ILLUMINATION SYSTEM, PROJECTION ILLUMINATION FACILITY AND PROJECTION ILLUMINATION METHOD

Ein Beleuchtungssystem (ILL) für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage zur Beleuchtung eines in Bereich einer Objektebene (OS) eines nachgeschalteten Projektionsobjektivs (PO) angeordneten Musters mit aus Licht einer primären Lichtquelle (LS) erzeugtem Beleuchtungslicht ist als Doppelf...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	BEDER, Susanne, BIELING, Stig, SCHWAB, Markus
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre ; ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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