METHODS OF OPERATING CHEMICAL PROCESSING VESSELS THAT INCLUDE SHROUDS

Chemical processing vessels and methods for their operation are disclosed herein. A chemical processing vessel may be operated by a method including contacting a chemical reactant with a fluidized particulate in the chemical processing vessel to form a chemical product, wherein the fluidized particu...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: PRETZ, Matthew T, PETERSON, John, SHAW, Donald F, SANDOVAL, Fermin Alejandro, MEZA, Albert
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
container_end_page
container_issue
container_start_page
container_title
container_volume
creator PRETZ, Matthew T
PETERSON, John
SHAW, Donald F
SANDOVAL, Fermin Alejandro
MEZA, Albert
description Chemical processing vessels and methods for their operation are disclosed herein. A chemical processing vessel may be operated by a method including contacting a chemical reactant with a fluidized particulate in the chemical processing vessel to form a chemical product, wherein the fluidized particulate and the chemical reactant moves in a generally upward direction through the chemical processing vessel. The chemical processing vessel may include an exterior vessel wall forming a continuous passage extending therethrough, wherein the exterior vessel wall has a wall temperature of less than 350 °C during operation. The exterior vessel wall may include a riser wall having a substantially continuous cross-sectional shape, a frustum wall positioned below the riser wall and having a variable cross-sectional shape extending radially outwardly from the riser wall, and a transition region between the riser wall and the frustum wall. The chemical processing vessel may further include a primary refractory layer disposed on and in direct contact with the inner surface of the exterior vessel wall. The chemical processing vessel may further include a shroud including a first end and a second end opposite the first end, the shroud disposed radially inward of the exterior vessel wall and positioned over at least a portion of the primary refractory layer. The first end of the shroud may be disposed above the transition region and the second end of the shroud may be disposed below the transition region. The shroud may include metal material. Sont divulgués dans la présente invention des récipients de traitement chimique et leurs procédés de fonctionnement. Un récipient de traitement chimique peut être actionné par un procédé comprenant la mise en contact d'un réactif chimique avec une particule fluidisée dans le récipient de traitement chimique afin de former un produit chimique, les particules fluidisées et le réactif chimique se déplaçant dans une direction généralement vers le haut à travers le récipient de traitement chimique. Le récipient de traitement chimique peut comprendre une paroi de récipient extérieure formant un passage continu s'étendant à travers celui-ci, la paroi de récipient extérieure présentant une température de paroi inférieure à 350 °C pendant le fonctionnement. La paroi de récipient extérieure peut comprendre une paroi à colonne montante présentant une forme de section transversale sensiblement continue, une paroi tronconique positionnée au-dessou
format Patent
fullrecord <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_WO2024092196A1</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>WO2024092196A1</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_WO2024092196A13</originalsourceid><addsrcrecordid>eNrjZHD1dQ3x8HcJVvB3U_APcA1yDPH0c1dw9nD19XR29FEICPJ3dg0OBomFAWlXn2CFEA_HEAVPP2efUBdXhWCPIP9Ql2AeBta0xJziVF4ozc2g7OYa4uyhm1qQH59aXJCYnJqXWhIf7m9kYGRiYGlkaGnmaGhMnCoARuYtKQ</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>METHODS OF OPERATING CHEMICAL PROCESSING VESSELS THAT INCLUDE SHROUDS</title><source>esp@cenet</source><creator>PRETZ, Matthew T ; PETERSON, John ; SHAW, Donald F ; SANDOVAL, Fermin Alejandro ; MEZA, Albert</creator><creatorcontrib>PRETZ, Matthew T ; PETERSON, John ; SHAW, Donald F ; SANDOVAL, Fermin Alejandro ; MEZA, Albert</creatorcontrib><description>Chemical processing vessels and methods for their operation are disclosed herein. A chemical processing vessel may be operated by a method including contacting a chemical reactant with a fluidized particulate in the chemical processing vessel to form a chemical product, wherein the fluidized particulate and the chemical reactant moves in a generally upward direction through the chemical processing vessel. The chemical processing vessel may include an exterior vessel wall forming a continuous