RESIN MEMBRANE FILTER AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIN MEMBRANE FILTER

The purpose of the present invention is to provide: a resin membrane filter having exceptional separation precision, toughness, and filtration speed; and a method for manufacturing the resin membrane filter. This resin membrane filter has a first main surface and a second main surface, and also has...

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1. Verfasser: YONEZAWA Hiroyuki
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; jpn
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creator YONEZAWA Hiroyuki
description The purpose of the present invention is to provide: a resin membrane filter having exceptional separation precision, toughness, and filtration speed; and a method for manufacturing the resin membrane filter. This resin membrane filter has a first main surface and a second main surface, and also has a plurality of through-holes. The resin membrane filter is a single membrane; the relationship Sva/Svb < 0.80 is satisfied in the through-holes, where Sva is the average area of openings at a position A located at a distance of 10% of the thickness of the resin membrane filter from the first main surface, and Svb is the average area of openings at a position B located at a distance of 90% of the thickness of the resin membrane filter from the first main surface; and the quantity ratio Ra of through-holes for which the area of the openings at the position A is greater than 1.2 times the value of Sva is 3.0% or less. L'objectif de la présente invention est de fournir : un filtre à membrane en résine ayant une précision de séparation exceptionnelle, une ténacité, et une vitesse de filtration exceptionnelles ; et un procédé de fabrication du filtre à membrane en résine. Ce filtre à membrane en résine a une première surface principale et une seconde surface principale, et comporte également une pluralité de trous traversants. Le filtre à membrane en résine est une membrane unique ; la relation Sva/Svb < 0,80 est satisfaite dans les trous traversants, où Sva est la zone moyenne d'ouvertures à une position A située à une distance de 10 % de l'épaisseur du filtre à membrane de résine à partir de la première surface principale, et Svb est la zone moyenne d'ouvertures à une position B située à une distance de 90 % de l'épaisseur du filtre à membrane de résine à partir de la première surface principale ; et le rapport de quantité Ra de trous traversants pour lesquels la surface des ouvertures à la position a est supérieure à 1,2 fois la valeur de Sva est inférieure ou égale à 3,0 %. 本発明は、分離精度、強靭性、及び、ろ過速度に優れる樹脂膜フィルタ、並びに、上記樹脂膜フィルタの製造方法を提供することを課題とする。 本発明の樹脂フィルタは、第1主面と第2主面とを有し、かつ、貫通孔を複数有する樹脂膜フィルタであって、樹脂膜フィルタが単膜であり、貫通孔において、第1主面から樹脂膜フィルタの厚みの10%の距離にある位置Aにおける開口部の平均面積をSva、第1主面から樹脂膜フィルタの厚みの90%の距離にある位置Bにおける開口部の平均面積をSvbとしたとき、Sva/Svb<0.80であり、位置Aにおける開口部の面積がSvaの1.2倍よりも大きい貫通孔の個数比Raが3.0%以下である。
format Patent
fullrecord <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_WO2023002841A1</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>WO2023002841A1</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_WO2023002841A13</originalsourceid><addsrcrecordid>eNrjZPAIcg329FPwdfV1CnL0c1Vw8_QJcQ1ScPRzAYqFePi7KLj5Byn4OvqFujk6h4QGefq5K2DVwsPAmpaYU5zKC6W5GZTdXEOcPXRTC_LjU4sLEpNT81JL4sP9jQyMjA0MjCxMDB0NjYlTBQCmxC2W</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>RESIN MEMBRANE FILTER AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIN MEMBRANE FILTER</title><source>esp@cenet</source><creator>YONEZAWA Hiroyuki</creator><creatorcontrib>YONEZAWA Hiroyuki</creatorcontrib><description>The purpose of the present invention is to provide: a resin membrane filter having exceptional separation precision, toughness, and filtration speed; and a method for manufacturing the resin membrane filter. This resin membrane filter has a first main surface and a second main surface, and also has a plurality of through-holes. The resin membrane filter is a single membrane; the relationship Sva/Svb &lt; 0.80 is satisfied in the through-holes, where Sva is the average area of openings at a position A located at a distance of 10% of the thickness of the resin membrane filter from the first main surface, and Svb is the average area of openings at a position B located at a distance of 90% of the thickness of the resin membrane filter from the first main surface; and the quantity ratio Ra of through-holes for which the area of the openings at the position A is greater than 1.2 times the value of Sva is 3.0% or less. L'objectif de la présente invention est de fournir : un filtre à membrane en résine ayant une précision de séparation exceptionnelle, une ténacité, et une vitesse de