METHODS OF DETERMINING ABERRATIONS OF A CHARGED PARTICLE BEAM, AND CHARGED PARTICLE BEAM SYSTEM

METHODS OF DETERMINING ABERRATIONS OF A CHARGED PARTICLE BEAM, AND CHARGED PARTICLE BEAM SYSTEM

A method of determining aberrations of a charged particle beam (11) focused by a focusing lens (120) toward a sample (10) in a charged particle beam system is described. The method includes: (a) taking one or more images of the sample at one or more defocus settings to provide one or more taken imag...

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Hauptverfasser: EHBERGER, Dominik, FIRNKES, Matthias, BREUER, John
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
Schlagworte:
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
ELECTRICITY
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creator EHBERGER, Dominik
FIRNKES, Matthias
BREUER, John
description A method of determining aberrations of a charged particle beam (11) focused by a focusing lens (120) toward a sample (10) in a charged particle beam system is described. The method includes: (a) taking one or more images of the sample at one or more defocus settings to provide one or more taken images (h1...N); (b) simulating one or more images of the sample taken at the one or more defocus settings based on a set of beam aberration coefficients (iC) and a focus image of the sample to provide one or more simulated images; (c) comparing the one or more taken images and the one or more simulated images for determining a magnitude (Ri) of a difference therebetween; and (d) varying the set of beam aberration coefficients (*C) to provide an updated set of beam aberration coefficients (i+1C) and repeating (b) and (c) using the updated set of beam aberration coefficients (i+1C) in an iterative process for minimizing said magnitude (Ri). Alternatively, in (b), one or more beam cross sections may be simulated, and, in (c) the simulated beam cross sections may be compared with one or more retrieved beam cross sections retrieved from the one or more taken images for determining a magnitude (Ri) of a difference therebetween. Further, a charged particle beam system for imaging and/or inspecting a sample that is configured for any of such methods is provided. L'invention concerne un procédé de détermination d'aberrations d'un faisceau de particules chargées (11) focalisé par une lentille de focalisation (120) vers un échantillon (10) dans un système à faisceau de particules chargées. Le procédé comprend les opérations consistant : (A) prendre une ou plusieurs images de l'échantillon à un ou plusieurs réglages de défocalisation pour fournir une ou plusieurs images prises (h1...N) ; (b) simuler une ou plusieurs images de l'échantillon prises au niveau du ou des réglages de défocalisation sur la base d'un ensemble de coefficients d'aberration de faisceau (iC) et une image de mise au point de l'échantillon pour fournir une ou plusieurs images simulées ; (c) comparer la ou les images prises et la ou les images simulées pour déterminer une ampleur (Ri) d'une différence entre celles-ci ; et (d) faire varier l'ensemble de coefficients d'aberration de faisceau (*c) pour fournir un ensemble mis à jour de coefficients d'aberration de faisceau (i+1C) et répéter (b) et (c) à l'aide de l'ensemble mis à jour de coefficients d'aberration de faisceau (i+1C) dans un procédé itératif pour
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The method includes: (a) taking one or more images of the sample at one or more defocus settings to provide one or more taken images (h1...N); (b) simulating one or more images of the sample taken at the one or more defocus settings based on a set of beam aberration coefficients (iC) and a focus image of the sample to provide one or more simulated images; (c) comparing the one or more taken images and the one or more simulated images for determining a magnitude (Ri) of a difference therebetween; and (d) varying the set of beam aberration coefficients (*C) to provide an updated set of beam aberration coefficients (i+1C) and repeating (b) and (c) using the updated set of beam aberration coefficients (i+1C) in an iterative process for minimizing said magnitude (Ri). Alternatively, in (b), one or more beam cross sections may be simulated, and, in (c) the simulated beam cross sections may be compared with one or more retrieved beam cross sections retrieved from the one or more taken images for determining a magnitude (Ri) of a difference therebetween. Further, a charged particle beam system for imaging and/or inspecting a sample that is configured for any of such methods is provided. L'invention concerne un procédé de détermination d'aberrations d'un faisceau de particules chargées (11) focalisé par une lentille de focalisation (120) vers un échantillon (10) dans un système à faisceau de particules chargées. Le procédé comprend les opérations consistant : (A) prendre une ou plusieurs images de l'échantillon à un ou plusieurs réglages de défocalisation pour fournir une ou plusieurs images prises (h1...N) ; (b) simuler une ou plusieurs images de l'échantillon