HIGH ACCURACY TEMPERATURE-COMPENSATED PIEZORESISTIVE POSITION SENSING SYSTEM
A micromirror array comprises a substrate, a plurality of mirrors for reflecting incident light and, for each mirror of the plurality of mirrors, at least one piezoelectric actuator for displacing the mirror, wherein the at least one piezoelectric actuator is connected to the substrate. The micromir...
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| Format: | Patent |
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| creator | GOORDEN, Sebastianus HUMBLET, Alexis HASPESLAGH, Luc OSORIO OLIVEROS, Edgar KLEIN, Alexander OVERKAMP, Jim YEGEN, Halil PANDEY, Nitesh VAN DER WOORD, Ties BRONDANI TORRI, Guilherme |
| description | A micromirror array comprises a substrate, a plurality of mirrors for reflecting incident light and, for each mirror of the plurality of mirrors, at least one piezoelectric actuator for displacing the mirror, wherein the at least one piezoelectric actuator is connected to the substrate. The micromirror array further comprises one or more pillars connecting the mirror to the at least one piezoelectric actuator. Also disclosed is a method of forming such a micromirror array. The micromirror array may be used in a programmable illuminator. The programmable illuminator may be used in a lithographic apparatus and/or in an inspection and/or metrology apparatus.
La présente invention concerne un réseau de micromiroirs qui comprend un substrat, une pluralité de miroirs servant à réfléchir la lumière incidente et, pour chaque miroir (20) de la pluralité de miroirs, au moins un actionneur piézoélectrique (21) servant à déplacer le miroir, le ou les actionneurs piézoélectriques étant connectés au substrat. Le réseau de micromiroirs comprend en outre un ou plusieurs piliers reliant le miroir au ou aux actionneurs piézoélectriques. L'invention concerne également un procédé de formation d'un tel réseau de micromiroirs. Le réseau de micromiroirs peut être utilisé dans un illuminateur programmable. L'illuminateur programmable peut être utilisé dans un appareil lithographique et/ou dans un appareil d'inspection et/ou dans un appareil de métrologie. |
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La présente invention concerne un réseau de micromiroirs qui comprend un substrat, une pluralité de miroirs servant à réfléchir la lumière incidente et, pour chaque miroir (20) de la pluralité de miroirs, au moins un actionneur piézoélectrique (21) servant à déplacer le miroir, le ou les actionneurs piézoélectriques étant connectés au substrat. Le réseau de micromiroirs comprend en outre un ou plusieurs piliers reliant le miroir au ou aux actionneurs piézoélectriques. L'invention concerne également un procédé de formation d'un tel réseau de micromiroirs. Le réseau de micromiroirs peut être utilisé dans un illuminateur programmable. L'illuminateur programmable peut être utilisé dans un appareil lithographique et/ou dans un appareil d'inspection et/ou dans un appareil de métrologie.</description><language>eng ; fre</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CINEMATOGRAPHY ; ELECTRICITY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICALDEVICES ; MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY ; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS ; OPTICS ; ORIGINALS THEREFOR ; PERFORMING OPERATIONS ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS ; TRANSPORTING</subject><creationdate>2022</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20220602&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2022111975A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25543,76292</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20220602&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2022111975A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>GOORDEN, Sebastianus</creatorcontrib><creatorcontrib>HUMBLET, Alexis</creatorcontrib><creatorcontrib>HASPESLAGH, Luc</creatorcontrib><creatorcontrib>OSORIO OLIVEROS, Edgar</creatorcontrib><creatorcontrib>KLEIN, Alexander</creatorcontrib><creatorcontrib>OVERKAMP, Jim</creatorcontrib><creatorcontrib>YEGEN, Halil</creatorcontrib><creatorcontrib>PANDEY, Nitesh</creatorcontrib><creatorcontrib>VAN DER WOORD, Ties</creatorcontrib><creatorcontrib>BRONDANI TORRI, Guilherme</creatorcontrib><title>HIGH ACCURACY TEMPERATURE-COMPENSATED PIEZORESISTIVE POSITION SENSING SYSTEM</title><description>A micromirror array comprises a substrate, a plurality of mirrors for reflecting incident light and, for each mirror of the plurality of mirrors, at least one piezoelectric actuator for displacing the mirror, wherein the at least one piezoelectric actuator is connected to the substrate. The micromirror array further comprises one or more pillars connecting the mirror to the at least one piezoelectric actuator. Also disclosed is a method of forming such a micromirror array. The micromirror array may be used in a programmable illuminator. The programmable illuminator may be used in a lithographic apparatus and/or in an inspection and/or metrology apparatus.
