RESIN MEMBRANE FILTER AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIN MEMBRANE FILTER
The purpose of the present invention is to provide: a resin membrane filter having exceptional separation precision, toughness, and filtration speed; and a method for manufacturing the resin membrane filter. This resin membrane filter has a first main surface and a second main surface, and also has...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre ; jpn |
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creator | YONEZAWA Hiroyuki |
description | The purpose of the present invention is to provide: a resin membrane filter having exceptional separation precision, toughness, and filtration speed; and a method for manufacturing the resin membrane filter. This resin membrane filter has a first main surface and a second main surface, and also has a plurality of through-holes. The resin membrane filter is a single membrane; the relationship Sva/Svb < 0.80 is satisfied in the through-holes, where Sva is the average area of openings at a position A located at a distance of 10% of the thickness of the resin membrane filter from the first main surface, and Svb is the average area of openings at a position B located at a distance of 90% of the thickness of the resin membrane filter from the first main surface; and the quantity ratio Ra of through-holes for which the area of the openings at the position A is greater than 1.2 times the value of Sva is 3.0% or less.
L'objectif de la présente invention est de fournir : un filtre à membrane en résine ayant une précision de séparation exceptionnelle, une ténacité, et une vitesse de filtration exceptionnelles ; et un procédé de fabrication du filtre à membrane en résine. Ce filtre à membrane en résine a une première surface principale et une seconde surface principale, et comporte également une pluralité de trous traversants. Le filtre à membrane en résine est une membrane unique ; la relation Sva/Svb < 0,80 est satisfaite dans les trous traversants, où Sva est la zone moyenne d'ouvertures à une position A située à une distance de 10 % de l'épaisseur du filtre à membrane de résine à partir de la première surface principale, et Svb est la zone moyenne d'ouvertures à une position B située à une distance de 90 % de l'épaisseur du filtre à membrane de résine à partir de la première surface principale ; et le rapport de quantité Ra de trous traversants pour lesquels la surface des ouvertures à la position a est supérieure à 1,2 fois la valeur de Sva est inférieure ou égale à 3,0 %.
本発明は、分離精度、強靭性、及び、ろ過速度に優れる樹脂膜フィルタ、並びに、上記樹脂膜フィルタの製造方法を提供することを課題とする。 本発明の樹脂フィルタは、第1主面と第2主面とを有し、かつ、貫通孔を複数有する樹脂膜フィルタであって、樹脂膜フィルタが単膜であり、貫通孔において、第1主面から樹脂膜フィルタの厚みの10%の距離にある位置Aにおける開口部の平均面積をSva、第1主面から樹脂膜フィルタの厚みの90%の距離にある位置Bにおける開口部の平均面積をSvbとしたとき、Sva/Svb<0.80であり、位置Aにおける開口部の面積がSvaの1.2倍よりも大きい貫通孔の個数比Raが3.0%以下である。 |
format | Patent |
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L'objectif de la présente invention est de fournir : un filtre à membrane en résine ayant une précision de séparation exceptionnelle, une ténacité, et une vitesse de filtration exceptionnelles ; et un procédé de fabrication du filtre à membrane en résine. Ce filtre à membrane en résine a une première surface principale et une seconde surface principale, et comporte également une pluralité de trous traversants. Le filtre à membrane en résine est une membrane unique ; la relation Sva/Svb < 0,80 est satisfaite dans les trous traversants, où Sva est la zone moyenne d'ouvertures à une position A située à une distance de 10 % de l'épaisseur du filtre à membrane de résine à partir de la première surface principale, et Svb est la zone moyenne d'ouvertures à une position B située à une distance de 90 % de l'épaisseur du filtre à membrane de résine à partir de la première surface principale ; et le rapport de quantité Ra de trous traversants pour lesquels la surface des ouvertures à la position a est supérieure à 1,2 fois la valeur de Sva est inférieure ou égale à 3,0 %.