prises au niveau du ou des réglages de défocalisation sur la base d'un ensemble de coefficients d'aberration de faisceau (iC) et une image de mise au point de l'échantillon pour fournir une ou plusieurs images simulées ; (c) comparer la ou les images prises et la ou les images simulées pour déterminer une ampleur (Ri) d'une différence entre celles-ci ; et (d) faire varier l'ensemble de coefficients d'aberration de faisceau (*c) pour fournir un ensemble mis à jour de coefficients d'aberration de faisceau (i+1C) et répéter (b) et (c) à l'aide de l'ensemble mis à jour de coefficients d'aberration de faisceau (i+1C) dans un procédé itératif pour minimiser ladite amplitude (Ri). En variante, dans (b), une ou plusieurs sections transversales de faisceau peuvent être simulées, et, dans (c), les sections transversales de faisceau simulées peuvent être comparées à une ou plusieurs sections transversales de faisceau récupérées récupérées à partir de la ou des images prises pour déterminer une ampleur (Ri) d'une différence entre celles-ci. En outre, l'invention concerne un système de faisceau de particules chargées pour l'imagerie et/ou l'inspection d'un échantillon qui est conçu pour l'un quelconque de ces procédés.</description><language>eng ; fre</language><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ; ELECTRICITY</subject><creationdate>2023</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20230420&amp;DB=EPODOC&amp;CC=WO&amp;NR=2023061651A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76419</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20230420&amp;DB=EPODOC&amp;CC=WO&amp;NR=2023061651A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>EHBERGER, Dominik</creatorcontrib><creatorcontrib>FIRNKES, Matthias</creatorcontrib><creatorcontrib>BREUER, John</creatorcontrib><title>METHODS OF DETERMINING ABERRATIONS OF A CHARGED PARTICLE BEAM, AND CHARGED PARTICLE BEAM SYSTEM</title><description>A method of determining aberrations of a charged particle beam (11) focused by a focusing lens (120) toward a sample (10) in a charged particle beam system is described. 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Alternatively, in (b), one or more beam cross sections may be simulated, and, in (c) the simulated beam cross sections may be compared with one or more retrieved beam cross sections retrieved from the one or more taken images for determining a magnitude (Ri) of a difference therebetween. Further, a charged particle beam system for imaging and/or inspecting a sample that is configured for any of such methods is provided. L'invention concerne un procédé de détermination d'aberrations d'un faisceau de particules chargées (11) focalisé par une lentille de focalisation (120) vers un échantillon (10) dans un système à faisceau de particules chargées. 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En variante, dans (b), une ou plusieurs sections transversales de faisceau peuvent être simulées, et, dans (c), les sections transversales de faisceau simulées peuvent être comparées à une ou plusieurs sections transversales de faisceau récupérées récupérées à partir de la ou des images prises pour déterminer une ampleur (Ri) d'une différence entre celles-ci. 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The method includes: (a) taking one or more images of the sample at one or more defocus settings to provide one or more taken images (h1...N); (b) simulating one or more images of the sample taken at the one or more defocus settings based on a set of beam aberration coefficients (iC) and a focus image of the sample to provide one or more simulated images; (c) comparing the one or more taken images and the one or more simulated images for determining a magnitude (Ri) of a difference therebetween; and (d) varying the set of beam aberration coefficients (*C) to provide an updated set of beam aberration coefficients (i+1C) and repeating (b) and (c) using the updated set of beam aberration coefficients (i+1C) in an iterative process for minimizing said magnitude (Ri). 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Le procédé comprend les opérations consistant : (A) prendre une ou plusieurs images de l'échantillon à un ou plusieurs réglages de défocalisation pour fournir une ou plusieurs images prises (h1...N) ; (b) simuler une ou plusieurs images de l'échantillon prises au niveau du ou des réglages de défocalisation sur la base d'un ensemble de coefficients d'aberration de faisceau (iC) et une image de mise au point de l'échantillon pour fournir une ou plusieurs images simulées ; (c) comparer la ou les images prises et la ou les images simulées pour déterminer une ampleur (Ri) d'une différence entre celles-ci ; et (d) faire varier l'ensemble de coefficients d'aberration de faisceau (*c) pour fournir un ensemble mis à jour de coefficients d'aberration de faisceau (i+1C) et répéter (b) et (c) à l'aide de l'ensemble mis à jour de coefficients d'aberration de faisceau (i+1C) dans un procédé itératif pour minimiser ladite amplitude (Ri). 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