passage extending therethrough, wherein the exterior vessel wall has a wall temperature of less than 350 °C during operation. The exterior vessel wall may include a riser wall having a substantially continuous cross-sectional shape, a frustum wall positioned below the riser wall and having a variable cross-sectional shape extending radially outwardly from the riser wall, and a transition region between the riser wall and the frustum wall. The chemical processing vessel may further include a primary refractory layer disposed on and in direct contact with the inner surface of the exterior vessel wall. The chemical processing vessel may further include a shroud including a first end and a second end opposite the first end, the shroud disposed radially inward of the exterior vessel wall and positioned over at least a portion of the primary refractory layer. The first end of the shroud may be disposed above the transition region and the second end of the shroud may be disposed below the transition region. The shroud may include metal material. Sont divulgués dans la présente invention des récipients de traitement chimique et leurs procédés de fonctionnement. Un récipient de traitement chimique peut être actionné par un procédé comprenant la mise en contact d'un réactif chimique avec une particule fluidisée dans le récipient de traitement chimique afin de former un produit chimique, les particules fluidisées et le réactif chimique se déplaçant dans une direction généralement vers le haut à travers le récipient de traitement chimique. Le récipient de traitement chimique peut comprendre une paroi de récipient extérieure formant un passage continu s'étendant à travers celui-ci, la paroi de récipient extérieure présentant une température de paroi inférieure à 350 °C pendant le fonctionnement. La paroi de récipient extérieure peut comprendre une paroi à colonne montante présentant une forme de section transversale sensiblement continue, une paroi tronconique positionnée au-dessous de la paroi à colonne montante et présentant une forme de section transversale variable s'étendant radialement vers l'extérieur à partir de la paroi à colonne montante, et une région de transition entre la paroi à colonne montante et la paroi tronconique. Le récipient de traitement chimique peut en outre comprendre une couche réfractaire primaire disposée sur la surface interne de la paroi de récipient extérieure et en contact direct avec celle-ci. Le récipient de traitement chimique peut en outre comprendre un épaulement comprenant une première extrémité et une seconde extrémité opposée à la première extrémité, l'épaulement étant disposé radialement vers l'intérieur de la paroi de récipient extérieure et positionné sur au moins une partie de la couche réfractaire primaire. La première extrémité de l'épaulement peut être disposée au-dessus de la région de transition et la seconde extrémité de l'épaulement peut être disposée au-dessous de la région de transition. L'épaulement peut comprendre un matériau métallique.</description><language>eng ; fre</language><subject>CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOIDCHEMISTRY ; PERFORMING OPERATIONS ; PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL ; THEIR RELEVANT APPARATUS ; TRANSPORTING</subject><creationdate>2024</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20240502&amp;DB=EPODOC&amp;CC=WO&amp;NR=2024092196A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25562,76317</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20240502&amp;DB=EPODOC&amp;CC=WO&amp;NR=2024092196A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>PRETZ, Matthew T</creatorcontrib><creatorcontrib>PETERSON, John</creatorcontrib><creatorcontrib>SHAW, Donald F</creatorcontrib><creatorcontrib>SANDOVAL, Fermin Alejandro</creatorcontrib><creatorcontrib>MEZA, Albert</creatorcontrib><title>METHODS OF OPERATING CHEMICAL PROCESSING VESSELS THAT INCLUDE SHROUDS</title><description>Chemical processing vessels and methods for their operation are disclosed herein. A chemical processing vessel may be operated by a method including contacting a chemical reactant with a fluidized particulate in the chemical processing vessel to form a chemical product, wherein the fluidized particulate and the chemical reactant moves in a generally upward direction through the chemical processing vessel. The chemical processing vessel may include an exterior vessel wall forming a continuous passage extending therethrough, wherein the exterior vessel wall has a wall temperature of less than 350 °C during operation. The exterior vessel wall may include