HIGH PRESSURE MICROWAVE PLASMA REACTORS
A variety of microwave-based plasma reactors are presented which are intended for operation at high pressures, from 0.1 to 10 bar, and a high flow rate. Further, reactors can operate without the presence of a dielectric material, which can degrade in time requiring replacement and causing downtime f...
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| creator | OWEN, Jorj Ian WHITLOW, Jonathan TRAN, Kim-Chinh BROMBERG, Leslie |
| description | A variety of microwave-based plasma reactors are presented which are intended for operation at high pressures, from 0.1 to 10 bar, and a high flow rate. Further, reactors can operate without the presence of a dielectric material, which can degrade in time requiring replacement and causing downtime for the unit. Applications for these devices include heating, reforming, and pyrolyzing the reactants.
Divers réacteurs à plasma à base de micro-ondes sont présentés, lesquels sont destinés à fonctionner à des pressions élevées, de 0,1 à 10 bars, et à un débit élevé. En outre, des réacteurs peuvent fonctionner sans la présence d'un matériau diélectrique, ce qui peut se dégrader dans le temps nécessitant un remplacement et provoquer un temps d'arrêt pour l'unité. Les applications de ces dispositifs comprennent le chauffage, le reformage et la pyrolyse des réactifs. |
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Divers réacteurs à plasma à base de micro-ondes sont présentés, lesquels sont destinés à fonctionner à des pressions élevées, de 0,1 à 10 bars, et à un débit élevé. En outre, des réacteurs peuvent fonctionner sans la présence d'un matériau diélectrique, ce qui peut se dégrader dans le temps nécessitant un remplacement et provoquer un temps d'arrêt pour l'unité. Les applications de ces dispositifs comprennent le chauffage, le reformage et la pyrolyse des réactifs.</description><language>eng ; fre</language><subject>CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOIDCHEMISTRY ; CHEMISTRY ; COMPOUNDS THEREOF ; INORGANIC CHEMISTRY ; METALLURGY ; NON-METALLIC ELEMENTS ; PERFORMING OPERATIONS ; PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL ; THEIR RELEVANT APPARATUS ; TRANSPORTING</subject><creationdate>2024</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20240118&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2024015294A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76547</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20240118&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2024015294A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>OWEN, Jorj Ian</creatorcontrib><creatorcontrib>WHITLOW, Jonathan</creatorcontrib><creatorcontrib>TRAN, Kim-Chinh</creatorcontrib><creatorcontrib>BROMBERG, Leslie</creatorcontrib><title>HIGH PRESSURE MICROWAVE PLASMA REACTORS</title><description>A variety of microwave-based plasma reactors are presented which are intended for operation at high pressures, from 0.1 to 10 bar, and a high flow rate. Further, reactors can operate without the presence of a dielectric material, which can degrade in time requiring replacement and causing downtime for the unit. Applications for these devices include heating, reforming, and pyrolyzing the reactants.
Divers réacteurs à plasma à base de micro-ondes sont présentés, lesquels sont destinés à fonctionner à des pressions élevées, de 0,1 à 10 bars, et à un débit élevé. En outre, des réacteurs peuvent fonctionner sans la présence d'un matériau diélectrique, ce qui peut se dégrader dans le temps nécessitant un remplacement et provoquer un temps d'arrêt pour l'unité. Les applications de ces dispositifs comprennent le chauffage, le reformage et la pyrolyse des réactifs.</description><subject>CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOIDCHEMISTRY</subject><subject>CHEMISTRY</subject><subject>COMPOUNDS THEREOF</subject><subject>INORGANIC CHEMISTRY</subject><subject>METALLURGY</subject><subject>NON-METALLIC ELEMENTS</subject><subject>PERFORMING OPERATIONS</subject><subject>PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL</subject><subject>THEIR RELEVANT APPARATUS</subject><subject>TRANSPORTING</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2024</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZFD38HT3UAgIcg0ODg1yVfD1dA7yD3cMc1UI8HEM9nVUCHJ1dA7xDwrmYWBNS8wpTuWF0twMym6uIc4euqkF-fGpxQWJyal5qSXx4f5GBkYmBoamRpYmjobGxKkCAIRKJN8</recordid><startdate>20240118</startdate><enddate>20240118</enddate><creator>OWEN, Jorj Ian</creator><creator>WHITLOW, Jonathan</creator><creator>TRAN, Kim-Chinh</creator><creator>BROMBERG, Leslie</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20240118</creationdate><title>HIGH PRESSURE MICROWAVE PLASMA REACTORS</title><author>OWEN, Jorj Ian ; WHITLOW, Jonathan ; TRAN, Kim-Chinh ; BROMBERG, Leslie</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2024015294A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2024</creationdate><topic>CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOIDCHEMISTRY</topic><topic>CHEMISTRY</topic><topic>COMPOUNDS THEREOF</topic><topic>INORGANIC CHEMISTRY</topic><topic>METALLURGY</topic><topic>NON-METALLIC ELEMENTS</topic><topic>PERFORMING OPERATIONS</topic><topic>PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL</topic><topic>THEIR RELEVANT APPARATUS</topic><topic>TRANSPORTING</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>OWEN, Jorj Ian</creatorcontrib><creatorcontrib>WHITLOW, Jonathan</creatorcontrib><creatorcontrib>TRAN, Kim-Chinh</creatorcontrib><creatorcontrib>BROMBERG, Leslie</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>OWEN, Jorj Ian</au><au>WHITLOW, Jonathan</au><au>TRAN, Kim-Chinh</au><au>BROMBERG, Leslie</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>HIGH PRESSURE MICROWAVE PLASMA REACTORS</title><date>2024-01-18</date><risdate>2024</risdate><abstract>A variety of microwave-based plasma reactors are presented which are intended for operation at high pressures, from 0.1 to 10 bar, and a high flow rate. Further, reactors can operate without the presence of a dielectric material, which can degrade in time requiring replacement and causing downtime for the unit. Applications for these devices include heating, reforming, and pyrolyzing the reactants.
Divers réacteurs à plasma à base de micro-ondes sont présentés, lesquels sont destinés à fonctionner à des pressions élevées, de 0,1 à 10 bars, et à un débit élevé. En outre, des réacteurs peuvent fonctionner sans la présence d'un matériau diélectrique, ce qui peut se dégrader dans le temps nécessitant un remplacement et provoquer un temps d'arrêt pour l'unité. Les applications de ces dispositifs comprennent le chauffage, le reformage et la pyrolyse des réactifs.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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