ARC LAMP WITH FORMING GAS FOR THERMAL PROCESSING SYSTEMS
Apparatus, systems, and methods for processing workpieces are provided. An arc lamp can include a tube. The arc lamp can include one or more inlets configured to receive water to be circulated through the arc lamp during operation as a water wall, the water wall configured to cool the arc lamp. The...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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container_end_page | |
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container_issue | |
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container_title | |
container_volume | |
creator | BREMENSDORFER, Rolf CAMM, Dave MA, Shawming CIBERE, Joseph HEZLER, Dieter YANG, Yun YANG, Michael X |
description | Apparatus, systems, and methods for processing workpieces are provided. An arc lamp can include a tube. The arc lamp can include one or more inlets configured to receive water to be circulated through the arc lamp during operation as a water wall, the water wall configured to cool the arc lamp. The arc lamp can include a plurality of electrodes configured to generate a plasma in a forming gas introduced into the arc lamp via the one or more inlets. The forming gas can be or can include a mixture of a hydrogen gas and an inert gas, the hydrogen gas in the mixture having a concentration less than 4% by volume. The hydrogen gas can be introduced into the arc lamp prior to generating the plasma. The arc lamp may be used for processing workpieces.
L'invention concerne un appareil, des systèmes et des procédés pour traiter des pièces. Une lampe à arc peut comprendre un tube. La lampe à arc peut comprendre une ou plusieurs entrées configurées pour recevoir de l'eau à faire circuler à travers la lampe à arc pendant le fonctionnement sous forme de mur d'eau, le mur d'eau étant configuré pour refroidir la lampe à arc. La lampe à arc peut comprendre une pluralité d'électrodes configurées pour générer un plasma dans un gaz de formation introduit dans la lampe à arc par l'intermédiaire de la ou des entrées. Le gaz de formation peut être ou peut inclure un mélange d'un gaz d'hydrogène et d'un gaz inerte, le gaz d'hydrogène dans le mélange ayant une concentration inférieure à 4% en volume. Le gaz d'hydrogène peut être introduit dans la lampe à arc avant la génération du plasma. La lampe à arc peut être utilisée pour traiter des pièces. |
format | Patent |
fullrecord | <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_WO2022115275A1</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>WO2022115275A1</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_WO2022115275A13</originalsourceid><addsrcrecordid>eNrjZLBwDHJW8HH0DVAI9wzxUHDzD_L19HNXcHcMBrEVQjxcg3wdfRQCgvydXYODQVLBkcEhrr7BPAysaYk5xam8UJqbQdnNNcTZQze1ID8-tbggMTk1L7UkPtzfyMDIyNDQ1Mjc1NHQmDhVAPh0KVc</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>ARC LAMP WITH FORMING GAS FOR THERMAL PROCESSING SYSTEMS</title><source>esp@cenet</source><creator>BREMENSDORFER, Rolf ; CAMM, Dave ; MA, Shawming ; CIBERE, Joseph ; HEZLER, Dieter ; YANG, Yun ; YANG, Michael X</creator><creatorcontrib>BREMENSDORFER, Rolf ; CAMM, Dave ; MA, Shawming ; CIBERE, Joseph ; HEZLER, Dieter ; YANG, Yun ; YANG, Michael X</creatorcontrib><description>Apparatus, systems, and methods for processing workpieces are provided. An arc lamp can include a tube. The arc lamp can include one or more inlets configured to receive water to be circulated through the arc lamp during operation as a water wall, the water wall configured to cool the arc lamp. The arc lamp can include a plurality of electrodes configured to generate a plasma in a forming gas introduced into the arc lamp via the one or more inlets. The forming gas can be or can include a mixture of a hydrogen gas and an inert gas, the hydrogen gas in the mixture having a concentration less than 4% by volume. The hydrogen gas can be introduced into the arc lamp prior to generating the plasma. The arc lamp may be used for processing workpieces.
L'invention concerne un appareil, des systèmes et des procédés pour traiter des pièces. Une lampe à arc peut comprendre un tube. La lampe à arc peut comprendre une ou plusieurs entrées configurées pour recevoir de l'eau à faire circuler à travers la lampe à arc pendant le fonctionnement sous forme de mur d'eau, le mur d'eau étant configuré pour refroidir la lampe à arc. La lampe à arc peut comprendre une pluralité d'électrodes configurées pour générer un plasma dans un gaz de formation introduit dans la lampe à arc par l'intermédiaire de la ou des entrées. Le gaz de formation peut être ou peut inclure un mélange d'un gaz d'hydrogène et d'un gaz inerte, le gaz d'hydrogène dans le mélange ayant une concentration inférieure à 4% en volume. Le gaz d'hydrogène peut être introduit dans la lampe à arc avant la génération du plasma. La lampe à arc peut être utilisée pour traiter des pièces.</description><language>eng ; fre</language><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRICITY ; SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><creationdate>2022</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20220602&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2022115275A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25543,76293</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20220602&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2022115275A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>BREMENSDORFER, Rolf</creatorcontrib><creatorcontrib>CAMM, Dave</creatorcontrib><creatorcontrib>MA, Shawming</creatorcontrib><creatorcontrib>CIBERE, Joseph</creatorcontrib><creatorcontrib>HEZLER, Dieter</creatorcontrib><creatorcontrib>YANG, Yun</creatorcontrib><creatorcontrib>YANG, Michael X</creatorcontrib><title>ARC LAMP WITH FORMING GAS FOR THERMAL PROCESSING SYSTEMS</title><description>Apparatus, systems, and methods for processing workpieces are provided. An arc lamp can include a tube. The arc lamp can include one or more inlets configured to receive water to be circulated through the arc lamp during operation as a water wall, the water wall configured to cool the arc lamp. The arc lamp can include a plurality of electrodes configured to generate a plasma in a forming gas introduced into the arc lamp via the one or more inlets. The forming gas can be or can include a mixture of a hydrogen gas and an inert gas, the hydrogen gas in the mixture having a concentration less than 4% by volume. The hydrogen gas can be introduced into the arc lamp prior to generating the plasma. The arc lamp may be used for processing workpieces.
