PLASMA DISCHARGE UNIFORMITY CONTROL USING MAGNETIC FIELDS
Methods, systems, apparatuses, and computer programs are presented for controlling plasma discharge uniformity using magnetic fields. A substrate processing apparatus includes a vacuum chamber with a processing zone for processing a substrate. The apparatus further includes a magnetic field sensor t...
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| Format: | Patent |
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| creator | MARAKHTANOV, Alexei M DE LA LLERA, Anthony JI, Bing HOLLAND, John P PAENG, Dong Woo PANAGOPOULOS, Theodoros |
| description | Methods, systems, apparatuses, and computer programs are presented for controlling plasma discharge uniformity using magnetic fields. A substrate processing apparatus includes a vacuum chamber with a processing zone for processing a substrate. The apparatus further includes a magnetic field sensor to detect a first signal representing an axial magnetic field and a second signal representing a radial magnetic field associated with the vacuum chamber. The apparatus includes at least two magnetic field sources to generate an axial supplemental magnetic field and a radial supplemental magnetic field through the processing zone of the vacuum chamber. The apparatus includes a magnetic field controller coupled to the magnetic field sensor and the at least two magnetic field sources. The magnetic field controller adjusts at least one characteristic of one or more of the axial supplemental magnetic field and the radial supplemental magnetic field based on the first signal and the second signal.
L'invention concerne des procédés, des systèmes, des appareils et des programmes informatiques permettant de commander l'uniformité d'une décharge de plasma au moyen de champs magnétiques. Un appareil de traitement de substrat comprend une chambre à vide comportant une zone de traitement pour le traitement d'un substrat. L'appareil comprend en outre un capteur de champ magnétique qui détecte un premier signal représentant un champ magnétique axial, et un second signal représentant un champ magnétique radial associé à la chambre à vide. L'appareil comprend au moins deux sources de champ magnétique qui génèrent un champ magnétique axial supplémentaire et un champ magnétique radial supplémentaire à travers la zone de traitement de la chambre à vide. L'appareil comprend un dispositif de commande de champ magnétique couplé au capteur de champ magnétique et aux au moins deux sources de champ magnétique. Le dispositif de commande de champ magnétique règle au moins une caractéristique du champ magnétique axial supplémentaire et/ou du champ magnétique radial supplémentaire sur la base du premier signal et du second signal. |
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L'invention concerne des procédés, des systèmes, des appareils et des programmes informatiques permettant de commander l'uniformité d'une décharge de plasma au moyen de champs magnétiques. Un appareil de traitement de substrat comprend une chambre à vide comportant une zone de traitement pour le traitement d'un substrat. L'appareil comprend en outre un capteur de champ magnétique qui détecte un premier signal représentant un champ magnétique axial, et un second signal représentant un champ magnétique radial associé à la chambre à vide. L'appareil comprend au moins deux sources de champ magnétique qui génèrent un champ magnétique axial supplémentaire et un champ magnétique radial supplémentaire à travers la zone de traitement de la chambre à vide. L'appareil comprend un dispositif de commande de champ magnétique couplé au capteur de champ magnétique et aux au moins deux sources de champ magnétique. Le dispositif de commande de champ magnétique règle au moins une caractéristique du champ magnétique axial supplémentaire et/ou du champ magnétique radial supplémentaire sur la base du premier signal et du second signal.</description><language>eng ; fre</language><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ; ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRICITY ; PLASMA TECHNIQUE ; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OFNEUTRONS ; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMICBEAMS</subject><creationdate>2022</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20220324&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2022060562A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25563,76418</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20220324&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2022060562A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>MARAKHTANOV, Alexei M</creatorcontrib><creatorcontrib>DE LA LLERA, Anthony</creatorcontrib><creatorcontrib>JI, Bing</creatorcontrib><creatorcontrib>HOLLAND, John P</creatorcontrib><creatorcontrib>PAENG, Dong Woo</creatorcontrib><creatorcontrib>PANAGOPOULOS, Theodoros</creatorcontrib><title>PLASMA DISCHARGE UNIFORMITY CONTROL USING MAGNETIC FIELDS</title><description>Methods, systems, apparatuses, and computer programs are presented for controlling plasma discharge uniformity using magnetic fields. A substrate processing apparatus includes a vacuum chamber with a processing zone for processing a substrate. The apparatus further includes a magnetic field sensor to detect a first signal representing an axial magnetic field and a second signal representing a radial magnetic field associated with the vacuum chamber. The apparatus includes at least two magnetic field sources to generate an axial supplemental magnetic field and a radial supplemental magnetic field through the processing zone of the vacuum chamber. The apparatus includes a magnetic field controller coupled to the magnetic field sensor and the at least two magnetic field sources. The magnetic field controller adjusts at least one characteristic of one or more of the axial supplemental magnetic field and the radial supplemental magnetic field based on the first signal and the second signal.
