AXISYMMETRIC HEATING ASSEMBLY LAYOUT WITH DOUBLE ENDED LAMP

Apparatus for heating a substrate within a substrate processing chamber are described herein. More specifically, possible lamp modules for use within a substrate processing chamber are described. The lamp modules include a reflector body. The reflector body is a reflective material. The reflector bo...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: NAKAGAWA, Toshiyuki, NELLIKKA, Shainish, CHOO, Enle, DUBE, Abhishek, LAU, Shu-Kwan, WANG, Danny Don, YE, Zhiyuan
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
container_end_page
container_issue
container_start_page
container_title
container_volume
creator NAKAGAWA, Toshiyuki
NELLIKKA, Shainish
CHOO, Enle
DUBE, Abhishek
LAU, Shu-Kwan
WANG, Danny Don
YE, Zhiyuan
description Apparatus for heating a substrate within a substrate processing chamber are described herein. More specifically, possible lamp modules for use within a substrate processing chamber are described. The lamp modules include a reflector body. The reflector body is a reflective material. The reflector body includes grooves disposed in a surface and configured to direct radiant energy towards a substrate. Each ring includes multiple grooves with different cross sections to allow radiant energy to be directed at different radial positions on the substrate from the same ring. The grooves may be either curved or linear grooves. Un appareil pour chauffer un substrat dans une chambre de traitement de substrat est décrit dans la présente invention. Plus précisément, des modules de lampe possibles destinés à être utilisés dans une chambre de traitement de substrat sont décrits. Les modules de lampe comprennent un corps de réflecteur. Le corps de réflecteur est un matériau réfléchissant. Le corps de réflecteur comprend des rainures disposées dans une surface et configurées pour diriger une énergie rayonnante vers un substrat. Chaque anneau comprend de multiples rainures comprenant des sections transversales différentes pour permettre à une énergie rayonnante d'être dirigée à différentes positions radiales sur le substrat à partir du même anneau. Les rainures peuvent être des rainures incurvées ou linéaires.
format Patent
fullrecord <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_WO2022260762A1</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>WO2022260762A1</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_WO2022260762A13</originalsourceid><addsrcrecordid>eNrjZLB2jPAMjvT1dQ0J8nRW8HB1DPH0c1dwDA529XXyiVTwcYz0Dw1RCPcM8VBw8Q918nFVcPVzcXUBSvgG8DCwpiXmFKfyQmluBmU31xBnD93Ugvz41OKCxOTUvNSS-HB_IwMjIyMzA3MzI0dDY-JUAQCXhSpK</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>AXISYMMETRIC HEATING ASSEMBLY LAYOUT WITH DOUBLE ENDED LAMP</title><source>esp@cenet</source><creator>NAKAGAWA, Toshiyuki ; NELLIKKA, Shainish ; CHOO, Enle ; DUBE, Abhishek ; LAU, Shu-Kwan ; WANG, Danny Don ; YE, Zhiyuan</creator><creatorcontrib>NAKAGAWA, Toshiyuki ; NELLIKKA, Shainish ; CHOO, Enle ; DUBE, Abhishek ; LAU, Shu-Kwan ; WANG, Danny Don ; YE, Zhiyuan</creatorcontrib><description>Apparatus for heating a substrate within a substrate processing chamber are described herein. More specifically, possible lamp modules for use within a substrate processing chamber are described. The lamp modules include a reflector body. The reflector body is a reflective material. The reflector body includes grooves disposed in a surface and configured to direct radiant energy towards a substrate. Each ring includes multiple grooves with different cross sections to allow radiant energy to be directed at different radial positions on the substrate from the same ring. The grooves may be either curved or linear grooves. Un appareil pour chauffer un substrat dans une chambre de traitement de substrat est décrit dans la présente invention. Plus précisément, des modules de lampe possibles destinés à être utilisés dans une chambre de traitement de substrat sont décrits. Les modules de lampe comprennent un corps de réflecteur. Le corps de réflecteur est un matériau réfléchissant. Le corps de réflecteur comprend des rainures disposées dans une surface et configurées pour diriger une énergie rayonnante vers un substrat. Chaque anneau comprend de multiples rainures comprenant des sections transversales différentes pour permettre à une énergie rayonnante d'être dirigée à différentes positions radiales sur le substrat à partir du même anneau. Les rainures peuvent être des rainures incurvées ou linéaires.