CONFORMAL YTTRIUM OXIDE COATING

Exemplary methods of coating a semiconductor component substrate may include submerging the semiconductor component substrate in an alkaline electrolyte. The alkaline electrolyte may include yttrium. The methods may include igniting a plasma at a surface of the semiconductor component substrate for a period of time less than or about 12 hours. The methods may include forming a yttrium-containing oxide on the semiconductor component substrate. A surface of the yttrium-containing oxide may be characterized by a yttrium incorporation of greater than or about 10 at.%. Des exemples de procédés de revêtement d'un substrat de composant semi-conducteur peuvent comprendre l'immersion du substrat de composant semi-conducteur dans un électrolyte alcalin. L'électrolyte alcalin peut comprendre de l'yttrium. Les procédés peuvent comprendre l'allumage d'un plasma au niveau d'une surface du substrat de composant semi-conducteur pendant une durée inférieure ou égale à environ 12 heures. Les procédés peuvent comprendre la formation d'un oxyde contenant de l'yttrium sur le substrat de composant semi-conducteur. Une surface de l'oxyde contenant de l'yttrium peut être caractérisée par une incorporation d'yttrium supérieure ou égale à environ 10 % en pourcentage atomique.