L'invention concerne des procédés, des systèmes, des appareils et des programmes informatiques permettant de commander l'uniformité d'une décharge de plasma au moyen de champs magnétiques. Un appareil de traitement de substrat comprend une chambre à vide comportant une zone de traitement pour le traitement d'un substrat. L'appareil comprend en outre un capteur de champ magnétique qui détecte un premier signal représentant un champ magnétique axial, et un second signal représentant un champ magnétique radial associé à la chambre à vide. L'appareil comprend au moins deux sources de champ magnétique qui génèrent un champ magnétique axial supplémentaire et un champ magnétique radial supplémentaire à travers la zone de traitement de la chambre à vide. L'appareil comprend un dispositif de commande de champ magnétique couplé au capteur de champ magnétique et aux au moins deux sources de champ magnétique. Le dispositif de commande de champ magnétique règle au moins une caractéristique du champ magnétique axial supplémentaire et/ou du champ magnétique radial supplémentaire sur la base du premier signal et du second signal.</description><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</subject><subject>ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS</subject><subject>ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>PLASMA TECHNIQUE</subject><subject>PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OFNEUTRONS</subject><subject>PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMICBEAMS</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2022</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZLAM8HEM9nVUcPEMdvZwDHJ3VQj183TzD_L1DIlUcPb3Cwny91EIDfb0c1fwdXT3cw3xdFZw83T1cQnmYWBNS8wpTuWF0twMym6uIc4euqkF-fGpxQWJyal5qSXx4f5GBkZGBmYGpmZGjobGxKkCAEK4KcY</recordid><startdate>20220324</startdate><enddate>20220324</enddate><creator>MARAKHTANOV, Alexei M</creator><creator>DE LA LLERA, Anthony</creator><creator>JI, Bing</creator><creator>HOLLAND, John P</creator><creator>PAENG, Dong Woo</creator><creator>PANAGOPOULOS, Theodoros</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20220324</creationdate><title>PLASMA DISCHARGE UNIFORMITY CONTROL USING MAGNETIC FIELDS</title><author>MARAKHTANOV, Alexei M ; DE LA LLERA, Anthony ; JI, Bing ; HOLLAND, John P ; PAENG, Dong Woo ; PANAGOPOULOS, Theodoros</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2022060562A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2022</creationdate><topic>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</topic><topic>ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS</topic><topic>ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>PLASMA TECHNIQUE</topic><topic>PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OFNEUTRONS</topic><topic>PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMICBEAMS</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>MARAKHTANOV, Alexei M</creatorcontrib><creatorcontrib>DE LA LLERA, Anthony</creatorcontrib><creatorcontrib>JI, Bing</creatorcontrib><creatorcontrib>HOLLAND, John P</creatorcontrib><creatorcontrib>PAENG, Dong Woo</creatorcontrib><creatorcontrib>PANAGOPOULOS, Theodoros</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>MARAKHTANOV, Alexei M</au><au>DE LA LLERA, Anthony</au><au>JI, Bing</au><au>HOLLAND, John P</au><au>PAENG, Dong Woo</au><au>PANAGOPOULOS, Theodoros</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>PLASMA DISCHARGE UNIFORMITY CONTROL USING MAGNETIC FIELDS</title><date>2022-03-24</date><risdate>2022</risdate><abstract>Methods, systems, apparatuses, and computer programs are presented for controlling plasma discharge uniformity using magnetic fields. A substrate processing apparatus includes a vacuum chamber with a processing zone for processing a substrate. The apparatus further includes a magnetic field sensor to detect a first signal representing an axial magnetic field and a second signal representing a radial magnetic field associated with the vacuum chamber. The apparatus includes at least two magnetic field sources to generate an axial supplemental magnetic field and a radial supplemental magnetic field through the processing zone of the vacuum chamber. The apparatus includes a magnetic field controller coupled to the magnetic field sensor and the at least two magnetic field sources. The magnetic field controller adjusts at least one characteristic of one or more of the axial supplemental magnetic field and the radial supplemental magnetic field based on the first signal and the second signal.
L'invention concerne des procédés, des systèmes, des appareils et des programmes informatiques permettant de commander l'uniformité d'une décharge de plasma au moyen de champs magnétiques. Un appareil de traitement de substrat comprend une chambre à vide comportant une zone de traitement pour le traitement d'un substrat. L'appareil comprend en outre un capteur de champ magnétique qui détecte un premier signal représentant un champ magnétique axial, et un second signal représentant un champ magnétique radial associé à la chambre à vide. L'appareil comprend au moins deux sources de champ magnétique qui génèrent un champ magnétique axial supplémentaire et un champ magnétique radial supplémentaire à travers la zone de traitement de la chambre à vide. L'appareil comprend un dispositif de commande de champ magnétique couplé au capteur de champ magnétique et aux au moins deux sources de champ magnétique. Le dispositif de commande de champ magnétique règle au moins une caractéristique du champ magnétique axial supplémentaire et/ou du champ magnétique radial supplémentaire sur la base du premier signal et du second signal.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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