filtration exceptionnelles ; et un procédé de fabrication du filtre à membrane en résine. Ce filtre à membrane en résine a une première surface principale et une seconde surface principale, et comporte également une pluralité de trous traversants. Le filtre à membrane en résine est une membrane unique ; la relation Sva/Svb &lt; 0,80 est satisfaite dans les trous traversants, où Sva est la zone moyenne d'ouvertures à une position A située à une distance de 10 % de l'épaisseur du filtre à membrane de résine à partir de la première surface principale, et Svb est la zone moyenne d'ouvertures à une position B située à une distance de 90 % de l'épaisseur du filtre à membrane de résine à partir de la première surface principale ; et le rapport de quantité Ra de trous traversants pour lesquels la surface des ouvertures à la position a est supérieure à 1,2 fois la valeur de Sva est inférieure ou égale à 3,0 %. 本発明は、分離精度、強靭性、及び、ろ過速度に優れる樹脂膜フィルタ、並びに、上記樹脂膜フィルタの製造方法を提供することを課題とする。 本発明の樹脂フィルタは、第1主面と第2主面とを有し、かつ、貫通孔を複数有する樹脂膜フィルタであって、樹脂膜フィルタが単膜であり、貫通孔において、第1主面から樹脂膜フィルタの厚みの10%の距離にある位置Aにおける開口部の平均面積をSva、第1主面から樹脂膜フィルタの厚みの90%の距離にある位置Bにおける開口部の平均面積をSvbとしたとき、Sva/Svb<0.80であり、位置Aにおける開口部の面積がSvaの1.2倍よりも大きい貫通孔の個数比Raが3.0%以下である。</description><language>eng ; fre ; jpn</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CINEMATOGRAPHY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; ORIGINALS THEREFOR ; PERFORMING OPERATIONS ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL ; PHYSICS ; SEPARATION ; TRANSPORTING</subject><creationdate>2023</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20230126&amp;DB=EPODOC&amp;CC=WO&amp;NR=2023002841A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,309,781,886,25569,76552</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20230126&amp;DB=EPODOC&amp;CC=WO&amp;NR=2023002841A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>YONEZAWA Hiroyuki</creatorcontrib><title>RESIN MEMBRANE FILTER AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIN MEMBRANE FILTER</title><description>The purpose of the present invention is to provide: a resin membrane filter having exceptional separation precision, toughness, and filtration speed; and a method for manufacturing the resin membrane filter. This resin membrane filter has a first main surface and a second main surface, and also has a plurality of through-holes. The resin membrane filter is a single membrane; the relationship Sva/Svb &lt; 0.80 is satisfied in the through-holes, where Sva is the average area of openings at a position A located at a distance of 10% of the thickness of the resin membrane filter from the first main surface, and Svb is the average area of openings at a position B located at a distance of 90% of the thickness of the resin membrane filter from the first main surface; and the quantity ratio Ra of through-holes for which the area of the openings at the position A is greater than 1.2 times the value of Sva is 3.0% or less. L'objectif de la présente invention est de fournir : un filtre à membrane en résine ayant une précision de séparation exceptionnelle, une ténacité, et une vitesse de filtration exceptionnelles ; et un procédé de fabrication du filtre à membrane en résine. Ce filtre à membrane en résine a une première surface principale et une seconde surface principale, et comporte également une pluralité de trous traversants. Le filtre à membrane en résine est une membrane unique ; la relation Sva/Svb &lt; 0,80 est satisfaite dans les trous traversants, où Sva est la zone moyenne d'ouvertures à une position A située à une distance de 10 % de l'épaisseur du filtre à membrane de résine à partir de la première surface principale, et Svb est la zone moyenne d'ouvertures à une position B située à une distance de 90 % de l'épaisseur du filtre à membrane de résine à partir de la première surface principale ; et le rapport de quantité Ra de trous traversants pour lesquels la surface des ouvertures à la position a est supérieure à 1,2 fois la valeur de Sva est inférieure ou égale à 3,0 %. 本発明は、分離精度、強靭性、及び、ろ過速度に優れる樹脂膜フィルタ、並びに、上記樹脂膜フィルタの製造方法を提供することを課題とする。 本発明の樹脂フィルタは、第1主面と第2主面とを有し、かつ、貫通孔を複数有する樹脂膜フィルタであって、樹脂膜フィルタが単膜であり、貫通孔において、第1主面から樹脂膜フィルタの厚みの10%の距離にある位置Aにおける開口部の平均面積をSva、第1主面から樹脂膜フィルタの厚みの90%の距離にある位置Bにおける開口部の平均面積をSvbとしたとき、Sva/Svb<0.80であり、位置Aにおける開口部の面積がSvaの1.2倍よりも大きい貫通孔の個数比Raが3.0%以下である。