SUPPORTING AN OPTICAL ELEMENT
The present invention relates to an arrangement of a microlithographic imaging device, particularly for using light in the extreme UV (EUV) range, comprising a holding device (110) for holding an optical element (109), wherein the optical element (109) comprises an optical surface (109.1) and define...
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| Format: | Patent |
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| creator | ANSELM, Eugen KOERNER, Christian MUELLER, Christoph |
| description | The present invention relates to an arrangement of a microlithographic imaging device, particularly for using light in the extreme UV (EUV) range, comprising a holding device (110) for holding an optical element (109), wherein the optical element (109) comprises an optical surface (109.1) and defines a plane of main extension, in which the optical element (109) defines a radial direction and a circumferential direction. The holding device (110) comprises a base unit (110.1) and more than three separate holding units (110.2), wherein the base unit (110.1) comprises a plurality of support interface units (110.3), which are spaced apart from one another in the circumferential direction, for connecting the holding device (110) to a support structure (102.1). The holding units (110.2) are connected to the base unit (110.1) and disposed in a manner distributed along the circumferential direction and spaced apart from one another. The holding units (110.2) are configured to hold the optical element (109) with respect to the base unit (110.1 ). The base unit comprises at least one support membrane element (110.4), wherein the at least one support membrane element (110.4) predominantly extends along the circumferential direction and along the radial direction, wherein the at least one support membrane element (110.4) has a thickness dimension transversely to the circumferential direction and radial direction. The holding units (110.2) are disposed on a front side of the at least one support membrane element (110.4) that faces the optical element (109).
La présente invention concerne un agencement d'un dispositif d'imagerie microlithographique, en particulier pour utiliser de la lumière se trouvant dans la plage des UV extrêmes (EUV), comprenant un dispositif de maintien (110) servant à maintenir un élément optique (109), l'élément optique (109) comprenant une surface optique (109.1) et définissant un plan d'extension principale dans lequel l'élément optique (109) définit une direction radiale et une direction circonférentielle. Le dispositif de maintien (110) comprend une unité de base (110.1) et plus de trois unités de maintien indépendantes (110.2), l'unité de base (110.1) comprenant une pluralité d'unités d'interface de support (110.3) qui sont espacées les unes des autres dans la direction circonférentielle, servant à relier le dispositif de maintien (110) à une structure de support (102.1). Les unités de maintien (110.2) sont reliées à l'unité de base (110.1) |
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La présente invention concerne un agencement d'un dispositif d'imagerie microlithographique, en particulier pour utiliser de la lumière se trouvant dans la plage des UV extrêmes (EUV), comprenant un dispositif de maintien (110) servant à maintenir un élément optique (109), l'élément optique (109) comprenant une surface optique (109.1) et définissant un plan d'extension principale dans lequel l'élément optique (109) définit une direction radiale et une direction circonférentielle. Le dispositif de maintien (110) comprend une unité de base (110.1) et plus de trois unités de maintien indépendantes (110.2), l'unité de base (110.1) comprenant une pluralité d'unités d'interface de support (110.3) qui sont espacées les unes des autres dans la direction circonférentielle, servant à relier le dispositif de maintien (110) à une structure de support (102.1). Les unités de maintien (110.2) sont reliées à l'unité de base (110.1) et disposées de manière à être réparties le long de la direction circonférentielle et espacées les unes des autres. Les unités de maintien (110.2) sont conçues pour maintenir l'élément optique (109) par rapport à l'unité de base (110.1). L'unité de base comprend au moins un élément de membrane de support (110.4), le ou les éléments de membrane de support (110.4) s'étendant principalement le long de la direction circonférentielle et le long de la direction radiale, le ou les éléments de membrane de support (110,4) ayant une dimension d'épaisseur transversale à la direction circonférentielle et à la direction radiale. Les unités de maintien (110.2) sont disposées sur un côté avant du ou des éléments de membrane de support (110.4) qui fait face à l'élément optique (109).</description><language>eng ; fre</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CINEMATOGRAPHY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS ; OPTICS ; ORIGINALS THEREFOR ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS</subject><creationdate>2020</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20201119&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2020229345A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,309,781,886,25566,76549</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20201119&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2020229345A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>ANSELM, Eugen</creatorcontrib><creatorcontrib>KOERNER, Christian</creatorcontrib><creatorcontrib>MUELLER, Christoph</creatorcontrib><title>SUPPORTING AN OPTICAL ELEMENT</title><description>The present invention relates to an arrangement of a microlithographic imaging device, particularly for using light in the extreme UV (EUV) range, comprising a holding device (110) for holding an optical element (109), wherein the optical element (109) comprises an optical surface (109.1) and defines a plane of main extension, in which the optical element (109) defines a radial direction and a circumferential direction. The holding device (110) comprises a base unit (110.1) and more than three separate holding units (110.2), wherein the base unit (110.1) comprises a plurality of support interface units (110.3), which are spaced apart from one another in the circumferential direction, for connecting the holding device (110) to a support structure (102.1). The holding units (110.2) are connected to the base unit (110.1) and disposed in a manner distributed along the circumferential direction and spaced apart from one another. The holding units (110.2) are configured to hold the optical element (109) with respect to the base unit (110.1 ). The base unit comprises at least one support membrane element (110.4), wherein the at least one support membrane element (110.4) predominantly extends along the circumferential direction and along the radial direction, wherein the at least one support membrane element (110.4) has a thickness dimension transversely to the circumferential direction and radial direction. The holding units (110.2) are disposed on a front side of the at least one support membrane element (110.4) that faces the optical element (109).
