FLUID SYSTEM AND SAMPLE PROCESSOR INCLUDING FLUID SYSTEM
The present disclosure relates to a fluid system for a sample processor and a sample processor including the fluid system. The fluid system includes a sample line, a processing fluid line, a vacuum line, and an air pump. The sample line communicates a sample container with a sample port of a flow ce...
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| Format: | Patent |
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| creator | NAVA, Simon YUAN, Juntao TANG, Linqun SHI, Liang |
| description | The present disclosure relates to a fluid system for a sample processor and a sample processor including the fluid system. The fluid system includes a sample line, a processing fluid line, a vacuum line, and an air pump. The sample line communicates a sample container with a sample port of a flow cell unit. The processing fluid line communicates a sheath fluid container with a processing fluid port of the flow cell unit. The vacuum line is in communication with the flow cell unit. The air pump includes a first output port and a second output port. Pressurized gas is generated at the first output port, and the first output port is in communication with the sample container and the sheath fluid container. A vacuum is generated at the second output port, and the second output port is in communication with a vacuum port of the flow cell unit through the vacuum line.
La présente divulgation concerne un système de fluide pour un processeur d'échantillon et un processeur d'échantillon comprenant le système de fluide. Le système de fluide comprend une conduite d'échantillon, une conduite de fluide de traitement, une conduite à vide et une pompe à air. La conduite d'échantillon relie un récipient d'échantillon avec un orifice d'échantillon d'une unité de cuve à circulation. La conduite de fluide de traitement relie un récipient de fluide de gaine avec un orifice de fluide de traitement de l'unité de cuve à circulation. La conduite à vide est en communication avec l'unité de cuve à circulation. La pompe à air comprend un premier orifice de sortie et un second orifice de sortie. Du gaz sous pression est généré au niveau du premier orifice de sortie, et le premier orifice de sortie est en communication avec le récipient d'échantillon et le récipient de fluide de gaine. Un vide est généré au niveau du second orifice de sortie, et le second orifice de sortie est en communication avec un orifice à vide de l'unité de cuve à circulation par l'intermédiaire de la conduite à vide. |
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La présente divulgation concerne un système de fluide pour un processeur d'échantillon et un processeur d'échantillon comprenant le système de fluide. Le système de fluide comprend une conduite d'échantillon, une conduite de fluide de traitement, une conduite à vide et une pompe à air. La conduite d'échantillon relie un récipient d'échantillon avec un orifice d'échantillon d'une unité de cuve à circulation. La conduite de fluide de traitement relie un récipient de fluide de gaine avec un orifice de fluide de traitement de l'unité de cuve à circulation. La conduite à vide est en communication avec l'unité de cuve à circulation. La pompe à air comprend un premier orifice de sortie et un second orifice de sortie. Du gaz sous pression est généré au niveau du premier orifice de sortie, et le premier orifice de sortie est en communication avec le récipient d'échantillon et le récipient de fluide de gaine. Un vide est généré au niveau du second orifice de sortie, et le second orifice de sortie est en communication avec un orifice à vide de l'unité de cuve à circulation par l'intermédiaire de la conduite à vide.</description><language>eng ; fre</language><subject>INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES ; MEASURING ; PHYSICS ; TESTING</subject><creationdate>2022</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20220728&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2022156374A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25563,76318</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20220728&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2022156374A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>NAVA, Simon</creatorcontrib><creatorcontrib>YUAN, Juntao</creatorcontrib><creatorcontrib>TANG, Linqun</creatorcontrib><creatorcontrib>SHI, Liang</creatorcontrib><title>FLUID SYSTEM AND SAMPLE PROCESSOR INCLUDING FLUID SYSTEM</title><description>The present disclosure relates to a fluid system for a sample processor and a sample processor including the fluid system. The fluid system includes a sample line, a processing fluid line, a vacuum line, and an air pump. The sample line communicates a sample container with a sample port of a flow cell unit. The processing fluid line communicates a sheath fluid container with a processing fluid port of the flow cell unit. The vacuum line is in communication with the flow cell unit. The air pump includes a first output port and a second output port. Pressurized gas is generated at the first output port, and the first output port is in communication with the sample container and the sheath fluid container. A vacuum is generated at the second output port, and the second output port is in communication with a vacuum port of the flow cell unit through the vacuum line.