</description><language>eng ; fre</language><subject>AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUSPOLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE ; APPARATUS THEREFOR ; BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; CHEMISTRY ; CRYSTAL GROWTH ; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRICITY ; METALLURGY ; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITHDEFINED STRUCTURE ; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL ; SEMICONDUCTOR DEVICES ; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITHDEFINED STRUCTURE ; SINGLE-CRYSTAL-GROWTH ; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL ORUNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL</subject><creationdate>2022</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20221215&amp;DB=EPODOC&amp;CC=WO&amp;NR=2022260762A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25555,76308</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20221215&amp;DB=EPODOC&amp;CC=WO&amp;NR=2022260762A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>NAKAGAWA, Toshiyuki</creatorcontrib><creatorcontrib>NELLIKKA, Shainish</creatorcontrib><creatorcontrib>CHOO, Enle</creatorcontrib><creatorcontrib>DUBE, Abhishek</creatorcontrib><creatorcontrib>LAU, Shu-Kwan</creatorcontrib><creatorcontrib>WANG, Danny Don</creatorcontrib><creatorcontrib>YE, Zhiyuan</creatorcontrib><title>AXISYMMETRIC HEATING ASSEMBLY LAYOUT WITH DOUBLE ENDED LAMP</title><description>Apparatus for heating a substrate within a substrate processing chamber are described herein. More specifically, possible lamp modules for use within a substrate processing chamber are described. The lamp modules include a reflector body. The reflector body is a reflective material. The reflector body includes grooves disposed in a surface and configured to direct radiant energy towards a substrate. Each ring includes multiple grooves with different cross sections to allow radiant energy to be directed at different radial positions on the substrate from the same ring. The grooves may be either curved or linear grooves. Un appareil pour chauffer un substrat dans une chambre de traitement de substrat est décrit dans la présente invention. Plus précisément, des modules de lampe possibles destinés à être utilisés dans une chambre de traitement de substrat sont décrits. Les modules de lampe comprennent un corps de réflecteur. Le corps de réflecteur est un matériau réfléchissant. Le corps de réflecteur comprend des rainures disposées dans une surface et configurées pour diriger une énergie rayonnante vers un substrat. Chaque anneau comprend de multiples rainures comprenant des sections transversales différentes pour permettre à une énergie rayonnante d'être dirigée à différentes positions radiales sur le substrat à partir du même anneau. Les rainures peuvent être des rainures incurvées ou linéaires.</description><subject>AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUSPOLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE</subject><subject>APPARATUS THEREFOR</subject><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</subject><subject>CHEMISTRY</subject><subject>CRYSTAL GROWTH</subject><subject>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>METALLURGY</subject><subject>PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITHDEFINED STRUCTURE</subject><subject>REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL</subject><subject>SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><subject>SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITHDEFINED STRUCTURE</subject><subject>SINGLE-CRYSTAL-GROWTH</subject><subject>UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL ORUNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2022</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZLB2jPAMjvT1dQ0J8nRW8HB1DPH0c1dwDA529XXyiVTwcYz0Dw1RCPcM8VBw8Q918nFVcPVzcXUBSvgG8DCwpiXmFKfyQmluBmU31xBnD93Ugvz41OKCxOTUvNSS-HB_IwMjIyMzA3MzI0dDY-JUAQCXhSpK</recordid><startdate>20221215</startdate><enddate>20221215</enddate><creator>NAKAGAWA, Toshiyuki</creator><creator>NELLIKKA, Shainish</creator><creator>CHOO, Enle</creator><creator>DUBE, Abhishek</creator><creator>LAU, Shu-Kwan</creator><creator>WANG, Danny Don</creator><creator>YE, Zhiyuan</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20221215</creationdate><title>AXISYMMETRIC