HIGH REFRACTIVE INDEX PHOTORESIN FOR 3D PRINTING

Modem two-photon lithography (TPL) technologies provide convenient methods for 3D printing of sub- micron-sized features in photopolymers. The ability to tune optical properties of the resin material used for TPL is highly desired as it expands the capabilities of 3D printing. Methods of simultaneou...

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Hauptverfasser: BLANCHE, Pierre, KETCHUM, Remington, ALCARAZ, Pedro
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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creator BLANCHE, Pierre
KETCHUM, Remington
ALCARAZ, Pedro
description Modem two-photon lithography (TPL) technologies provide convenient methods for 3D printing of sub- micron-sized features in photopolymers. The ability to tune optical properties of the resin material used for TPL is highly desired as it expands the capabilities of 3D printing. Methods of simultaneous synthesizing and functionalizing of metal oxide nanoparticles are shown to be used to modify off-the-shelf commercial resins design to produce a derivative resin-based product with tunable refractive index exceeding that of any conventional commercially-available unmodified resin. Des technologies de lithographie à deux photons (TPL) de Modem fournissent des procédés pratiques pour l'impression 3D de caractéristiques de taille submicronique dans des photopolymères. La capacité d'accorder les propriétés optiques du matériau de résine utilisé pour le TPL est hautement souhaitée car elle étend les capacités d'impression 3D. Des procédés de synthèse et de fonctionnalisation simultanées de nanoparticules d'oxyde métallique sont présentés pour être utilisés pour modifier la conception de résines commerciales hors du commerce pour produire un produit à base de résine dérivée avec un indice de réfraction accordable dépassant celui de n'importe quelle résine non modifiée disponible dans le commerce classique.
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The ability to tune optical properties of the resin material used for TPL is highly desired as it expands the capabilities of 3D printing. Methods of simultaneous synthesizing and functionalizing of metal oxide nanoparticles are shown to be used to modify off-the-shelf commercial resins design to produce a derivative resin-based product with tunable refractive index exceeding that of any conventional commercially-available unmodified resin. Des technologies de lithographie à deux photons (TPL) de Modem fournissent des procédés pratiques pour l'impression 3D de caractéristiques de taille submicronique dans des photopolymères. La capacité d'accorder les propriétés optiques du matériau de résine utilisé pour le TPL est hautement souhaitée car elle étend les capacités d'impression 3D. Des procédés de synthèse et de fonctionnalisation simultanées de nanoparticules d'oxyde métallique sont présentés pour être utilisés pour modifier la conception de résines commerciales hors du commerce pour produire un produit à base de résine dérivée avec un indice de réfraction accordable dépassant celui de n'importe quelle résine non modifiée disponible dans le commerce classique.</description><language>eng ; fre</language><subject>ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY ; ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OFTHREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVEAGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING,STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING ; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CASTING ; CINEMATOGRAPHY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MAKING METALLIC POWDER ; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER ; MATERIALS THEREFOR ; ORIGINALS THEREFOR ; PERFORMING OPERATIONS ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS ; POWDER METALLURGY ; TRANSPORTING ; WORKING METALLIC POWDER</subject><creationdate>2023</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20231130&amp;DB=EPODOC&amp;CC=WO&amp;NR=2023229853A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,778,883,25551,76304</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20231130&amp;DB=EPODOC&amp;CC=WO&amp;NR=2023229853A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>BLANCHE, Pierre</creatorcontrib><creatorcontrib>KETCHUM, Remington</creatorcontrib><creatorcontrib>ALCARAZ, Pedro</creatorcontrib><title>HIGH REFRACTIVE INDEX PHOTORESIN FOR 3D PRINTING</title><description>Modem two-photon lithography (TPL) technologies provide convenient methods for 3D printing of sub- micron-sized features in photopolymers. 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Des procédés de synthèse et de fonctionnalisation simultanées de nanoparticules d'oxyde métallique sont présentés pour être utilisés pour modifier la conception de résines commerciales hors du commerce pour produire un produit à base de résine dérivée avec un indice de réfraction accordable dépassant celui de n'importe quelle résine non modifiée disponible dans le commerce classique.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record>
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