APPARATUS AND SYSTEM INCLUDING HIGH ANGLE EXTRACTION OPTICS

A processing system may include a plasma chamber operable to generate a plasma, and an extraction assembly, arranged along a side of the plasma chamber. The extraction assembly may include an extraction plate including an extraction aperture, the extraction plate having a non-planar shape, and generating an extracted ion beam at a high angle of incidence with respect to a perpendicular to a plane of a substrate, when the plane of the substrate is arranged parallel to the side of the plasma chamber. Selon l'invention, un système de traitement peut comprendre une chambre à plasma utilisable pour générer un plasma, et un ensemble d'extraction, disposé le long d'un côté de la chambre à plasma. L'ensemble d'extraction peut comprendre une plaque d'extraction comprenant une ouverture d'extraction, la plaque d'extraction ayant une forme non plane, et la génération d'un faisceau ionique extrait à un angle d'incidence élevé par rapport à une perpendiculaire à un plan d'un substrat, lorsque le plan du substrat est disposé parallèlement au côté de la chambre à plasma.