CHLORINATED VINYL CHLORIDE-BASED RESIN, RESIN COMPOSITION FOR MOLDING, AND MOLDED ARTICLE

The present invention provides a chlorinated vinyl chloride-based resin, a resin composition for molding, and a molded article, which are capable of suppressing reduction in shock resistance and suppressing changes in thickness when contact is made with an acidic liquid at high temperature and high...

Ausführliche Beschreibung

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Hauptverfasser: SAWAI, Takuya, MURAKAMI, Kento, ARAI, Yoshito
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; jpn
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creator SAWAI, Takuya
MURAKAMI, Kento
ARAI, Yoshito
description The present invention provides a chlorinated vinyl chloride-based resin, a resin composition for molding, and a molded article, which are capable of suppressing reduction in shock resistance and suppressing changes in thickness when contact is made with an acidic liquid at high temperature and high pressure. The chlorinated vinyl chloride-based resin according to the present invention exhibits, when being subjected to high performance liquid chromatography measurement, a ratio (A/B) of 2.61-4.50 between a symmetry factor A of a peak observed in a retention time range of 2-4 minutes and a symmetry factor B of a peak observed in a retention time range of 10-18 minutes. La présente invention concerne une résine chlorée à base de chlorure de vinyle, une composition de résine pour moulage, et un article moulé, qui sont capables de supprimer la réduction de la résistance aux chocs et de supprimer des changements d'épaisseur lorsqu'un contact est réalisé avec un liquide acide à haute température et haute pression. La résine chlorée à base de chlorure de vinyle selon la présente invention présente, lorsqu'elle est soumise à une mesure de chromatographie liquide à haute performance, un rapport (A/B) de 2,61-4,50 entre un facteur de symétrie A d'un pic observé dans une plage de temps de rétention de 2 à 4 minutes et un facteur de symétrie B d'un pic observé dans une plage de temps de rétention de 10 à 18 minutes. 本発明は、高温高圧にて酸性液体と接触する場合における厚みの変化、耐衝撃性の低下を抑制することが可能な塩素化塩化ビニル系樹脂、成形用樹脂組成物及び成形体を提供する。 本発明は、高速液体クロマトグラフィー測定において、リテンションタイムが10~18分の範囲に観測されるピークのシンメトリ係数Bに対する、リテンションタイムが2~4分の範囲に観測されるピークのシンメトリ係数Aの比(A/B)が2.61以上4.50以下である、塩素化塩化ビニル系樹脂である。
format Patent
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The chlorinated vinyl chloride-based resin according to the present invention exhibits, when being subjected to high performance liquid chromatography measurement, a ratio (A/B) of 2.61-4.50 between a symmetry factor A of a peak observed in a retention time range of 2-4 minutes and a symmetry factor B of a peak observed in a retention time range of 10-18 minutes. La présente invention concerne une résine chlorée à base de chlorure de vinyle, une composition de résine pour moulage, et un article moulé, qui sont capables de supprimer la réduction de la résistance aux chocs et de supprimer des changements d'épaisseur lorsqu'un contact est réalisé avec un liquide acide à haute température et haute pression. La résine chlorée à base de chlorure de vinyle selon la présente invention présente, lorsqu'elle est soumise à une mesure de chromatographie liquide à haute performance, un rapport (A/B) de 2,61-4,50 entre un facteur de symétrie A d'un pic observé dans une plage de temps de rétention de 2 à 4 minutes et un facteur de symétrie B d'un pic observé dans une plage de temps de rétention de 10 à 18 minutes. 本発明は、高温高圧にて酸性液体と接触する場合における厚みの変化、耐衝撃性の低下を抑制することが可能な塩素化塩化ビニル系樹脂、成形用樹脂組成物及び成形体を提供する。 本発明は、高速液体クロマトグラフィー測定において、リテンションタイムが10~18分の範囲に観測されるピークのシンメトリ係数Bに対する、リテンションタイムが2~4分の範囲に観測されるピークのシンメトリ係数Aの比(A/B)が2.61以上4.50以下である、塩素化塩化ビニル系樹脂である。</description><language>eng ; fre ; jpn</language><subject>CHEMISTRY ; COMPOSITIONS BASED THEREON ; COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS ; MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVINGCARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS ; METALLURGY ; ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS ; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP</subject><creationdate>2023</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20230330&amp;DB=EPODOC&amp;CC=WO&amp;NR=2023048245A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76547</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20230330&amp;DB=EPODOC&amp;CC=WO&amp;NR=2023048245A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>SAWAI, Takuya</creatorcontrib><creatorcontrib>MURAKAMI, Kento</creatorcontrib><creatorcontrib>ARAI, Yoshito</creatorcontrib><title>CHLORINATED VINYL CHLORIDE-BASED RESIN, RESIN COMPOSITION FOR MOLDING, AND MOLDED ARTICLE</title><description>The present invention provides a chlorinated vinyl chloride-based resin, a resin composition for molding, and a molded article, which are capable of suppressing reduction in shock resistance and suppressing changes in thickness when contact is made with an acidic liquid at high temperature and high pressure. 