BIASABLE ROTATING PEDESTAL

Embodiments disclosed herein include an electrostatic chuck. In an embodiment, the electrostatic chuck comprises a pedestal with a support surface for supporting a substrate and a second surface opposite from the support surface, and chucking electrode within the pedestal. In an embodiment, a biasing electrode is within the pedestal, and a heating element is within the pedestal. In an embodiment, the electrostatic chuck further comprises a shaft coupled to the second surface of the pedestal, and a rotation assembly coupled to the shaft to rotate the shaft and the pedestal. Des modes de réalisation de la présente invention comprennent un mandrin électrostatique. Dans un mode de réalisation, le mandrin électrostatique comprend un socle avec une surface de support pour supporter un substrat et une seconde surface opposée à la surface de support, et une électrode de serrage à l'intérieur du socle. Dans un mode de réalisation, une électrode de polarisation se trouve à l'intérieur du socle, et un élément chauffant se trouve à l'intérieur du socle. Dans un mode de réalisation, le mandrin électrostatique comprend en outre un arbre accouplé à la seconde surface du socle, et un ensemble de rotation accouplé à l'arbre pour faire tourner l'arbre et le socle.