PRODUCTION METHOD AND PART

This method for producing a part for a plasma treatment device involves: (A) a step for preparing a core material having a shape which is similar to a final shape of an electrode and which is smaller than the final shape; (B) a step for forming, with a film forming device, a SiC laminate part on the core material; and (C) a step for forming a SiC layer by removing at least part of the SiC laminate part to process same into the final shape. Accordingly, a SiC-containing part for a plasma treatment device can be produced with high accuracy. Selon l'invention, un procédé de production d'une pièce pour un dispositif de traitement au plasma comprend : (A) une étape de préparation d'un matériau de noyau ayant une forme qui est similaire à une forme finale d'une électrode et qui est plus petite que la forme finale ; (B) une étape de formation, avec un dispositif de formation de film, d'une pièce de stratifié de SiC sur le matériau de noyau ; et (C) une étape de formation d'une couche de SiC par retrait d'au moins une partie de la pièce de stratifié de SiC pour lui donner la forme finale. Par conséquent, une pièce contenant du SiC pour un dispositif de traitement au plasma peut être produite avec une précision élevée. プラズマ処理装置用の部品の製造方法は、（Ａ）前記電極の最終形状に相似し、かつ前記最終形状よりも小さな形状の心材を準備する工程と、（Ｂ）成膜装置により前記心材にＳｉＣ積層部を形成する工程と、（Ｃ）少なくとも前記ＳｉＣ積層部の一部を除去することにより、ＳｉＣ層を形成して前記最終形状に加工する工程と、を有する。これにより、ＳｉＣを有するプラズマ処理装置用の部品を精度よく製造することができる。