant une fonction sigmoïde pour améliorer la prédiction de défaillance. Une fonction sigmoïde peut être utilisée pour tenir compte d'une plage de dimensions critiques pouvant prédire avec précision une défaillance dans un échantillon et la formation de défauts.</description><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>MATERIALS THEREFOR</subject><subject>ORIGINALS THEREFOR</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</subject><subject>PHYSICS</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2024</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNqNjLEKwjAURbs4iPoPD5wFrW1xTV9e9EHSlDRVO5UicSpaqP-PGfwApwOXc88yGY2VpLk6gyRF6KF2thQla_YdKGcN0L2OO0lAx55RaJBsqGrYVg14C2zi5UogEFsnsAOrQAnWrSNwwlMskmT00V8ni-cwzmHz4yrZKvJ42YXp3Yd5Gh7hFT79zab7NDvkRXbKRXr8z_oC3Sk3vg</recordid><startdate>20240802</startdate><enddate>20240802</enddate><creator>FREEMAN, Jill</creator><creator>WANG, Fuming</creator><creator>CAO, Yu</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20240802</creationdate><title>MODELING DEFECT PROBABILITY FROM EXPECTED CRITICAL DIMENSIONS TO IMPROVE ACCURACY OF FAILURE RATE PREDICTION</title><author>FREEMAN, Jill ; WANG, Fuming ; CAO, Yu</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2024156485A23</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2024</creationdate><topic>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</topic><topic>CINEMATOGRAPHY</topic><topic>ELECTROGRAPHY</topic><topic>HOLOGRAPHY</topic><topic>MATERIALS THEREFOR</topic><topic>ORIGINALS THEREFOR</topic><topic>PHOTOGRAPHY</topic><topic>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</topic><topic>PHYSICS</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>FREEMAN, Jill</creatorcontrib><creatorcontrib>WANG, Fuming</creatorcontrib><creatorcontrib>CAO, Yu</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>FREEMAN, Jill</au><au>WANG, Fuming</au><au>CAO, Yu</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>MODELING DEFECT PROBABILITY FROM EXPECTED CRITICAL DIMENSIONS TO IMPROVE ACCURACY OF FAILURE RATE PREDICTION</title><date>2024-08-02</date><risdate>2024</risdate><abstract>A method of modeling defect probability from critical dimensions of a sample to improve failure rate prediction, and more particularly, a method of modeling defect probability using a sigmoid function to improve failure prediction is disclosed. A sigmoid function may be used to account for a range of critical dimensions that may accurately predict failure in a sample and the formation of defects.
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