本発明は、分離精度、強靭性、及び、ろ過速度に優れる樹脂膜フィルタ、並びに、上記樹脂膜フィルタの製造方法を提供することを課題とする。 本発明の樹脂フィルタは、第1主面と第2主面とを有し、かつ、貫通孔を複数有する樹脂膜フィルタであって、樹脂膜フィルタが単膜であり、貫通孔において、第1主面から樹脂膜フィルタの厚みの10%の距離にある位置Aにおける開口部の平均面積をSva、第1主面から樹脂膜フィルタの厚みの90%の距離にある位置Bにおける開口部の平均面積をSvbとしたとき、Sva/Svb<0.80であり、位置Aにおける開口部の面積がSvaの1.2倍よりも大きい貫通孔の個数比Raが3.0%以下である。</description><language>eng ; fre ; jpn</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CINEMATOGRAPHY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; ORIGINALS THEREFOR ; PERFORMING OPERATIONS ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL ; PHYSICS ; SEPARATION ; TRANSPORTING</subject><creationdate>2023</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20230126&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2023002841A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,309,781,886,25569,76552</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20230126&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2023002841A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>YONEZAWA Hiroyuki</creatorcontrib><title>RESIN MEMBRANE FILTER AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIN MEMBRANE FILTER</title><description>The purpose of the present invention is to provide: a resin membrane filter having exceptional separation precision, toughness, and filtration speed; and a method for manufacturing the resin membrane filter. This resin membrane filter has a first main surface and a second main surface, and also has a plurality of through-holes. The resin membrane filter is a single membrane; the relationship Sva/Svb < 0.80 is satisfied in the through-holes, where Sva is the average area of openings at a position A located at a distance of 10% of the thickness of the resin membrane filter from the first main surface, and Svb is the average area of openings at a position B located at a distance of 90% of the thickness of the resin membrane filter from the first main surface; and the quantity ratio Ra of through-holes for which the area of the openings at the position A is greater than 1.2 times the value of Sva is 3.0% or less.
L'objectif de la présente invention est de fournir : un filtre à membrane en résine ayant une précision de séparation exceptionnelle, une ténacité, et une vitesse de filtration exceptionnelles ; et un procédé de fabrication du filtre à membrane en résine. Ce filtre à membrane en résine a une première surface principale et une seconde surface principale, et comporte également une pluralité de trous traversants. Le filtre à membrane en résine est une membrane unique ; la relation Sva/Svb < 0,80 est satisfaite dans les trous traversants, où Sva est la zone moyenne d'ouvertures à une position A située à une distance de 10 % de l'épaisseur du filtre à membrane de résine à partir de la première surface principale, et Svb est la zone moyenne d'ouvertures à une position B située à une distance de 90 % de l'épaisseur du filtre à membrane de résine à partir de la première surface principale ; et le rapport de quantité Ra de trous traversants pour lesquels la surface des ouvertures à la position a est supérieure à 1,2 fois la valeur de Sva est inférieure ou égale à 3,0 %.