a riser wall having a substantially continuous cross-sectional shape, a frustum wall positioned below the riser wall and having a variable cross-sectional shape extending radially outwardly from the riser wall, and a transition region between the riser wall and the frustum wall. The chemical processing vessel may further include a primary refractory layer disposed on and in direct contact with the inner surface of the exterior vessel wall. The chemical processing vessel may further include a shroud including a first end and a second end opposite the first end, the shroud disposed radially inward of the exterior vessel wall and positioned over at least a portion of the primary refractory layer. The first end of the shroud may be disposed above the transition region and the second end of the shroud may be disposed below the transition region. The shroud may include metal material. Sont divulgués dans la présente invention des récipients de traitement chimique et leurs procédés de fonctionnement. Un récipient de traitement chimique peut être actionné par un procédé comprenant la mise en contact d'un réactif chimique avec une particule fluidisée dans le récipient de traitement chimique afin de former un produit chimique, les particules fluidisées et le réactif chimique se déplaçant dans une direction généralement vers le haut à travers le récipient de traitement chimique. Le récipient de traitement chimique peut comprendre une paroi de récipient extérieure formant un passage continu s'étendant à travers celui-ci, la paroi de récipient extérieure présentant une température de paroi inférieure à 350 °C pendant le fonctionnement. La paroi de récipient extérieure peut comprendre une paroi à colonne montante présentant une forme de section transversale sensiblement continue, une paroi tronconique positionnée au-dessous de la paroi à colonne montante et présentant une forme de section transversale variable s'étendant radialement vers l'extérieur à partir de la paroi à colonne montante, et une région de transition entre la paroi à colonne montante et la paroi tronconique. Le récipient de traitement chimique peut en outre comprendre une couche réfractaire primaire disposée sur la surface interne de la paroi de récipient extérieure et en contact direct avec celle-ci. Le récipient de traitement chimique peut en outre comprendre un épaulement comprenant une première extrémité et une seconde extrémité opposée à la première extrémité, l'épaulement étant disposé radialement vers l'intérieur de la paroi de récipient extérieure et positionné sur au moins une partie de la couche réfractaire primaire. La première extrémité de l'épaulement peut être disposée au-dessus de la région de transition et la seconde extrémité de l'épaulement peut être disposée au-dessous de la région de transition. L'épaulement peut comprendre un matériau métallique.</description><subject>CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOIDCHEMISTRY</subject><subject>PERFORMING OPERATIONS</subject><subject>PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL</subject><subject>THEIR RELEVANT APPARATUS</subject><subject>TRANSPORTING</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2024</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZHD1dQ3x8HcJVvB3U_APcA1yDPH0c1dw9nD19XR29FEICPJ3dg0OBomFAWlXn2CFEA_HEAVPP2efUBdXhWCPIP9Ql2AeBta0xJziVF4ozc2g7OYa4uyhm1qQH59aXJCYnJqXWhIf7m9kYGRiYGlkaGnmaGhMnCoARuYtKQ</recordid><startdate>20240502</startdate><enddate>20240502</enddate><creator>PRETZ, Matthew T</creator><creator>PETERSON, John</creator><creator>SHAW, Donald F</creator><creator>SANDOVAL, Fermin Alejandro</creator><creator>MEZA, Albert</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20240502</creationdate><title>METHODS OF OPERATING CHEMICAL PROCESSING VESSELS THAT INCLUDE SHROUDS</title><author>PRETZ, Matthew T ; PETERSON, John ; SHAW, Donald F ; SANDOVAL, Fermin Alejandro ; MEZA, Albert</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2024092196A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2024</creationdate><topic>CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOIDCHEMISTRY</topic><topic>PERFORMING OPERATIONS</topic><topic>PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL</topic><topic>THEIR RELEVANT APPARATUS</topic><topic>TRANSPORTING</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>PRETZ, Matthew T</creatorcontrib><creatorcontrib>PETERSON, John</creatorcontrib><creatorcontrib>SHAW, Donald F</creatorcontrib><creatorcontrib>SANDOVAL, Fermin Alejandro</creatorcontrib><creatorcontrib>MEZA, Albert</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>PRETZ, Matthew