DETERMINING SUBSET OF COMPONENTS OF AN OPTICAL CHARACTERISTIC OF PATTERNING APPARATUS
Described herein is a method for determining a component of optical characteristic of a patterning process. The method includes obtaining (i) a plurality of desired features, (ii) a plurality of simulated features based on the plurality of desired features and an optical characteristic of a patterni...
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|---|---|
| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; fre |
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| creator | BASELMANS, Johannes VAN ADRI, Paulus LENDERINK, Egbert |
| description | Described herein is a method for determining a component of optical characteristic of a patterning process. The method includes obtaining (i) a plurality of desired features, (ii) a plurality of simulated features based on the plurality of desired features and an optical characteristic of a patterning apparatus, and (iii) a performance metric (e.g., EPE) related to a desired feature of the plurality of desired features and an associated simulated feature of the plurality of simulated features; determining a set of optical sensitivities of the patterning process by computing a change in value of the performance metric based on a change in value of the optical characteristic; and identifying, based on the set of optical sensitivities, a set of components (e.g., Principal components) of the optical characteristic that comprise dominant contributors in changing the value of the performance metric.
La présente invention concerne un procédé permettant de déterminer une composante d'une caractéristique optique d'un processus de formation de tracés. Le procédé consiste à obtenir (i) une pluralité d'éléments souhaités, (ii) une pluralité d'éléments simulés sur la base de la pluralité d'éléments souhaités et une caractéristique optique d'un appareil de formation de tracés, et (iii) une métrique de performance (EPE, par exemple) relative à un élément souhaité de la pluralité d'éléments souhaités et un élément simulé associé parmi la pluralité d'éléments simulés ; à déterminer un ensemble de sensibilités optiques du processus de formation de tracés par calcul d'un changement de valeur de la métrique de performance sur la base d'un changement de valeur de la caractéristique optique ; et à identifier, sur la base de l'ensemble de sensibilités optiques, un ensemble de composantes (des composantes principales, par exemple) de la caractéristique optique qui comprennent des facteurs contributifs dominants dans le changement de valeur de la métrique de performance. |
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La présente invention concerne un procédé permettant de déterminer une composante d'une caractéristique optique d'un processus de formation de tracés. Le procédé consiste à obtenir (i) une pluralité d'éléments souhaités, (ii) une pluralité d'éléments simulés sur la base de la pluralité d'éléments souhaités et une caractéristique optique d'un appareil de formation de tracés, et (iii) une métrique de performance (EPE, par exemple) relative à un élément souhaité de la pluralité d'éléments souhaités et un élément simulé associé parmi la pluralité d'éléments simulés ; à déterminer un ensemble de sensibilités optiques du processus de formation de tracés par calcul d'un changement de valeur de la métrique de performance sur la base d'un changement de valeur de la caractéristique optique ; et à identifier, sur la base de l'ensemble de sensibilités optiques, un ensemble de composantes (des composantes principales, par exemple) de la caractéristique optique qui comprennent des facteurs contributifs dominants dans le changement de valeur de la métrique de performance.</description><language>eng ; fre</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CINEMATOGRAPHY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; ORIGINALS THEREFOR ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS</subject><creationdate>2020</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20200709&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2020141051A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76547</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20200709&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2020141051A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>BASELMANS, Johannes</creatorcontrib><creatorcontrib>VAN ADRI, Paulus</creatorcontrib><creatorcontrib>LENDERINK, Egbert</creatorcontrib><title>DETERMINING SUBSET OF COMPONENTS OF AN OPTICAL CHARACTERISTIC OF PATTERNING APPARATUS</title><description>Described herein is a method for determining a component of optical characteristic of a patterning process. The method includes obtaining (i) a plurality of desired features, (ii) a plurality of simulated features based on the plurality of desired features and an optical characteristic of a patterning apparatus, and (iii) a performance metric (e.g., EPE) related to a desired feature of the plurality of desired features and an associated simulated feature of the plurality of simulated features; determining a set of optical sensitivities of the patterning process by computing a change in value of the performance metric based on a change in value of the optical characteristic; and identifying, based on the set of optical sensitivities, a set of components (e.g., Principal components) of the optical characteristic that comprise dominant contributors in changing the value of the performance metric.
