ELASTIC WAVE DEVICE
Provided is an elastic wave device in which variations in thickness of a piezoelectric layer can be suppressed. This elastic wave device 10 is provided with a support member 13 having a support substrate, a piezoelectric layer 14 provided on the support member 13, and an excitation electrode provide...
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| Hauptverfasser: | , |
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| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; fre ; jpn |
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| creator | KIMURA, Tetsuya KUBO, Shintaro |
| description | Provided is an elastic wave device in which variations in thickness of a piezoelectric layer can be suppressed. This elastic wave device 10 is provided with a support member 13 having a support substrate, a piezoelectric layer 14 provided on the support member 13, and an excitation electrode provided on the piezoelectric layer 14. A void part 13c is provided to the support member 13. As seen in a plan view, at least part of the excitation electrode and the void part 13c overlap with each other. A portion in the piezoelectric layer 14 that overlaps with the void part 13c in a plan view is a membrane part 15. The membrane part 15 has a first direction w1 and a second direction w2 that is orthogonal to the first direction w1. The membrane part 15 has a central part 15c positioned in the center in the first direction w1, a first portion 15a and a second portion 15b facing each other with the central part 15c interposed therebetween, and an outer peripheral edge. At least part of the outer peripheral edge at the first portion 15a and the second portion 15b of the membrane part 15 is positioned farther toward the outside in the second direction w2 than the outer peripheral edge at the central part 15c.
La présente invention concerne un dispositif à ondes élastiques dans lequel des variations d'épaisseur d'une couche piézoélectrique peuvent être supprimées. Ce dispositif à ondes élastiques 10 est pourvu d'un élément de support 13 doté d'un substrat de support, d'une couche piézoélectrique 14 disposée sur l'élément de support 13, et d'une électrode d'excitation disposée sur la couche piézoélectrique 14. Une partie vide 13c est prévue sur l'élément de support 13. Dans une vue en plan, au moins une partie de l'électrode d'excitation et de la partie vide 13c se chevauchent mutuellement. Une partie de la couche piézoélectrique 14 qui chevauche la partie vide 13c dans une vue en plan est une partie membrane 15. La partie membrane 15 a une première direction w1 et une seconde direction w2 qui est orthogonale à la première direction w1. La partie membrane 15 comprend une partie centrale 15c positionnée au centre dans la première direction w1, une première partie 15a et une seconde partie 15b se faisant face, la partie centrale 15c étant interposée entre celles-ci, et un bord périphérique externe. Au moins une partie du bord périphérique externe au niveau de la première partie 15a et de la seconde partie 15b de la partie membrane 15 est positionnée plus loin vers l'extéri |
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La présente invention concerne un dispositif à ondes élastiques dans lequel des variations d'épaisseur d'une couche piézoélectrique peuvent être supprimées. Ce dispositif à ondes élastiques 10 est pourvu d'un élément de support 13 doté d'un substrat de support, d'une couche piézoélectrique 14 disposée sur l'élément de support 13, et d'une électrode d'excitation disposée sur la couche piézoélectrique 14. Une partie vide 13c est prévue sur l'élément de support 13. Dans une vue en plan, au moins une partie de l'électrode d'excitation et de la partie vide 13c se chevauchent mutuellement. Une partie de la couche piézoélectrique 14 qui chevauche la partie vide 13c dans une vue en plan est une partie membrane 15. La partie membrane 15 a une première direction w1 et une seconde direction w2 qui est orthogonale à la première direction w1. La partie membrane 15 comprend une partie centrale 15c positionnée au centre dans la première direction w1, une première partie 15a et une seconde partie 15b se faisant face, la partie centrale 15c étant interposée entre celles-ci, et un bord périphérique externe. Au moins une partie du bord périphérique externe au niveau de la première partie 15a et de la seconde partie 15b de la partie membrane 15 est positionnée plus loin vers l'extérieur dans la seconde direction w2 que le bord périphérique externe au niveau de la partie centrale 15c.
