PHOSPHOR DEVICE

A phosphor device (100) comprises a substrate (110), a phosphor layer (120) that includes a plurality of pores (121), a reflecting layer (130) that is provided between the substrate (110) and the phosphor layer (120), a joining layer (140) that includes a first metal and is provided between the substrate (110) and the reflecting layer (130), and a metal layer (150) that includes a second metal having a higher melting point than the first metal and is provided between the reflecting layer (130) and the joining layer (140). The reflecting layer (130) has a multilayer structure in which a high-refractive-index layer (131) and a low-refractive-index layer (132) having a lower refractive index than the high-refractive-index layer (131) are alternately layered. L'invention concerne un dispositif à luminophore (100) comprenant un substrat (110), une couche de luminophore (120) qui comprend une pluralité de pores (121), une couche réfléchissante (130) qui est disposée entre le substrat (110) et la couche de luminophore (120), une couche de jonction (140) qui comprend un premier métal et est disposée entre le substrat (110) et la couche réfléchissante (130), et une couche métallique (150) qui comprend un second métal ayant un point de fusion supérieur à celui du premier métal et est disposée entre la couche réfléchissante (130) et la couche de jonction (140). La couche réfléchissante (130) a une structure multicouche dans laquelle une couche à indice de réfraction élevé (131) et une couche à faible indice de réfraction (132) ayant un indice de réfraction inférieur à celui de la couche à indice de réfraction élevé (131) sont stratifiées en alternance. 蛍光体デバイス（１００）は、基板（１１０）と、複数の気孔（１２１）を含む蛍光体層（１２０）と、基板（１１０）と蛍光体層（１２０）との間に設けられた反射層（１３０）と、基板（１１０）と反射層（１３０）との間に設けられた、第１金属を含む接合層（１４０）と、反射層（１３０と接合層（１４０）との間に設けられた、第１金属よりも融点が高い第２金属を含む金属層（１５０）と、を備える。反射層（１３０）は、高屈折率層（１３１）と高屈折率層（１３１）より屈折率が低い低屈折率層（１３２）とが交互に積層された多層構造を有する。