LENS ELEMENT FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS DESIGNED FOR OPERATION IN THE DUV, AND METHOD AND ARRANGEMENT FOR FORMING AN ANTIREFLECTION LAYER

Die Erfindung betrifft eine Linse für eine zum Betrieb im DUV ausgelegte mikrolitho- graphische Projektionsbelichtungsanlage, sowie ein Verfahren und eine Anordnung zum Ausbilden einer Antireflexschicht. Gemäß einem Aspekt ist bei einer erfindungs- gemäßen Linse (100) auf einem Linsensubstrat eine A...

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	SIX, Stephan
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre ; ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY CINEMATOGRAPHY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL MATERIALS THEREFOR METALLURGY OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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