LOCALLY SELECTIVE PLASMA REDUCTION
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur ortsselektiven Reduktionsbehandlung eines Werkstücks (80), bei dem eine Oberfläche (82) eines Werkstücks (80) mit einem atmosphärischen Plasmastrahl (12) beaufschlagt wird, wobei der atmosphärische Plasmastrahl (12) unter Verwendung eines reduzierenden Arbeit...
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Hauptverfasser: | , , , , |
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre ; ger |
Schlagworte: | |
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