La présente invention concerne un réseau de micromiroirs qui comprend un substrat, une pluralité de miroirs servant à réfléchir la lumière incidente et, pour chaque miroir (20) de la pluralité de miroirs, au moins un actionneur piézoélectrique (21) servant à déplacer le miroir, le ou les actionneurs piézoélectriques étant connectés au substrat. Le réseau de micromiroirs comprend en outre un ou plusieurs piliers reliant le miroir au ou aux actionneurs piézoélectriques. L'invention concerne également un procédé de formation d'un tel réseau de micromiroirs. Le réseau de micromiroirs peut être utilisé dans un illuminateur programmable. L'illuminateur programmable peut être utilisé dans un appareil lithographique et/ou dans un appareil d'inspection et/ou dans un appareil de métrologie.</description><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>MATERIALS THEREFOR</subject><subject>MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICALDEVICES</subject><subject>MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY</subject><subject>OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS</subject><subject>OPTICS</subject><subject>ORIGINALS THEREFOR</subject><subject>PERFORMING OPERATIONS</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</subject><subject>PHYSICS</subject><subject>TRANSPORTING</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2022</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZPDx8HT3UHB0dg4NcnSOVAhx9Q1wDXIMCQ1y1XX2B7L9gh1DXF0UAjxdo_yDXIM9g0M8w1wVAvyDPUM8_f0UgoEKPP3cFYIjg4FaeRhY0xJzilN5oTQ3g7Kba4izh25qQX58anFBYnJqXmpJfLi_kYGRkaGhoaW5qaOhMXGqANM7L64</recordid><startdate>20220602</startdate><enddate>20220602</enddate><creator>GOORDEN, Sebastianus</creator><creator>HUMBLET, Alexis</creator><creator>HASPESLAGH, Luc</creator><creator>OSORIO OLIVEROS, Edgar</creator><creator>KLEIN, Alexander</creator><creator>OVERKAMP, Jim</creator><creator>YEGEN, Halil</creator><creator>PANDEY, Nitesh</creator><creator>VAN DER WOORD, Ties</creator><creator>BRONDANI TORRI, Guilherme</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20220602</creationdate><title>HIGH ACCURACY TEMPERATURE-COMPENSATED PIEZORESISTIVE POSITION SENSING SYSTEM</title><author>GOORDEN, Sebastianus ; HUMBLET, Alexis ; HASPESLAGH, Luc ; OSORIO OLIVEROS, Edgar ; KLEIN, Alexander ; OVERKAMP, Jim ; YEGEN, Halil ; PANDEY, Nitesh ; VAN DER WOORD, Ties ; BRONDANI TORRI, Guilherme</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2022111975A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2022</creationdate><topic>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</topic><topic>CINEMATOGRAPHY</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>ELECTROGRAPHY</topic><topic>HOLOGRAPHY</topic><topic>MATERIALS THEREFOR</topic><topic>MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICALDEVICES</topic><topic>MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY</topic><topic>OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS</topic><topic>OPTICS</topic><topic>ORIGINALS THEREFOR</topic><topic>PERFORMING OPERATIONS</topic><topic>PHOTOGRAPHY</topic><topic>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</topic><topic>PHYSICS</topic><topic>TRANSPORTING</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>GOORDEN, Sebastianus</creatorcontrib><creatorcontrib>HUMBLET, Alexis</creatorcontrib><creatorcontrib>HASPESLAGH, Luc</creatorcontrib><creatorcontrib>OSORIO OLIVEROS, Edgar</creatorcontrib><creatorcontrib>KLEIN, Alexander</creatorcontrib><creatorcontrib>OVERKAMP, Jim</creatorcontrib><creatorcontrib>YEGEN, Halil</creatorcontrib><creatorcontrib>PANDEY, Nitesh</creatorcontrib><creatorcontrib>VAN DER WOORD, Ties</creatorcontrib><creatorcontrib>BRONDANI TORRI, Guilherme</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>GOORDEN, Sebastianus</au><au>HUMBLET, Alexis</au><au>HASPESLAGH, Luc</au><au>OSORIO OLIVEROS, Edgar</au><au>KLEIN, Alexander</au><au>OVERKAMP, Jim</au><au>YEGEN, Halil</au><au>PANDEY, Nitesh</au><au>VAN DER WOORD, Ties</au><au>BRONDANI TORRI, Guilherme</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>HIGH ACCURACY TEMPERATURE-COMPENSATED PIEZORESISTIVE POSITION SENSING SYSTEM</title><date>2022-06-02</date><risdate>2022</risdate><abstract>A micromirror array comprises a substrate, a plurality of mirrors for reflecting incident light and, for each mirror of the plurality of mirrors, at least one piezoelectric actuator for displacing the mirror, wherein the at least one piezoelectric actuator is connected to the substrate. The micromirror array further comprises one or more pillars connecting the mirror to the at least one piezoelectric actuator. Also disclosed is a method of forming such a micromirror array. The micromirror array may be used in a programmable illuminator. The programmable illuminator may be used in a lithographic apparatus and/or in an inspection and/or metrology apparatus.
La présente invention concerne un réseau de micromiroirs qui comprend un substrat, une pluralité de miroirs servant à réfléchir la lumière incidente et, pour chaque miroir (20) de la pluralité de miroirs, au moins un actionneur piézoélectrique (21) servant à déplacer le miroir, le ou les actionneurs piézoélectriques étant connectés au substrat. Le réseau de micromiroirs comprend en outre un ou plusieurs piliers reliant le miroir au ou aux actionneurs piézoélectriques. L'invention concerne également un procédé de formation d'un tel réseau de micromiroirs. Le réseau de micromiroirs peut être utilisé dans un illuminateur programmable. L'illuminateur programmable peut être utilisé dans un appareil lithographique et/ou dans un appareil d'inspection et/ou dans un appareil de métrologie.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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