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La résine chlorée à base de chlorure de vinyle selon la présente invention présente, lorsqu'elle est soumise à une mesure de chromatographie liquide à haute performance, un rapport (A/B) de 2,61-4,50 entre un facteur de symétrie A d'un pic observé dans une plage de temps de rétention de 2 à 4 minutes et un facteur de symétrie B d'un pic observé dans une plage de temps de rétention de 10 à 18 minutes. 本発明は、高温高圧にて酸性液体と接触する場合における厚みの変化、耐衝撃性の低下を抑制することが可能な塩素化塩化ビニル系樹脂、成形用樹脂組成物及び成形体を提供する。 本発明は、高速液体クロマトグラフィー測定において、リテンションタイムが10~18分の範囲に観測されるピークのシンメトリ係数Bに対する、リテンションタイムが2~4分の範囲に観測されるピークのシンメトリ係数Aの比(A/B)が2.61以上4.50以下である、塩素化塩化ビニル系樹脂である。</description><subject>CHEMISTRY</subject><subject>COMPOSITIONS BASED THEREON</subject><subject>COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS</subject><subject>MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVINGCARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS</subject><subject>METALLURGY</subject><subject>ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS</subject><subject>THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2023</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZIh09vDxD_L0cwxxdVEI8_SL9FGAiLi46jo5BgMFg1yDPf10IJSCs79vgH-wZ4inv5-Cm3-Qgq-_j4unn7uOgqOfC5gD1OAYFOLp7OPKw8CalphTnMoLpbkZlN1cQ5w9dFML8uNTiwsSk1PzUkviw_2NDIyMDUwsjExMHQ2NiVMFANFnMiw</recordid><startdate>20230330</startdate><enddate>20230330</enddate><creator>SAWAI, Takuya</creator><creator>MURAKAMI, Kento</creator><creator>ARAI, Yoshito</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20230330</creationdate><title>CHLORINATED VINYL CHLORIDE-BASED RESIN, RESIN COMPOSITION FOR MOLDING, AND MOLDED ARTICLE</title><author>SAWAI, Takuya ; MURAKAMI, Kento ; ARAI, Yoshito</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2023048245A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre ; jpn</language><creationdate>2023</creationdate><topic>CHEMISTRY</topic><topic>COMPOSITIONS BASED THEREON</topic><topic>COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS</topic><topic>MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVINGCARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS</topic><topic>METALLURGY</topic><topic>ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS</topic><topic>THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>SAWAI, Takuya</creatorcontrib><creatorcontrib>MURAKAMI, Kento</creatorcontrib><creatorcontrib>ARAI, Yoshito</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>SAWAI, Takuya</au><au>MURAKAMI, Kento</au><au>ARAI, Yoshito</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>CHLORINATED VINYL CHLORIDE-BASED RESIN, RESIN COMPOSITION FOR MOLDING, AND MOLDED ARTICLE</title><date>2023-03-30</date><risdate>2023</risdate><abstract>The present invention provides a chlorinated vinyl chloride-based resin, a resin composition for molding, and a molded article, which are capable of suppressing reduction in shock resistance and suppressing changes in thickness when contact is made with an acidic liquid at high temperature and high pressure. The chlorinated vinyl chloride-based resin according to the present invention exhibits, when being subjected to high performance liquid chromatography measurement, a ratio (A/B) of 2.61-4.50 between a symmetry factor A of a peak observed in a retention time range of 2-4 minutes and a symmetry factor B of a peak observed in a retention time range of 10-18 minutes. La présente invention concerne une résine chlorée à base de chlorure de vinyle, une composition de résine pour moulage, et un article moulé, qui sont capables de supprimer la réduction de la résistance aux chocs et de supprimer des changements d'épaisseur lorsqu'un contact est réalisé avec un liquide acide à haute température et haute pression. La résine chlorée à base de chlorure de vinyle selon la présente invention présente, lorsqu'elle est soumise à une mesure de chromatographie liquide à haute performance, un rapport (A/B) de 2,61-4,50 entre un facteur de symétrie A d'un pic observé dans une plage de temps de rétention de 2 à 4 minutes et un facteur de symétrie B d'un pic observé dans une plage de temps de rétention de 10 à 18 minutes. 本発明は、高温高圧にて酸性液体と接触する場合における厚みの変化、耐衝撃性の低下を抑制することが可能な塩素化塩化ビニル系樹脂、成形用樹脂組成物及び成形体を提供する。 本発明は、高速液体クロマトグラフィー測定において、リテンションタイムが10~18分の範囲に観測されるピークのシンメトリ係数Bに対する、リテンションタイムが2~4分の範囲に観測されるピークのシンメトリ係数Aの比(A/B)が2.61以上4.50以下である、塩素化塩化ビニル系樹脂である。</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record>
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