圧電層の厚みのばらつきを抑制することができる、弾性波装置を提供する。 弾性波装置１０は、支持基板を有する支持部材１３と、支持部材１３上に設けられている圧電層１４と、圧電層１４上に設けられている励振電極とを備える。支持部材１３に空洞部１３ｃが設けられている。平面視において、励振電極の少なくとも一部と空洞部１３ｃとが重なっている。圧電層１４における、平面視において空洞部１３ｃと重なっている部分がメンブレン部１５である。メンブレン部１５は、第１の方向ｗ１と、第１の方向ｗ１と直交する第２の方向ｗ２とを有する。メンブレン部１５は、第１の方向ｗ１における中央に位置する中央部１５ｃと、第１の方向ｗ１において、中央部１５ｃを挟んで対向し合う第１の部分１５ａ及び第２の部分１５ｂとを有し、かつ外周縁を有する。メンブレン部１５の第１の部分１５ａ及び第２の部分１５ｂにおける外周縁の少なくとも一部が、中央部１５ｃにおける外周縁よりも、第２の方向ｗ２における外側に位置している。</description><language>eng ; fre ; jpn</language><subject>BASIC ELECTRONIC CIRCUITRY ; ELECTRICITY ; IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS ; RESONATORS</subject><creationdate>2022</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20220915&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2022190743A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,777,882,25545,76296</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20220915&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2022190743A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>KIMURA, Tetsuya</creatorcontrib><creatorcontrib>KUBO, Shintaro</creatorcontrib><title>ELASTIC WAVE DEVICE</title><description>Provided is an elastic wave device in which variations in thickness of a piezoelectric layer can be suppressed. This elastic wave device 10 is provided with a support member 13 having a support substrate, a piezoelectric layer 14 provided on the support member 13, and an excitation electrode provided on the piezoelectric layer 14. A void part 13c is provided to the support member 13. As seen in a plan view, at least part of the excitation electrode and the void part 13c overlap with each other. A portion in the piezoelectric layer 14 that overlaps with the void part 13c in a plan view is a membrane part 15. The membrane part 15 has a first direction w1 and a second direction w2 that is orthogonal to the first direction w1. The membrane part 15 has a central part 15c positioned in the center in the first direction w1, a first portion 15a and a second portion 15b facing each other with the central part 15c interposed therebetween, and an outer peripheral edge. At least part of the outer peripheral edge at the first portion 15a and the second portion 15b of the membrane part 15 is positioned farther toward the outside in the second direction w2 than the outer peripheral edge at the central part 15c.
La présente invention concerne un dispositif à ondes élastiques dans lequel des variations d'épaisseur d'une couche piézoélectrique peuvent être supprimées. Ce dispositif à ondes élastiques 10 est pourvu d'un élément de support 13 doté d'un substrat de support, d'une couche piézoélectrique 14 disposée sur l'élément de support 13, et d'une électrode d'excitation disposée sur la couche piézoélectrique 14. Une partie vide 13c est prévue sur l'élément de support 13. Dans une vue en plan, au moins une partie de l'électrode d'excitation et de la partie vide 13c se chevauchent mutuellement. Une partie de la couche piézoélectrique 14 qui chevauche la partie vide 13c dans une vue en plan est une partie membrane 15. La partie membrane 15 a une première direction w1 et une seconde direction w2 qui est orthogonale à la première direction w1. La partie membrane 15 comprend une partie centrale 15c positionnée au centre dans la première direction w1, une première partie 15a et une seconde partie 15b se faisant face, la partie centrale 15c étant interposée entre celles-ci, et un bord périphérique externe. Au moins une partie du bord périphérique externe au niveau de la première partie 15a et de la seconde partie 15b de la partie membrane 15 est positionnée plus loin vers l'extérieur dans la seconde direction w2 que le bord périphérique externe au niveau de la partie centrale 15c.
