ELECTROSTATIC CHUCK MEMBER, ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTROSTATIC CHUCK MEMBER
This electrostatic chuck member comprises: a dielectric substrate that is provided with a placement surface on which a sample is placed, the direction orthogonal to the placement surface being the thickness direction; and an adsorption electrode embedded inside the dielectric substrate. Inside the d...
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Format: | Patent |
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creator | OTSUKA Takeshi INUI Satoyoshi ICHIYOSHI Taku |
description | This electrostatic chuck member comprises: a dielectric substrate that is provided with a placement surface on which a sample is placed, the direction orthogonal to the placement surface being the thickness direction; and an adsorption electrode embedded inside the dielectric substrate. Inside the dielectric substrate, a gas flow path extending along the planar direction of the placement surface is provided. The inner surface of the gas flow path is provided with a bottom surface facing the same direction as the placement surface, a top surface opposite the bottom surface, and a pair of side surfaces connecting the bottom surface and the top surface. At least one of the pair of side surfaces is inclined with respect to the thickness direction.
La présente invention concerne un élément de mandrin électrostatique qui comprend : un substrat diélectrique pourvu d'une surface de placement sur laquelle un échantillon est placé, la direction orthogonale à la surface de placement étant la direction de l'épaisseur ; et une électrode d'adsorption intégrée à l'intérieur du substrat diélectrique. À l'intérieur du substrat diélectrique, un trajet d'écoulement de gaz s'étend le long de la direction plane de la surface de placement. La surface interne du trajet d'écoulement de gaz est pourvue d'une surface inférieure orientée dans la même direction que la surface de placement, d'une surface supérieure opposée à la surface inférieure et d'une paire de surfaces latérales reliant la surface inférieure et la surface supérieure. Au moins l'une de la paire de surfaces latérales est inclinée par rapport à la direction de l'épaisseur.
試料を搭載する載置面が設けられ載置面に直交する方向を厚さ方向とする誘電体基板と、誘電体基板の内部に埋め込まれる吸着電極と、を備え、誘電体基板の内部には、載置面の平面方向に沿って延びるガス流路が設けられ、ガス流路の内側面は、載置面と同方向を向く底面部と、底面部に対向する天面部と、底面部と天面部とを繋ぐ一対の側面部と、を有し、一対の側面部の少なくとも一方は、厚さ方向に対して傾斜する、静電チャック部材。 |
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La présente invention concerne un élément de mandrin électrostatique qui comprend : un substrat diélectrique pourvu d'une surface de placement sur laquelle un échantillon est placé, la direction orthogonale à la surface de placement étant la direction de l'épaisseur ; et une électrode d'adsorption intégrée à l'intérieur du substrat diélectrique. À l'intérieur du substrat diélectrique, un trajet d'écoulement de gaz s'étend le long de la direction plane de la surface de placement. La surface interne du trajet d'écoulement de gaz est pourvue d'une surface inférieure orientée dans la même direction que la surface de placement, d'une surface supérieure opposée à la surface inférieure et d'une paire de surfaces latérales reliant la surface inférieure et la surface supérieure. Au moins l'une de la paire de surfaces latérales est inclinée par rapport à la direction de l'épaisseur.
試料を搭載する載置面が設けられ載置面に直交する方向を厚さ方向とする誘電体基板と、誘電体基板の内部に埋め込まれる吸着電極と、を備え、誘電体基板の内部には、載置面の平面方向に沿って延びるガス流路が設けられ、ガス流路の内側面は、載置面と同方向を向く底面部と、底面部に対向する天面部と、底面部と天面部とを繋ぐ一対の側面部と、を有し、一対の側面部の少なくとも一方は、厚さ方向に対して傾斜する、静電チャック部材。</description><language>eng ; fre ; jpn</language><subject>ARTIFICIAL STONE ; BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; CEMENTS ; CERAMICS ; CHEMISTRY ; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDINGMATERIALS ; CONCRETE ; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER ; ELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRICITY ; GENERATION ; LIME, MAGNESIA ; METALLURGY ; REFRACTORIES ; SEMICONDUCTOR DEVICES ; SLAG ; TREATMENT OF NATURAL STONE</subject><creationdate>2023</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20230629&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2023120254A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25542,76289</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20230629&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2023120254A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>OTSUKA Takeshi</creatorcontrib><creatorcontrib>INUI Satoyoshi</creatorcontrib><creatorcontrib>ICHIYOSHI Taku</creatorcontrib><title>ELECTROSTATIC CHUCK MEMBER, ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTROSTATIC CHUCK MEMBER</title><description>This electrostatic chuck member comprises: a dielectric substrate that is provided with a placement surface on which a sample is placed, the direction orthogonal to the placement surface being the thickness direction; and an adsorption electrode embedded inside the dielectric substrate. Inside the dielectric substrate, a gas flow path extending along the planar direction of the placement surface is provided. The inner surface of the gas flow path is provided with a bottom surface facing the same direction as the placement surface, a top surface opposite the bottom surface, and a pair of side surfaces connecting the bottom surface and the top surface. At least one of the pair of side surfaces is inclined with respect to the thickness direction.