HEATING ASSEMBLY LAYOUT WITH DOUBLE ENDED LAMP</title><author>NAKAGAWA, Toshiyuki ; NELLIKKA, Shainish ; CHOO, Enle ; DUBE, Abhishek ; LAU, Shu-Kwan ; WANG, Danny Don ; YE, Zhiyuan</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2022260762A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2022</creationdate><topic>AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUSPOLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE</topic><topic>APPARATUS THEREFOR</topic><topic>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</topic><topic>CHEMISTRY</topic><topic>CRYSTAL GROWTH</topic><topic>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>METALLURGY</topic><topic>PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITHDEFINED STRUCTURE</topic><topic>REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL</topic><topic>SEMICONDUCTOR DEVICES</topic><topic>SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITHDEFINED STRUCTURE</topic><topic>SINGLE-CRYSTAL-GROWTH</topic><topic>UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL ORUNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>NAKAGAWA, Toshiyuki</creatorcontrib><creatorcontrib>NELLIKKA, Shainish</creatorcontrib><creatorcontrib>CHOO, Enle</creatorcontrib><creatorcontrib>DUBE, Abhishek</creatorcontrib><creatorcontrib>LAU, Shu-Kwan</creatorcontrib><creatorcontrib>WANG, Danny Don</creatorcontrib><creatorcontrib>YE, Zhiyuan</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>NAKAGAWA, Toshiyuki</au><au>NELLIKKA, Shainish</au><au>CHOO, Enle</au><au>DUBE, Abhishek</au><au>LAU, Shu-Kwan</au><au>WANG, Danny Don</au><au>YE, Zhiyuan</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>AXISYMMETRIC HEATING ASSEMBLY LAYOUT WITH DOUBLE ENDED LAMP</title><date>2022-12-15</date><risdate>2022</risdate><abstract>Apparatus for heating a substrate within a substrate processing chamber are described herein. More specifically, possible lamp modules for use within a substrate processing chamber are described. The lamp modules include a reflector body. The reflector body is a reflective material. The reflector body includes grooves disposed in a surface and configured to direct radiant energy towards a substrate. Each ring includes multiple grooves with different cross sections to allow radiant energy to be directed at different radial positions on the substrate from the same ring. The grooves may be either curved or linear grooves. Un appareil pour chauffer un substrat dans une chambre de traitement de substrat est décrit dans la présente invention. Plus précisément, des modules de lampe possibles destinés à être utilisés dans une chambre de traitement de substrat sont décrits. Les modules de lampe comprennent un corps de réflecteur. Le corps de réflecteur est un matériau réfléchissant. Le corps de réflecteur comprend des rainures disposées dans une surface et configurées pour diriger une énergie rayonnante vers un substrat. Chaque anneau comprend de multiples rainures comprenant des sections transversales différentes pour permettre à une énergie rayonnante d'être dirigée à différentes positions radiales sur le substrat à partir du même anneau. Les rainures peuvent être des rainures incurvées ou linéaires.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record>
fulltext fulltext_linktorsrc
identifier
ispartof
issn
language eng ; fre
recordid cdi_epo_espacenet_WO2022260762A1
source esp@cenet
subjects AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUSPOLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE
APPARATUS THEREFOR
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
CHEMISTRY
CRYSTAL GROWTH
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
METALLURGY
PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITHDEFINED STRUCTURE
REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL
SEMICONDUCTOR DEVICES
SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITHDEFINED STRUCTURE
SINGLE-CRYSTAL-GROWTH
UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL ORUNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL
title AXISYMMETRIC HEATING ASSEMBLY LAYOUT WITH DOUBLE ENDED LAMP
url https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-01-14T19%3A02%3A18IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=NAKAGAWA,%20Toshiyuki&rft.date=2022-12-15&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EWO2022260762A1%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true