LINEAR ARRANGEMENT FOR SUBSTRATE PROCESSING TOOLS

A substrate processing system includes a vacuum transfer module and a plurality of process modules defining respective processing chambers. The plurality of process modules includes a first row of the process modules arranged on a first side of the vacuum transfer module and a second row of the process modules arranged on a second side of the vacuum transfer module opposite the first side. Each of the plurality of process modules includes a gas box arranged above the process module and configured to selectively supply at least one gas and/or gas mixture into the processing chamber of the process module and a radio frequency (RF) generator configured to generate RF power to create plasma within the processing chamber. The RF generator is arranged above the process module and the gas box and the RF generator are arranged side-by-side above the process module. Système de traitement de substrat comprenant un module de transfert à vide et une pluralité de modules de traitement délimitant des chambres de traitement respectives. La pluralité de modules de traitement comprend une première rangée des modules de traitement disposée sur un premier côté du module de transfert à vide et une seconde rangée des modules de traitement disposée sur un second côté du module de transfert à vide opposé au premier côté. Chaque module de la pluralité de modules de traitement comprend une boîte à gaz disposée au-dessus du module de traitement et conçue pour apporter sélectivement au moins un gaz et/ou mélange gazeux dans la chambre de traitement du module de traitement et un générateur de fréquence radio (RF) conçu pour générer une puissance RF afin de créer un plasma à l'intérieur de la chambre de traitement. Le générateur RF est disposé au-dessus du module de traitement et la boîte à gaz et le générateur RF sont disposés côte à côte au-dessus du module de traitement.