</description><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>MATERIALS THEREFOR</subject><subject>ORIGINALS THEREFOR</subject><subject>PERFORMING OPERATIONS</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</subject><subject>PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL</subject><subject>PHYSICS</subject><subject>SEPARATION</subject><subject>TRANSPORTING</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2023</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZPAIcg329FPwdfV1CnL0c1Vw8_QJcQ1ScPRzAYqFePi7KLj5Byn4OvqFujk6h4QGefq5K2DVwsPAmpaYU5zKC6W5GZTdXEOcPXRTC_LjU4sLEpNT81JL4sP9jQyMjA0MjCxMDB0NjYlTBQCmxC2W</recordid><startdate>20230126</startdate><enddate>20230126</enddate><creator>YONEZAWA Hiroyuki</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20230126</creationdate><title>RESIN MEMBRANE FILTER AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIN MEMBRANE FILTER</title><author>YONEZAWA Hiroyuki</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2023002841A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre ; jpn</language><creationdate>2023</creationdate><topic>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</topic><topic>CINEMATOGRAPHY</topic><topic>ELECTROGRAPHY</topic><topic>HOLOGRAPHY</topic><topic>MATERIALS THEREFOR</topic><topic>ORIGINALS THEREFOR</topic><topic>PERFORMING OPERATIONS</topic><topic>PHOTOGRAPHY</topic><topic>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</topic><topic>PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL</topic><topic>PHYSICS</topic><topic>SEPARATION</topic><topic>TRANSPORTING</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>YONEZAWA Hiroyuki</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>YONEZAWA Hiroyuki</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>RESIN MEMBRANE FILTER AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIN MEMBRANE FILTER</title><date>2023-01-26</date><risdate>2023</risdate><abstract>The purpose of the present invention is to provide: a resin membrane filter having exceptional separation precision, toughness, and filtration speed; and a method for manufacturing the resin membrane filter. This resin membrane filter has a first main surface and a second main surface, and also has a plurality of through-holes. The resin membrane filter is a single membrane; the relationship Sva/Svb &lt; 0.80 is satisfied in the through-holes, where Sva is the average area of openings at a position A located at a distance of 10% of the thickness of the resin membrane filter from the first main surface, and Svb is the average area of openings at a position B located at a distance of 90% of the thickness of the resin membrane filter from the first main surface; and the quantity ratio Ra of through-holes for which the area of the openings at the position A is greater than 1.2 times the value of Sva is 3.0% or less. L'objectif de la présente invention est de fournir : un filtre à membrane en résine ayant une précision de séparation exceptionnelle, une ténacité, et une vitesse de filtration exceptionnelles ; et un procédé de fabrication du filtre à membrane en résine. Ce filtre à membrane en résine a une première surface principale et une seconde surface principale, et comporte également une pluralité de trous traversants. Le filtre à membrane en résine est une membrane unique ; la relation Sva/Svb &lt; 0,80 est satisfaite dans les trous traversants, où Sva est la zone moyenne d'ouvertures à une position A située à une distance de 10 % de l'épaisseur du filtre à membrane de résine à partir de la première surface principale, et Svb est la zone moyenne d'ouvertures à une position B située à une distance de 90 % de l'épaisseur du filtre à membrane de résine à partir de la première surface principale ; et le rapport de quantité Ra de trous traversants pour lesquels la surface des ouvertures à la position a est supérieure à 1,2 fois la valeur de Sva est inférieure ou égale à 3,0 %. 本発明は、分離精度、強靭性、及び、ろ過速度に優れる樹脂膜フィルタ、並びに、上記樹脂膜フィルタの製造方法を提供することを課題とする。 本発明の樹脂フィルタは、第1主面と第2主面とを有し、かつ、貫通孔を複数有する樹脂膜フィルタであって、樹脂膜フィルタが単膜であり、貫通孔において、第1主面から樹脂膜フィルタの厚みの10%の距離にある位置Aにおける開口部の平均面積をSva、第1主面から樹脂膜フィルタの厚みの90%の距離にある位置Bにおける開口部の平均面積をSvbとしたとき、Sva/Svb<0.80であり、位置Aにおける開口部の面積がSvaの1.2倍よりも大きい貫通孔の個数比Raが3.0%以下である。</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record>
fulltext fulltext_linktorsrc
identifier
ispartof
issn
language eng ; fre ; jpn
recordid cdi_epo_espacenet_WO2023002841A1
source esp@cenet
subjects APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CINEMATOGRAPHY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
ORIGINALS THEREFOR
PERFORMING OPERATIONS
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
PHYSICS
SEPARATION
TRANSPORTING
title RESIN MEMBRANE FILTER AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIN MEMBRANE FILTER
url https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2024-12-15T20%3A05%3A50IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=YONEZAWA%20Hiroyuki&rft.date=2023-01-26&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EWO2023002841A1%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true