OPTICAL SYSTEM, HEATING ARRANGEMENT, AND METHOD FOR HEATING AN OPTICAL ELEMENT IN AN OPTICAL SYSTEM

Die Erfindung betrifft ein optisches System, sowie eine Heizanordnung und ein Verfahren zum Heizen eines optischen Elements in einem optischen System. Ein optisches System, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, weist wenigstens ein optisches Element, welches eine optische Wirkfläche aufweist und für eine Arbeitswellenlänge von weniger als 30nm ausgelegt ist, eine Heizanordnung zum Heizen dieses optischen Elements, welche eine Mehrzahl von IR-Strahlern (101, 102, 103, 104, 401, 402, 403, 404) zur Beaufschlagung der optischen Wirkfläche mit IR-Strahlung aufweist, wobei diese IR-Strahler zur variablen Einstellung unterschiedlicher Heizprofile in dem optischen Element unabhängig voneinander ein- und ausschaltbar sind, und wenigstens eine Strahlformungseinheit (130, 231, 232, 233, 234, 430) zur Strahlungsformung der von den IR-Strahlern auf die optische Wirkfläche gelenkten IR-Strahlung auf. The invention relates to an optical system, to a heating arrangement and to a method for heating an optical element in an optical system. An optical system, in particular in a microlithographic projection exposure system, comprises: at least one optical element which comprises an optical active surface and is designed for a working wavelength of less than 30 nm; a heating arrangement which is intended for heating this optical element and has a plurality of IR radiators (101, 102, 103, 104, 401, 402, 403, 404) for subjecting the optical active surface to IR radiation, wherein the IR radiator can be switched on and off in order to variably adjust different heating profiles in the optical element independently of one another; and at least one beam shaping unit (130, 231, 232, 233, 234, 430) for shaping the IR radiation directed onto the optical active surface by the IR radiators. L'invention concerne un système optique, un système de chauffage et un procédé de chauffage d'un élément optique dans un système optique. Un système optique, en particulier dans un système d'exposition par projection microlithographique, comprend : au moins un élément optique qui comprend une surface active optique et qui est conçu pour une longueur d'onde de travail inférieure à 30 nm ; un système de chauffage qui est destiné à chauffer cet élément optique et qui comporte une pluralité de radiateurs IR (101, 102, 103, 104, 401, 402, 403, 404) servant à soumettre la surface optique active à un rayonnement IR, le radiateur IR pouvant être allumé et éteint afin d'ajus