La présente divulgation concerne un système de fluide pour un processeur d'échantillon et un processeur d'échantillon comprenant le système de fluide. Le système de fluide comprend une conduite d'échantillon, une conduite de fluide de traitement, une conduite à vide et une pompe à air. La conduite d'échantillon relie un récipient d'échantillon avec un orifice d'échantillon d'une unité de cuve à circulation. La conduite de fluide de traitement relie un récipient de fluide de gaine avec un orifice de fluide de traitement de l'unité de cuve à circulation. La conduite à vide est en communication avec l'unité de cuve à circulation. La pompe à air comprend un premier orifice de sortie et un second orifice de sortie. Du gaz sous pression est généré au niveau du premier orifice de sortie, et le premier orifice de sortie est en communication avec le récipient d'échantillon et le récipient de fluide de gaine. Un vide est généré au niveau du second orifice de sortie, et le second orifice de sortie est en communication avec un orifice à vide de l'unité de cuve à circulation par l'intermédiaire de la conduite à vide.</description><subject>INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES</subject><subject>MEASURING</subject><subject>PHYSICS</subject><subject>TESTING</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2022</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZLBw8wn1dFEIjgwOcfVVcPQDMh19A3xcFQKC_J1dg4P9gxQ8_Zx9Ql08_dwVkNXyMLCmJeYUp_JCaW4GZTfXEGcP3dSC_PjU4oLE5NS81JL4cH8jAyMjQ1MzY3MTR0Nj4lQBABjsKZM</recordid><startdate>20220728</startdate><enddate>20220728</enddate><creator>NAVA, Simon</creator><creator>YUAN, Juntao</creator><creator>TANG, Linqun</creator><creator>SHI, Liang</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20220728</creationdate><title>FLUID SYSTEM AND SAMPLE PROCESSOR INCLUDING FLUID SYSTEM</title><author>NAVA, Simon ; YUAN, Juntao ; TANG, Linqun ; SHI, Liang</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2022156374A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2022</creationdate><topic>INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES</topic><topic>MEASURING</topic><topic>PHYSICS</topic><topic>TESTING</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>NAVA, Simon</creatorcontrib><creatorcontrib>YUAN, Juntao</creatorcontrib><creatorcontrib>TANG, Linqun</creatorcontrib><creatorcontrib>SHI, Liang</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>NAVA, Simon</au><au>YUAN, Juntao</au><au>TANG, Linqun</au><au>SHI, Liang</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>FLUID SYSTEM AND SAMPLE PROCESSOR INCLUDING FLUID SYSTEM</title><date>2022-07-28</date><risdate>2022</risdate><abstract>The present disclosure relates to a fluid system for a sample processor and a sample processor including the fluid system. The fluid system includes a sample line, a processing fluid line, a vacuum line, and an air pump. The sample line communicates a sample container with a sample port of a flow cell unit. The processing fluid line communicates a sheath fluid container with a processing fluid port of the flow cell unit. The vacuum line is in communication with the flow cell unit. The air pump includes a first output port and a second output port. Pressurized gas is generated at the first output port, and the first output port is in communication with the sample container and the sheath fluid container. A vacuum is generated at the second output port, and the second output port is in communication with a vacuum port of the flow cell unit through the vacuum line.
La présente divulgation concerne un système de fluide pour un processeur d'échantillon et un processeur d'échantillon comprenant le système de fluide. Le système de fluide comprend une conduite d'échantillon, une conduite de fluide de traitement, une conduite à vide et une pompe à air. La conduite d'échantillon relie un récipient d'échantillon avec un orifice d'échantillon d'une unité de cuve à circulation. La conduite de fluide de traitement relie un récipient de fluide de gaine avec un orifice de fluide de traitement de l'unité de cuve à circulation. La conduite à vide est en communication avec l'unité de cuve à circulation. La pompe à air comprend un premier orifice de sortie et un second orifice de sortie. Du gaz sous pression est généré au niveau du premier orifice de sortie, et le premier orifice de sortie est en communication avec le récipient d'échantillon et le récipient de fluide de gaine. Un vide est généré au niveau du second orifice de sortie, et le second orifice de sortie est en communication avec un orifice à vide de l'unité de cuve à circulation par l'intermédiaire de la conduite à vide.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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