BEAM DIAPHRAGM, EUV LIGHT SOURCE, AND METHOD FOR OPERATING AN EUV LIGHT SOURCE

Die Erfindung betrifft eine Strahlblende (10) mit einer Blendenöffnung (12) zum Durchlassen eines Laserstrahls (14), einer Umlenkeinheit (16) zum Ablenken eines nicht durch die Blendenöffnung (12) durchgelassenen Anteils des Laserstrahls (14), einer Reflexionseinheit (18) zum Reflektieren der abgele...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

1. Verfasser:	PIEHLER, Stefan
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre ; ger
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS DEVICES USING STIMULATED EMISSION ELECTRICITY OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS PHYSICS
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