COMPOSITIONS AND METHODS FOR PROTECTING ORGANIC POLYMERIC MATERIALS FROM THE DELETERIOUS EFFECTS EXPOSURE TO UV-C LIGHT

Polymer compositions for making stabilized polymeric articles that are resistant to at least one deleterious effect of discoloration, cracking, or crazing upon exposure to UV- C (190-280 nm) light are provided herein, wherein the polymer compositions include: (i) an organic polymeric material; and (...

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Hauptverfasser: GUPTA, Ram B, SANTAMARIA, Thomas, O'CONNOR, Kyle, ENG, Jerry Mon-Hei, CHO, Jian-Yang, LI, Xin, WANG, Min
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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creator GUPTA, Ram B
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description Polymer compositions for making stabilized polymeric articles that are resistant to at least one deleterious effect of discoloration, cracking, or crazing upon exposure to UV- C (190-280 nm) light are provided herein, wherein the polymer compositions include: (i) an organic polymeric material; and (ii) a stabilizer composition comprising: an antioxidant selected from the group consisting of hindered phenols, phosphites and phosphonites, and mixtures thereof; and a light stabilizer selected from the group consisting of hindered amine light stabilizers (HALS), UV absorbers (UVA), hindered benzoates, and mixtures thereof, even where barium compounds (such as barium salts) are absent from the stabilizer composition, and with the proviso that the HALS is not bis(2,2,6,6,-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate (TINUVIN™ 770) alone. At least one of reduced discoloration, cracking, or crazing upon exposure to UV-C light is associated with the use of the light stabilizer in combination with the antioxidant compared to the antioxidant in the absence of the light stabilizer. Methods of stabilizing organic polymeric materials against the deleterious effects of UV-C light by adding to the organic polymeric materials the antioxidant and the light stabilizer, are also provided. L'invention concerne des compositions polymères pour la fabrication d'articles polymères stabilisés qui sont résistantes à au moins un effet délétère parmi le décoloration, la fissuration ou le craquèlement par l'exposition à des UV-C (190-280 nm), les compositions polymères comprenant : (I) un matériau polymère organique ; et (ii) une composition stabilisante comprenant : un antioxydant choisi dans le groupe constitué par les phénols encombrés, les phosphites et les phosphonites, et des mélanges de ceux-ci ; et un photostabilisant choisi dans le groupe constitué par les photostabilisants à amine encombrée (HALS), des agents absorbant les UV (UVA), les benzoates encombrés et des mélanges de ceux-ci, même lorsque des composés de baryum (tels que des sels de baryum) sont absents de la composition stabilisante, et à condition que la HALS ne soit pas le sébacate de bis (2,2,6,6,-tétraméthyl-4-pipéridyle) (TINUVIN™ 770) seul. La réduction d'au moins un parmi la décoloration, la fissuration ou le craquèlement par exposition à la lumière UV-C est associé à l'utilisation du photostabilisant en combinaison avec l'antioxydant par comparaison avec l'antioxydant en l'absence du photostabilisant. L'invention concer
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At least one of reduced discoloration, cracking, or crazing upon exposure to UV-C light is associated with the use of the light stabilizer in combination with the antioxidant compared to the antioxidant in the absence of the light stabilizer. Methods of stabilizing organic polymeric materials against the deleterious effects of UV-C light by adding to the organic polymeric materials the antioxidant and the light stabilizer, are also provided. L'invention concerne des compositions polymères pour la fabrication d'articles polymères stabilisés qui sont résistantes à au moins un effet délétère parmi le décoloration, la fissuration ou le craquèlement par l'exposition à des UV-C (190-280 nm), les compositions polymères comprenant : (I) un matériau polymère organique ; et (ii) une composition stabilisante comprenant : un antioxydant choisi dans le groupe constitué par les phénols encombrés, les phosphites et les phosphonites, et des mélanges de ceux-ci ; et un photostabilisant choisi dans le groupe constitué par les photostabilisants à amine encombrée (HALS), des agents absorbant les UV (UVA), les benzoates encombrés et des mélanges de ceux-ci, même lorsque des composés de baryum (tels que des sels de baryum) sont absents de la composition stabilisante, et à condition que la HALS ne soit pas le sébacate de bis (2,2,6,6,-tétraméthyl-4-pipéridyle) (TINUVIN™ 770) seul. 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L'invention concerne des compositions polymères pour la fabrication d'articles polymères stabilisés qui sont résistantes à au moins un effet délétère parmi le décoloration, la fissuration ou le craquèlement par l'exposition à des UV-C (190-280 nm), les compositions polymères comprenant : (I) un matériau polymère organique ; et (ii) une composition stabilisante comprenant : un antioxydant choisi dans le groupe constitué par les phénols encombrés, les phosphites et les phosphonites, et des mélanges de ceux-ci ; et un photostabilisant choisi dans le groupe constitué par les photostabilisants à amine encombrée (HALS), des agents absorbant les UV (UVA), les benzoates encombrés et des mélanges de ceux-ci, même lorsque des composés de baryum (tels que des sels de baryum) sont absents de la composition stabilisante, et à condition que la HALS ne soit pas le sébacate de bis (2,2,6,6,-tétraméthyl-4-pipéridyle) (TINUVIN™ 770) seul. 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