La présente invention concerne un élément de mandrin électrostatique qui comprend : un substrat diélectrique pourvu d'une surface de placement sur laquelle un échantillon est placé, la direction orthogonale à la surface de placement étant la direction de l'épaisseur ; et une électrode d'adsorption intégrée à l'intérieur du substrat diélectrique. À l'intérieur du substrat diélectrique, un trajet d'écoulement de gaz s'étend le long de la direction plane de la surface de placement. La surface interne du trajet d'écoulement de gaz est pourvue d'une surface inférieure orientée dans la même direction que la surface de placement, d'une surface supérieure opposée à la surface inférieure et d'une paire de surfaces latérales reliant la surface inférieure et la surface supérieure. Au moins l'une de la paire de surfaces latérales est inclinée par rapport à la direction de l'épaisseur.
試料を搭載する載置面が設けられ載置面に直交する方向を厚さ方向とする誘電体基板と、誘電体基板の内部に埋め込まれる吸着電極と、を備え、誘電体基板の内部には、載置面の平面方向に沿って延びるガス流路が設けられ、ガス流路の内側面は、載置面と同方向を向く底面部と、底面部に対向する天面部と、底面部と天面部とを繋ぐ一対の側面部と、を有し、一対の側面部の少なくとも一方は、厚さ方向に対して傾斜する、静電チャック部材。</description><subject>ARTIFICIAL STONE</subject><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</subject><subject>CEMENTS</subject><subject>CERAMICS</subject><subject>CHEMISTRY</subject><subject>COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDINGMATERIALS</subject><subject>CONCRETE</subject><subject>CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER</subject><subject>ELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</subject><subject>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>GENERATION</subject><subject>LIME, MAGNESIA</subject><subject>METALLURGY</subject><subject>REFRACTORIES</subject><subject>SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><subject>SLAG</subject><subject>TREATMENT OF NATURAL STONE</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2023</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZMh39XF1DgnyDw5xDPF0VnD2CHX2VvB19XVyDdJRwCbn4hrm6eyqo-Do5wJUF-Lh76Lg5h-k4OvoF-rm6BwSGuTp566A21AeBta0xJziVF4ozc2g7OYa4uyhm1qQH59aXJCYnJqXWhIf7m9kYGRsCCRMTRwNjYlTBQBp4ThD</recordid><startdate>20230629</startdate><enddate>20230629</enddate><creator>OTSUKA Takeshi</creator><creator>INUI Satoyoshi</creator><creator>ICHIYOSHI Taku</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20230629</creationdate><title>ELECTROSTATIC CHUCK MEMBER, ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTROSTATIC CHUCK MEMBER</title><author>OTSUKA Takeshi ; INUI Satoyoshi ; ICHIYOSHI Taku</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2023120254A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre ; jpn</language><creationdate>2023</creationdate><topic>ARTIFICIAL STONE</topic><topic>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</topic><topic>CEMENTS</topic><topic>CERAMICS</topic><topic>CHEMISTRY</topic><topic>COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDINGMATERIALS</topic><topic>CONCRETE</topic><topic>CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER</topic><topic>ELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</topic><topic>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>GENERATION</topic><topic>LIME, MAGNESIA</topic><topic>METALLURGY</topic><topic>REFRACTORIES</topic><topic>SEMICONDUCTOR DEVICES</topic><topic>SLAG</topic><topic>TREATMENT OF NATURAL STONE</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>OTSUKA Takeshi</creatorcontrib><creatorcontrib>INUI Satoyoshi</creatorcontrib><creatorcontrib>ICHIYOSHI Taku</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>OTSUKA Takeshi</au><au>INUI Satoyoshi</au><au>ICHIYOSHI Taku</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>ELECTROSTATIC CHUCK MEMBER, ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTROSTATIC CHUCK MEMBER</title><date>2023-06-29</date><risdate>2023</risdate><abstract>This electrostatic chuck member comprises: a dielectric substrate that is provided with a placement surface on which a sample is placed, the direction orthogonal to the placement surface being the thickness direction; and an adsorption electrode embedded inside the dielectric substrate. Inside the dielectric substrate, a gas flow path extending along the planar direction of the placement surface is provided. The inner surface of the gas flow path is provided with a bottom surface facing the same direction as the placement surface, a top surface opposite the bottom surface, and a pair of side surfaces connecting the bottom surface and the top surface. At least one of the pair of side surfaces is inclined with respect to the thickness direction.
La présente invention concerne un élément de mandrin électrostatique qui comprend : un substrat diélectrique pourvu d'une surface de placement sur laquelle un échantillon est placé, la direction orthogonale à la surface de placement étant la direction de l'épaisseur ; et une électrode d'adsorption intégrée à l'intérieur du substrat diélectrique. À l'intérieur du substrat diélectrique, un trajet d'écoulement de gaz s'étend le long de la direction plane de la surface de placement. La surface interne du trajet d'écoulement de gaz est pourvue d'une surface inférieure orientée dans la même direction que la surface de placement, d'une surface supérieure opposée à la surface inférieure et d'une paire de surfaces latérales reliant la surface inférieure et la surface supérieure. Au moins l'une de la paire de surfaces latérales est inclinée par rapport à la direction de l'épaisseur.
試料を搭載する載置面が設けられ載置面に直交する方向を厚さ方向とする誘電体基板と、誘電体基板の内部に埋め込まれる吸着電極と、を備え、誘電体基板の内部には、載置面の平面方向に沿って延びるガス流路が設けられ、ガス流路の内側面は、載置面と同方向を向く底面部と、底面部に対向する天面部と、底面部と天面部とを繋ぐ一対の側面部と、を有し、一対の側面部の少なくとも一方は、厚さ方向に対して傾斜する、静電チャック部材。</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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