SYSTEM AND METHOD FOR TILT CALCULATION BASED ON OVERLAY METROLOGY MEASUREMENTS
A metrology system includes a controller communicatively coupled to one or more metrology tools. In another embodiment, the controller includes one or more processors configured to execute program instructions causing the one or more processors to receive one or more overlay metrology measurements o...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | A metrology system includes a controller communicatively coupled to one or more metrology tools. In another embodiment, the controller includes one or more processors configured to execute program instructions causing the one or more processors to receive one or more overlay metrology measurements of one or more metrology targets of the metrology sample from the one or more metrology tools; determine tilt from the one or more measurement overlay measurements; and determine one or more correctables for at least one of one or more lithography tools or the one or more metrology tools to adjust for the tilt, where the one or more correctables are configured to reduce an amount of tilt in the sample or overlay inaccuracy of the one or more overlay metrology measurements. The program instructions further cause the one or more processors to predict tilt with a simulator based on at least the determined tilt.
La présente invention concerne un système de métrologie qui comprend un dispositif de commande couplé en communication à un ou plusieurs outils de métrologie. Dans un autre mode de réalisation, le dispositif de commande comprend un ou plusieurs processeurs configurés pour exécuter des instructions de programme amenant le ou les processeurs à recevoir une ou plusieurs mesures de métrologie de superposition d'une ou plusieurs cibles de métrologie de l'échantillon de métrologie en provenance du ou des outils de métrologie; déterminer une inclinaison à partir de la mesure ou des mesures de superposition de mesure; et déterminer un ou plusieurs correctifs pour au moins un outil parmi le ou les outils de lithographie ou le ou les outils de métrologie pour ajuster l'inclinaison, le ou les correctifs étant conçus pour réduire une quantité d'inclinaison dans l'échantillon ou l'imprécision de superposition de la mesure ou des mesures de métrologie de superposition. Les instructions de programme amènent en outre le ou les processeurs à prédire une inclinaison avec un simulateur sur la base d'au moins l'inclinaison déterminée. |
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