RESIST COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING RESIST FILM, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE

Provided are a resist composition, a method for manufacturing a resist film, and a method for manufacturing a device. L'invention concerne une composition de photorésine, un procédé pour fabriquer un film de photorésine, et un procédé pour fabriquer un dispositif.

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	TAKAICHI, Tetsumasa, YOSHIDA, Yuki
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Provided are a resist composition, a method for manufacturing a resist film, and a method for manufacturing a device. L'invention concerne une composition de photorésine, un procédé pour fabriquer un film de photorésine, et un procédé pour fabriquer un dispositif.