T</au><au>PETERSON, John</au><au>SHAW, Donald F</au><au>SANDOVAL, Fermin Alejandro</au><au>MEZA, Albert</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>METHODS OF OPERATING CHEMICAL PROCESSING VESSELS THAT INCLUDE SHROUDS</title><date>2024-05-02</date><risdate>2024</risdate><abstract>Chemical processing vessels and methods for their operation are disclosed herein. A chemical processing vessel may be operated by a method including contacting a chemical reactant with a fluidized particulate in the chemical processing vessel to form a chemical product, wherein the fluidized particulate and the chemical reactant moves in a generally upward direction through the chemical processing vessel. The chemical processing vessel may include an exterior vessel wall forming a continuous passage extending therethrough, wherein the exterior vessel wall has a wall temperature of less than 350 °C during operation. The exterior vessel wall may include a riser wall having a substantially continuous cross-sectional shape, a frustum wall positioned below the riser wall and having a variable cross-sectional shape extending radially outwardly from the riser wall, and a transition region between the riser wall and the frustum wall. The chemical processing vessel may further include a primary refractory layer disposed on and in direct contact with the inner surface of the exterior vessel wall. The chemical processing vessel may further include a shroud including a first end and a second end opposite the first end, the shroud disposed radially inward of the exterior vessel wall and positioned over at least a portion of the primary refractory layer. The first end of the shroud may be disposed above the transition region and the second end of the shroud may be disposed below the transition region. The shroud may include metal material. Sont divulgués dans la présente invention des récipients de traitement chimique et leurs procédés de fonctionnement. Un récipient de traitement chimique peut être actionné par un procédé comprenant la mise en contact d'un réactif chimique avec une particule fluidisée dans le récipient de traitement chimique afin de former un produit chimique, les particules fluidisées et le réactif chimique se déplaçant dans une direction généralement vers le haut à travers le récipient de traitement chimique. Le récipient de traitement chimique peut comprendre une paroi de récipient extérieure formant un passage continu s'étendant à travers celui-ci, la paroi de récipient extérieure présentant une température de paroi inférieure à 350 °C pendant le fonctionnement. La paroi de récipient extérieure peut comprendre une paroi à colonne montante présentant une forme de section transversale sensiblement continue, une paroi tronconique positionnée au-dessous de la paroi à colonne montante et présentant une forme de section transversale variable s'étendant radialement vers l'extérieur à partir de la paroi à colonne montante, et une région de transition entre la paroi à colonne montante et la paroi tronconique. Le récipient de traitement chimique peut en outre comprendre une couche réfractaire primaire disposée sur la surface interne de la paroi de récipient extérieure et en contact direct avec celle-ci. Le récipient de traitement chimique peut en outre comprendre un épaulement comprenant une première extrémité et une seconde extrémité opposée à la première extrémité, l'épaulement étant disposé radialement vers l'intérieur de la paroi de récipient extérieure et positionné sur au moins une partie de la couche réfractaire primaire. La première extrémité de l'épaulement peut être disposée au-dessus de la région de transition et la seconde extrémité de l'épaulement peut être disposée au-dessous de la région de transition. L'épaulement peut comprendre un matériau métallique.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record>
fulltext fulltext_linktorsrc
identifier
ispartof
issn
language eng ; fre
recordid cdi_epo_espacenet_WO2024092196A1
source esp@cenet
subjects CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOIDCHEMISTRY
PERFORMING OPERATIONS
PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
THEIR RELEVANT APPARATUS
TRANSPORTING
title METHODS OF OPERATING CHEMICAL PROCESSING VESSELS THAT INCLUDE SHROUDS
url https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-01-13T21%3A39%3A58IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=PRETZ,%20Matthew%20T&rft.date=2024-05-02&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EWO2024092196A1%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true