圧電層の厚みのばらつきを抑制することができる、弾性波装置を提供する。 弾性波装置１０は、支持基板を有する支持部材１３と、支持部材１３上に設けられている圧電層１４と、圧電層１４上に設けられている励振電極とを備える。支持部材１３に空洞部１３ｃが設けられている。平面視において、励振電極の少なくとも一部と空洞部１３ｃとが重なっている。圧電層１４における、平面視において空洞部１３ｃと重なっている部分がメンブレン部１５である。メンブレン部１５は、第１の方向ｗ１と、第１の方向ｗ１と直交する第２の方向ｗ２とを有する。メンブレン部１５は、第１の方向ｗ１における中央に位置する中央部１５ｃと、第１の方向ｗ１において、中央部１５ｃを挟んで対向し合う第１の部分１５ａ及び第２の部分１５ｂとを有し、かつ外周縁を有する。メンブレン部１５の第１の部分１５ａ及び第２の部分１５ｂにおける外周縁の少なくとも一部が、中央部１５ｃにおける外周縁よりも、第２の方向ｗ２における外側に位置している。</description><subject>BASIC ELECTRONIC CIRCUITRY</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS</subject><subject>RESONATORS</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2022</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZBB29XEMDvF0Vgh3DHNVcHEN83R25WFgTUvMKU7lhdLcDMpuriHOHrqpBfnxqcUFicmpeakl8eH-RgZGRoaWBuYmxo6GxsSpAgDCTR8O</recordid><startdate>20220915</startdate><enddate>20220915</enddate><creator>KIMURA, Tetsuya</creator><creator>KUBO, Shintaro</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20220915</creationdate><title>ELASTIC WAVE DEVICE</title><author>KIMURA, Tetsuya ; KUBO, Shintaro</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2022190743A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre ; jpn</language><creationdate>2022</creationdate><topic>BASIC ELECTRONIC CIRCUITRY</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS</topic><topic>RESONATORS</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>KIMURA, Tetsuya</creatorcontrib><creatorcontrib>KUBO, Shintaro</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>KIMURA, Tetsuya</au><au>KUBO, Shintaro</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>ELASTIC WAVE DEVICE</title><date>2022-09-15</date><risdate>2022</risdate><abstract>Provided is an elastic wave device in which variations in thickness of a piezoelectric layer can be suppressed. This elastic wave device 10 is provided with a support member 13 having a support substrate, a piezoelectric layer 14 provided on the support member 13, and an excitation electrode provided on the piezoelectric layer 14. A void part 13c is provided to the support member 13. As seen in a plan view, at least part of the excitation electrode and the void part 13c overlap with each other. A portion in the piezoelectric layer 14 that overlaps with the void part 13c in a plan view is a membrane part 15. The membrane part 15 has a first direction w1 and a second direction w2 that is orthogonal to the first direction w1. The membrane part 15 has a central part 15c positioned in the center in the first direction w1, a first portion 15a and a second portion 15b facing each other with the central part 15c interposed therebetween, and an outer peripheral edge. At least part of the outer peripheral edge at the first portion 15a and the second portion 15b of the membrane part 15 is positioned farther toward the outside in the second direction w2 than the outer peripheral edge at the central part 15c.
La présente invention concerne un dispositif à ondes élastiques dans lequel des variations d'épaisseur d'une couche piézoélectrique peuvent être supprimées. Ce dispositif à ondes élastiques 10 est pourvu d'un élément de support 13 doté d'un substrat de support, d'une couche piézoélectrique 14 disposée sur l'élément de support 13, et d'une électrode d'excitation disposée sur la couche piézoélectrique 14. Une partie vide 13c est prévue sur l'élément de support 13. Dans une vue en plan, au moins une partie de l'électrode d'excitation et de la partie vide 13c se chevauchent mutuellement. Une partie de la couche piézoélectrique 14 qui chevauche la partie vide 13c dans une vue en plan est une partie membrane 15. La partie membrane 15 a une première direction w1 et une seconde direction w2 qui est orthogonale à la première direction w1. La partie membrane 15 comprend une partie centrale 15c positionnée au centre dans la première direction w1, une première partie 15a et une seconde partie 15b se faisant face, la partie centrale 15c étant interposée entre celles-ci, et un bord périphérique externe. Au moins une partie du bord périphérique externe au niveau de la première partie 15a et de la seconde partie 15b de la partie membrane 15 est positionnée plus loin vers l'extérieur dans la seconde direction w2 que le bord périphérique externe au niveau de la partie centrale 15c.
圧電層の厚みのばらつきを抑制することができる、弾性波装置を提供する。 弾性波装置１０は、支持基板を有する支持部材１３と、支持部材１３上に設けられている圧電層１４と、圧電層１４上に設けられている励振電極とを備える。支持部材１３に空洞部１３ｃが設けられている。平面視において、励振電極の少なくとも一部と空洞部１３ｃとが重なっている。圧電層１４における、平面視において空洞部１３ｃと重なっている部分がメンブレン部１５である。メンブレン部１５は、第１の方向ｗ１と、第１の方向ｗ１と直交する第２の方向ｗ２とを有する。メンブレン部１５は、第１の方向ｗ１における中央に位置する中央部１５ｃと、第１の方向ｗ１において、中央部１５ｃを挟んで対向し合う第１の部分１５ａ及び第２の部分１５ｂとを有し、かつ外周縁を有する。メンブレン部１５の第１の部分１５ａ及び第２の部分１５ｂにおける外周縁の少なくとも一部が、中央部１５ｃにおける外周縁よりも、第２の方向ｗ２における外側に位置している。</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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