COMPOUND OR TAUTOMER THEREOF, COMPOSITION, LAYERED PRODUCT, OPTICAL FILM, IMAGE-FORMING MATERIAL, AND METHOD FOR PRODUCING COMPOUND OR TAUTOMER THEREOF

A compound represented by formula (1) or a tautomer thereof; a composition; a layered product; an optical film; an image-forming material; and a method for producing the compound or tautomer thereof. [In formula (1), R1 to R4 are each a hydrogen atom, etc., R20 is a group represented by formula (2), etc., A is an aromatic hydrocarbon group, etc., B is a cationic aromatic hydrocarbon group, etc., and * is a bonding site, with the proviso that any compounds meeting [a] or [b] and the tautomers of these are excluded. [a]: A is a group represented by formula (P), R20 is a hydrogen atom, * is a bonding site, R1 and R3 are the same, and R2 and R4 are the same. [b]: A is a group represented by formula (P), R20 is a group represented by formula (2), * is a bonding site, B is a group represented by formula (Q), R1 and R3 are the same, and R2 and R4 are the same.] L'invention concerne un composé représenté par la formule (1) ou un tautomère correspondant ; une composition ; un produit stratifié ; un film optique ; un matériau de formation d'image ; et un procédé de production du composé ou du tautomère correspondant. [Dans la formule (1), R1 à R4 représentent chacun un atome d'hydrogène, etc., R20 représente un groupe représenté par la formule (2), etc., A est un groupe hydrocarbure aromatique, etc., B est un groupe hydrocarbure aromatique cationique, etc. et * est un site de liaison, à condition que n'importe quels composés répondant à [a] ou [b] et les tautomères de ceux-ci soient exclus. [a] : A est un groupe représenté par la formule (P), R20 représente un atome d'hydrogène, * est un site de liaison, R1 et R3 sont identiques et R2 et R4 sont identiques. [b] : A est un groupe représenté par la formule (P), R20 est un groupe représenté par la formule (2), * est un site de liaison, B est un groupe représenté par la formule (Q), R1 et R3 sont identiques et R2 et R4 sont identiques.] 式（１）で表される化合物又はその互変異性体、組成物、積層体、光学フィルム、画像形成材料、及び、化合物又はその互変異性体の製造方法〔Ｒ１～Ｒ４：水素原子等、Ｒ２０：式（２）で表される基等、Ａ：芳香族炭化水素基等、Ｂ：カチオン性芳香族炭化水素基等、＊：結合位置。但し、［ａ］に該当する化合物及び［ｂ］に該当する化合物、並びに、これらの互変異性体を除く。［ａ］Ａ：式（Ｐ）で表される基、Ｒ２０：水素原子、＊：結合位置、Ｒ１とＲ３が同一、Ｒ２とＲ４が同一。［ｂ］Ａ：式（Ｐ）で表される基、Ｒ２０：式（２）で表される基、＊：結合位置、Ｂ：式（Ｑ）で表される基、Ｒ１とＲ３が同一、Ｒ２とＲ４が同一。〕。