BONDING DEVICE, BONDING SYSTEM, AND BONDING METHOD
The present invention provides a bonding device (41, 41A, 41B) for bonding substrates, the bonding device comprising a first holding unit (110), a second holding unit (120), a moving unit (130), a housing (100), an interferometer (160, 170), a first gas supply unit (140, 140B), and a second gas supp...
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Hauptverfasser: | , |
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre ; jpn |
Schlagworte: | |
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Zusammenfassung: | The present invention provides a bonding device (41, 41A, 41B) for bonding substrates, the bonding device comprising a first holding unit (110), a second holding unit (120), a moving unit (130), a housing (100), an interferometer (160, 170), a first gas supply unit (140, 140B), and a second gas supply unit (180, 180A). The first holding unit (110) holds a first substrate (W1) from above by attraction. The second holding unit (120) holds a second substrate (W2) from below by attraction. The moving unit (130) horizontally moves one of the first holding unit (110) and the second holding unit (120) relative to the other. The housing (100) contains the first holding unit (110), the second holding unit (120), and the moving unit (130). The interferometer (160, 170) is disposed inside the housing (100) and irradiates the one holding unit, or an object moving with the one holding unit, with light to measure a horizontal distance to the one holding unit or the object. The first gas supply unit (140, 140B) supplies a purified first gas into the housing (100). The second gas supply unit (180, 180A) supplies a second gas to a space between the one holding unit or the object that is irradiated with light and the interferometer (160, 170).
La présente invention concerne un dispositif de liaison (41, 41A, 41B) pour lier des substrats, le dispositif de liaison comprenant une première unité de maintien (110), une seconde unité de maintien (120), une unité de déplacement (130), un boîtier (100), un interféromètre (160, 170), une première unité d'alimentation en gaz (140, 140B) et une seconde unité d'alimentation en gaz (180, 180A). La première unité de maintien (110) maintient par attraction un premier substrat (W1) à partir du haut. La seconde unité de maintien (120) maintient par attraction un second substrat (W2) à partir du bas. L'unité de déplacement (130) déplace horizontalement l'une de la première unité de maintien (110) et de la seconde unité de maintien (120) l'une par rapport à l'autre. Le boîtier (100) contient la première unité de maintien (110), la seconde unité de maintien (120) et l'unité de déplacement (130). L'interféromètre (160, 170) est disposé à l'intérieur du boîtier (100) et irradie l'une des unités de maintien, ou un objet se déplaçant avec l'unité de maintien, avec de la lumière pour mesurer une distance horizontale par rapport à l'unité de maintien ou à l'objet. La première unité d'alimentation en gaz (140, 140B) fournit un premier gaz purifié dan |
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