GAS-BARRIER LAMINATE, PACKAGING FILM, PACKAGING CONTAINER, AND PACKAGED PRODUCT

A gas-barrier laminate according to the present invention comprises a substrate layer that contains a thermoplastic resin, a deposition layer, and a gas-barrier coating layer in this order. In a surface of the gas-barrier coating layer, the ratio (Si/C) between silicon atoms and carbon atoms is 0.25-0.90, and the half width of a peak that appears in the region of a binding energy of 100-107 eV in a narrow spectrum of an Si2p track is not more than 1.85 eV, when a quantitative elemental analysis is carried out with respect to the surface of the gas-barrier coating layer by X-ray photoelectron spectroscopy. Un stratifié barrière aux gaz selon la présente invention comprend une couche de substrat qui contient une résine thermoplastique, une couche de dépôt et une couche de revêtement barrière aux gaz dans cet ordre. Dans une surface de la couche de revêtement barrière aux gaz, le rapport (Si/C) entre les atomes de silicium et les atomes de carbone est de 0,25 à 0,90, et la demi-largeur d'un pic qui apparaît dans la région d'une énergie de liaison de 100 à 107 eV dans un spectre étroit d'une piste Si2p n'est pas supérieure à 1,85 eV, lorsqu'une analyse élémentaire quantitative est effectuée par rapport à la surface de la couche de revêtement barrière aux gaz par spectroscopie photoélectronique à rayons X. ガスバリア性積層体は、熱可塑性樹脂を含む基材層と、蒸着層と、ガスバリア性被覆層と、をこの順に備える。ガスバリア性被覆層の表面においては、Ｘ線光電子分光法によりガスバリア性被覆層の表面の元素定量分析を行う場合に、ケイ素原子と炭素原子の比（Ｓｉ／Ｃ）が０．２５～０．９０であり、かつ、Ｓｉ２ｐ軌道のナロースペクトルにおいて１００～１０７ｅＶの結合エネルギーの領域に現れるピークの半値幅が１．８５ｅＶ以下である。