本発明は、分離精度、強靭性、及び、ろ過速度に優れる樹脂膜フィルタ、並びに、上記樹脂膜フィルタの製造方法を提供することを課題とする。 本発明の樹脂フィルタは、第1主面と第2主面とを有し、かつ、貫通孔を複数有する樹脂膜フィルタであって、樹脂膜フィルタが単膜であり、貫通孔において、第1主面から樹脂膜フィルタの厚みの10%の距離にある位置Aにおける開口部の平均面積をSva、第1主面から樹脂膜フィルタの厚みの90%の距離にある位置Bにおける開口部の平均面積をSvbとしたとき、Sva/Svb<0.80であり、位置Aにおける開口部の面積がSvaの1.2倍よりも大きい貫通孔の個数比Raが3.0%以下である。</description><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>MATERIALS THEREFOR</subject><subject>ORIGINALS THEREFOR</subject><subject>PERFORMING OPERATIONS</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</subject><subject>PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL</subject><subject>PHYSICS</subject><subject>SEPARATION</subject><subject>TRANSPORTING</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2023</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZPAIcg329FPwdfV1CnL0c1Vw8_QJcQ1ScPRzAYqFePi7KLj5Byn4OvqFujk6h4QGefq5K2DVwsPAmpaYU5zKC6W5GZTdXEOcPXRTC_LjU4sLEpNT81JL4sP9jQyMjA0MjCxMDB0NjYlTBQCmxC2W</recordid><startdate>20230126</startdate><enddate>20230126</enddate><creator>YONEZAWA Hiroyuki</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20230126</creationdate><title>RESIN MEMBRANE FILTER AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIN MEMBRANE FILTER</title><author>YONEZAWA Hiroyuki</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2023002841A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre ; jpn</language><creationdate>2023</creationdate><topic>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</topic><topic>CINEMATOGRAPHY</topic><topic>ELECTROGRAPHY</topic><topic>HOLOGRAPHY</topic><topic>MATERIALS THEREFOR</topic><topic>ORIGINALS THEREFOR</topic><topic>PERFORMING OPERATIONS</topic><topic>PHOTOGRAPHY</topic><topic>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</topic><topic>PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL</topic><topic>PHYSICS</topic><topic>SEPARATION</topic><topic>TRANSPORTING</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>YONEZAWA Hiroyuki</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>YONEZAWA Hiroyuki</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>RESIN MEMBRANE FILTER AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIN MEMBRANE FILTER</title><date>2023-01-26</date><risdate>2023</risdate><abstract>The purpose of the present invention is to provide: a resin membrane filter having exceptional separation precision, toughness, and filtration speed; and a method for manufacturing the resin membrane filter. This resin membrane filter has a first main surface and a second main surface, and also has a plurality of through-holes. The resin membrane filter is a single membrane; the relationship Sva/Svb < 0.80 is satisfied in the through-holes, where Sva is the average area of openings at a position A located at a distance of 10% of the thickness of the resin membrane filter from the first main surface, and Svb is the average area of openings at a position B located at a distance of 90% of the thickness of the resin membrane filter from the first main surface; and the quantity ratio Ra of through-holes for which the area of the openings at the position A is greater than 1.2 times the value of Sva is 3.0% or less.
L'objectif de la présente invention est de fournir : un filtre à membrane en résine ayant une précision de séparation exceptionnelle, une ténacité, et une vitesse de filtration exceptionnelles ; et un procédé de fabrication du filtre à membrane en résine. Ce filtre à membrane en résine a une première surface principale et une seconde surface principale, et comporte également une pluralité de trous traversants. Le filtre à membrane en résine est une membrane unique ; la relation Sva/Svb < 0,80 est satisfaite dans les trous traversants, où Sva est la zone moyenne d'ouvertures à une position A située à une distance de 10 % de l'épaisseur du filtre à membrane de résine à partir de la première surface principale, et Svb est la zone moyenne d'ouvertures à une position B située à une distance de 90 % de l'épaisseur du filtre à membrane de résine à partir de la première surface principale ; et le rapport de quantité Ra de trous traversants pour lesquels la surface des ouvertures à la position a est supérieure à 1,2 fois la valeur de Sva est inférieure ou égale à 3,0 %.
本発明は、分離精度、強靭性、及び、ろ過速度に優れる樹脂膜フィルタ、並びに、上記樹脂膜フィルタの製造方法を提供することを課題とする。 本発明の樹脂フィルタは、第1主面と第2主面とを有し、かつ、貫通孔を複数有する樹脂膜フィルタであって、樹脂膜フィルタが単膜であり、貫通孔において、第1主面から樹脂膜フィルタの厚みの10%の距離にある位置Aにおける開口部の平均面積をSva、第1主面から樹脂膜フィルタの厚みの90%の距離にある位置Bにおける開口部の平均面積をSvbとしたとき、Sva/Svb<0.80であり、位置Aにおける開口部の面積がSvaの1.2倍よりも大きい貫通孔の個数比Raが3.0%以下である。</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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