La présente invention concerne un agencement d'un dispositif d'imagerie microlithographique, en particulier pour utiliser de la lumière se trouvant dans la plage des UV extrêmes (EUV), comprenant un dispositif de maintien (110) servant à maintenir un élément optique (109), l'élément optique (109) comprenant une surface optique (109.1) et définissant un plan d'extension principale dans lequel l'élément optique (109) définit une direction radiale et une direction circonférentielle. Le dispositif de maintien (110) comprend une unité de base (110.1) et plus de trois unités de maintien indépendantes (110.2), l'unité de base (110.1) comprenant une pluralité d'unités d'interface de support (110.3) qui sont espacées les unes des autres dans la direction circonférentielle, servant à relier le dispositif de maintien (110) à une structure de support (102.1). Les unités de maintien (110.2) sont reliées à l'unité de base (110.1) et disposées de manière à être réparties le long de la direction circonférentielle et espacées les unes des autres. Les unités de maintien (110.2) sont conçues pour maintenir l'élément optique (109) par rapport à l'unité de base (110.1). L'unité de base comprend au moins un élément de membrane de support (110.4), le ou les éléments de membrane de support (110.4) s'étendant principalement le long de la direction circonférentielle et le long de la direction radiale, le ou les éléments de membrane de support (110,4) ayant une dimension d'épaisseur transversale à la direction circonférentielle et à la direction radiale. 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The holding units (110.2) are disposed on a front side of the at least one support membrane element (110.4) that faces the optical element (109).
La présente invention concerne un agencement d'un dispositif d'imagerie microlithographique, en particulier pour utiliser de la lumière se trouvant dans la plage des UV extrêmes (EUV), comprenant un dispositif de maintien (110) servant à maintenir un élément optique (109), l'élément optique (109) comprenant une surface optique (109.1) et définissant un plan d'extension principale dans lequel l'élément optique (109) définit une direction radiale et une direction circonférentielle. Le dispositif de maintien (110) comprend une unité de base (110.1) et plus de trois unités de maintien indépendantes (110.2), l'unité de base (110.1) comprenant une pluralité d'unités d'interface de support (110.3) qui sont espacées les unes des autres dans la direction circonférentielle, servant à relier le dispositif de maintien (110) à une structure de support (102.1). Les unités de maintien (110.2) sont reliées à l'unité de base (110.1) et disposées de manière à être réparties le long de la direction circonférentielle et espacées les unes des autres. Les unités de maintien (110.2) sont conçues pour maintenir l'élément optique (109) par rapport à l'unité de base (110.1). L'unité de base comprend au moins un élément de membrane de support (110.4), le ou les éléments de membrane de support (110.4) s'étendant principalement le long de la direction circonférentielle et le long de la direction radiale, le ou les éléments de membrane de support (110,4) ayant une dimension d'épaisseur transversale à la direction circonférentielle et à la direction radiale. Les unités de maintien (110.2) sont disposées sur un côté avant du ou des éléments de membrane de support (110.4) qui fait face à l'élément optique (109).</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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