ATMOSPHERIC-PRESSURE PLASMA CLEANING APPARATUS
A plasma cleaning apparatus, connected to a gas source and comprising: a cleaning apparatus body, having a gas supply chamber, an ionization part and a gas discharge chamber, wherein the ionization part is arranged between the gas supply chamber and the gas discharge chamber, the gas supply chamber...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | A plasma cleaning apparatus, connected to a gas source and comprising: a cleaning apparatus body, having a gas supply chamber, an ionization part and a gas discharge chamber, wherein the ionization part is arranged between the gas supply chamber and the gas discharge chamber, the gas supply chamber accommodates a gas inputted by the gas source and is configured to supply the gas to the ionization part, the ionization part has a first electrode and a second electrode which are arranged facing each other with a certain distance being maintained therebetween, the first electrode and second electrode are connected to a power supply, and the gas discharge chamber accommodates a plasma gas generated in an electrode reaction that takes place after electricity is passed between the first electrode and second electrode; and a jetting part connected to the cleaning apparatus body, the jetting part having a jetting through-hole allowing the passage of the plasma gas and an accumulating chamber connected between the jetting through-hole and the gas discharge chamber, the jetting through-hole connecting the gas discharge chamber with the outside of the jetting part. The atmospheric-pressure discharge of the plasma cleaning apparatus is suitable for large-scale continuous industrial production, with no need for expensive vacuum equipment, so costs are reduced.
L'invention concerne un appareil de nettoyage par plasma, relié à une source de gaz et comprenant : un corps d'appareil de nettoyage, ayant une chambre d'alimentation en gaz, une partie d'ionisation et une chambre de décharge de gaz, la partie d'ionisation étant disposée entre la chambre d'alimentation en gaz et la chambre de décharge de gaz, la chambre d'alimentation en gaz reçoit un gaz entré par la source de gaz et est conçue pour fournir le gaz à la partie d'ionisation, la partie d'ionisation comporte une première électrode et une seconde électrode qui sont disposées l'une en face de l'autre, une certaine distance étant maintenue entre elles, la première électrode et la seconde électrode étant connectées à une alimentation électrique, et la chambre de décharge de gaz reçoit un gaz plasma généré dans une réaction d'électrode qui a lieu après que l'électricité passe entre la première électrode et la seconde électrode ; et une partie d'éjection reliée au corps d'appareil de nettoyage, la partie d'éjection ayant un trou traversant d'éjection permettant le passage du gaz plasma et une chambre d'accumulation reliée |
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