PLASMA CLEANING METHODS FOR PROCESSING CHAMBERS

Embodiments of the present disclosure generally relate to clean methods for processing chambers, and more specifically relate to plasma clean methods for removing carbon films from surfaces within the processing chamber. A method for cleaning includes introducing a cleaning gas into a processing region within a processing chamber, where interior surfaces of the processing chamber have a coating containing amorphous carbon. The cleaning gas contains oxygen gas and a noble gas. The method also includes generating an ion coupled plasma (ICP) from the cleaning gas within an upper portion of the processing region and generating a bias across a substrate support in a lower portion of the processing region. The method further includes exposing the amorphous carbon to atomic oxygen ions produced from the oxygen gas and the ICP and removing the amorphous carbon from the interior surfaces with the atomic oxygen ions during a cleaning process. Des modes de réalisation de la présente divulgation concernent généralement des procédés de nettoyage pour des chambres de traitement, et plus spécifiquement des procédés de nettoyage au plasma visant à éliminer des films de carbone de surfaces à l'intérieur de la chambre de traitement. Un procédé de nettoyage consiste à introduire un gaz de nettoyage dans une région de traitement à l'intérieur d'une chambre de traitement, les surfaces intérieures de la chambre de traitement ayant un revêtement contenant du carbone amorphe. Le gaz de nettoyage contient de l'oxygène gazeux et un gaz noble. Le procédé consiste également à générer un plasma ionisé à couplage inductif (ICP) à partir du gaz de nettoyage à l'intérieur d'une partie supérieure de la région de traitement et à générer une polarisation à travers un support de substrat dans une partie inférieure de la région de traitement. Le procédé consiste en outre à exposer le carbone amorphe à des ions d'oxygène atomique produits à partir de l'oxygène gazeux et de l'ICP et à éliminer le carbone amorphe des surfaces intérieures au moyen des ions d'oxygène atomique pendant un processus de nettoyage.