L'invention concerne un appareil, des systèmes et des procédés pour traiter des pièces. Une lampe à arc peut comprendre un tube. La lampe à arc peut comprendre une ou plusieurs entrées configurées pour recevoir de l'eau à faire circuler à travers la lampe à arc pendant le fonctionnement sous forme de mur d'eau, le mur d'eau étant configuré pour refroidir la lampe à arc. La lampe à arc peut comprendre une pluralité d'électrodes configurées pour générer un plasma dans un gaz de formation introduit dans la lampe à arc par l'intermédiaire de la ou des entrées. Le gaz de formation peut être ou peut inclure un mélange d'un gaz d'hydrogène et d'un gaz inerte, le gaz d'hydrogène dans le mélange ayant une concentration inférieure à 4% en volume. Le gaz d'hydrogène peut être introduit dans la lampe à arc avant la génération du plasma. La lampe à arc peut être utilisée pour traiter des pièces.</description><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</subject><subject>ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS</subject><subject>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2022</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZLBwDHJW8HH0DVAI9wzxUHDzD_L19HNXcHcMBrEVQjxcg3wdfRQCgvydXYODQVLBkcEhrr7BPAysaYk5xam8UJqbQdnNNcTZQze1ID8-tbggMTk1L7UkPtzfyMDIyNDQ1Mjc1NHQmDhVAPh0KVc</recordid><startdate>20220602</startdate><enddate>20220602</enddate><creator>BREMENSDORFER, Rolf</creator><creator>CAMM, Dave</creator><creator>MA, Shawming</creator><creator>CIBERE, Joseph</creator><creator>HEZLER, Dieter</creator><creator>YANG, Yun</creator><creator>YANG, Michael X</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20220602</creationdate><title>ARC LAMP WITH FORMING GAS FOR THERMAL PROCESSING SYSTEMS</title><author>BREMENSDORFER, Rolf ; CAMM, Dave ; MA, Shawming ; CIBERE, Joseph ; HEZLER, Dieter ; YANG, Yun ; YANG, Michael X</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2022115275A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2022</creationdate><topic>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</topic><topic>ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS</topic><topic>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>SEMICONDUCTOR DEVICES</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>BREMENSDORFER, Rolf</creatorcontrib><creatorcontrib>CAMM, Dave</creatorcontrib><creatorcontrib>MA, Shawming</creatorcontrib><creatorcontrib>CIBERE, Joseph</creatorcontrib><creatorcontrib>HEZLER, Dieter</creatorcontrib><creatorcontrib>YANG, Yun</creatorcontrib><creatorcontrib>YANG, Michael X</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>BREMENSDORFER, Rolf</au><au>CAMM, Dave</au><au>MA, Shawming</au><au>CIBERE, Joseph</au><au>HEZLER, Dieter</au><au>YANG, Yun</au><au>YANG, Michael X</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>ARC LAMP WITH FORMING GAS FOR THERMAL PROCESSING SYSTEMS</title><date>2022-06-02</date><risdate>2022</risdate><abstract>Apparatus, systems, and methods for processing workpieces are provided. An arc lamp can include a tube. The arc lamp can include one or more inlets configured to receive water to be circulated through the arc lamp during operation as a water wall, the water wall configured to cool the arc lamp. The arc lamp can include a plurality of electrodes configured to generate a plasma in a forming gas introduced into the arc lamp via the one or more inlets. The forming gas can be or can include a mixture of a hydrogen gas and an inert gas, the hydrogen gas in the mixture having a concentration less than 4% by volume. The hydrogen gas can be introduced into the arc lamp prior to generating the plasma. The arc lamp may be used for processing workpieces.
L'invention concerne un appareil, des systèmes et des procédés pour traiter des pièces. Une lampe à arc peut comprendre un tube. La lampe à arc peut comprendre une ou plusieurs entrées configurées pour recevoir de l'eau à faire circuler à travers la lampe à arc pendant le fonctionnement sous forme de mur d'eau, le mur d'eau étant configuré pour refroidir la lampe à arc. La lampe à arc peut comprendre une pluralité d'électrodes configurées pour générer un plasma dans un gaz de formation introduit dans la lampe à arc par l'intermédiaire de la ou des entrées. Le gaz de formation peut être ou peut inclure un mélange d'un gaz d'hydrogène et d'un gaz inerte, le gaz d'hydrogène dans le mélange ayant une concentration inférieure à 4% en volume. Le gaz d'hydrogène peut être introduit dans la lampe à arc avant la génération du plasma. La lampe à arc peut être utilisée pour traiter des pièces.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
fulltext | fulltext_linktorsrc |
identifier | |
ispartof | |
issn | |
language | eng ; fre |
recordid | cdi_epo_espacenet_WO2022115275A1 |
source | esp@cenet |
subjects | BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY SEMICONDUCTOR DEVICES |
title | ARC LAMP WITH FORMING GAS FOR THERMAL PROCESSING SYSTEMS |
url | https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-01-24T23%3A27%3A36IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=BREMENSDORFER,%20Rolf&rft.date=2022-06-02&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EWO2022115275A1%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true |