HEATER SYSTEM FOR GAS PROCESSING COMPONENTS

A heater system for semiconductor processing includes a base, a plurality of gas processing components, and a heater. The plurality of gas processing components are secured to the base. The heater is disposed along a length of the base and between the base and the plurality of gas processing compone...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	COLHOUR, Terry, ELLIS, Eric
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY SEMICONDUCTOR DEVICES
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Beschreibung
Zusammenfassung:	A heater system for semiconductor processing includes a base, a plurality of gas processing components, and a heater. The plurality of gas processing components are secured to the base. The heater is disposed along a length of the base and between the base and the plurality of gas processing components. The heater is configured to provide heat to the plurality of gas processing components. Un système de chauffage pour le traitement de semi-conducteurs comprend une base, une pluralité de composants de traitement de gaz et un dispositif de chauffage. La pluralité de composants de traitement de gaz est fixée à la base. Le dispositif de chauffage est disposé sur une longueur de la base et entre la base et la pluralité de composants de traitement de gaz. Le dispositif de chauffage est conçu pour fournir de la chaleur à la pluralité de composants de traitement de gaz.