MULTI-SECTIONAL PLASMA CONFINEMENT RING STRUCTURE

A confinement ring for use in a plasma processing chamber includes an upper horizontal section, an upper vertical section, a mid-section, a lower vertical section, a lower horizontal section and a vertical extension. The upper horizontal section extends between an inner upper radius and a first outer radius of the confinement ring. The mid-section extends between inner upper radius and a second outer radius of the confinement ring. The lower horizontal section extends between an inner lower radius and the second outer radius, and the vertical extension extends down from the lower horizontal section proximate to the inner lower radius. The upper vertical section extends between the upper horizontal section and the mid-section proximate to the inner upper radius, and the lower vertical section extends between the mid-section and the lower horizontal section proximate to the second outer radius. Un anneau de confinement destiné à être utilisé dans une chambre de traitement au plasma comprend une section horizontale supérieure, une section verticale supérieure, une section médiane, une section verticale inférieure, une section horizontale inférieure et une extension verticale. La section horizontale supérieure s'étend entre un rayon supérieur interne et un premier rayon externe de l'anneau de confinement. La section médiane s'étend entre un rayon supérieur interne et un second rayon externe de l'anneau de confinement. La section horizontale inférieure s'étend entre un rayon inférieur interne et le second rayon externe, et l'extension verticale s'étend vers le bas à partir de la section horizontale inférieure à proximité du rayon inférieur interne. La section verticale supérieure s'étend entre la section horizontale supérieure et la section médiane à proximité du rayon supérieur interne, et la section verticale inférieure s'étend entre la section médiane et la section horizontale inférieure à proximité du second rayon externe.