La présente invention concerne un procédé permettant de déterminer une composante d'une caractéristique optique d'un processus de formation de tracés. Le procédé consiste à obtenir (i) une pluralité d'éléments souhaités, (ii) une pluralité d'éléments simulés sur la base de la pluralité d'éléments souhaités et une caractéristique optique d'un appareil de formation de tracés, et (iii) une métrique de performance (EPE, par exemple) relative à un élément souhaité de la pluralité d'éléments souhaités et un élément simulé associé parmi la pluralité d'éléments simulés ; à déterminer un ensemble de sensibilités optiques du processus de formation de tracés par calcul d'un changement de valeur de la métrique de performance sur la base d'un changement de valeur de la caractéristique optique ; et à identifier, sur la base de l'ensemble de sensibilités optiques, un ensemble de composantes (des composantes principales, par exemple) de la caractéristique optique qui comprennent des facteurs contributifs dominants dans le changement de valeur de la métrique de performance.</description><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>MATERIALS THEREFOR</subject><subject>ORIGINALS THEREFOR</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</subject><subject>PHYSICS</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2020</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZAh1cQ1xDfL19PP0c1cIDnUKdg1R8HdTcPb3DfD3c_ULCQbxHP0U_ANCPJ0dfRScPRyDHJ2BWjyDgQIgyQDHECAXrN8xIAAoGxIazMPAmpaYU5zKC6W5GZTdXEOcPXRTC_LjU4sLEpNT81JL4sP9jQyMDAxNDA1MDR0NjYlTBQA3zzFu</recordid><startdate>20200709</startdate><enddate>20200709</enddate><creator>BASELMANS, Johannes</creator><creator>VAN ADRI, Paulus</creator><creator>LENDERINK, Egbert</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20200709</creationdate><title>DETERMINING SUBSET OF COMPONENTS OF AN OPTICAL CHARACTERISTIC OF PATTERNING APPARATUS</title><author>BASELMANS, Johannes ; VAN ADRI, Paulus ; LENDERINK, Egbert</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2020141051A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2020</creationdate><topic>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</topic><topic>CINEMATOGRAPHY</topic><topic>ELECTROGRAPHY</topic><topic>HOLOGRAPHY</topic><topic>MATERIALS THEREFOR</topic><topic>ORIGINALS THEREFOR</topic><topic>PHOTOGRAPHY</topic><topic>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</topic><topic>PHYSICS</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>BASELMANS, Johannes</creatorcontrib><creatorcontrib>VAN ADRI, Paulus</creatorcontrib><creatorcontrib>LENDERINK, Egbert</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>BASELMANS, Johannes</au><au>VAN ADRI, Paulus</au><au>LENDERINK, Egbert</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>DETERMINING SUBSET OF COMPONENTS OF AN OPTICAL CHARACTERISTIC OF PATTERNING APPARATUS</title><date>2020-07-09</date><risdate>2020</risdate><abstract>Described herein is a method for determining a component of optical characteristic of a patterning process. The method includes obtaining (i) a plurality of desired features, (ii) a plurality of simulated features based on the plurality of desired features and an optical characteristic of a patterning apparatus, and (iii) a performance metric (e.g., EPE) related to a desired feature of the plurality of desired features and an associated simulated feature of the plurality of simulated features; determining a set of optical sensitivities of the patterning process by computing a change in value of the performance metric based on a change in value of the optical characteristic; and identifying, based on the set of optical sensitivities, a set of components (e.g., Principal components) of the optical characteristic that comprise dominant contributors in changing the value of the performance metric.
La présente invention concerne un procédé permettant de déterminer une composante d'une caractéristique optique d'un processus de formation de tracés. Le procédé consiste à obtenir (i) une pluralité d'éléments souhaités, (ii) une pluralité d'éléments simulés sur la base de la pluralité d'éléments souhaités et une caractéristique optique d'un appareil de formation de tracés, et (iii) une métrique de performance (EPE, par exemple) relative à un élément souhaité de la pluralité d'éléments souhaités et un élément simulé associé parmi la pluralité d'éléments simulés ; à déterminer un ensemble de sensibilités optiques du processus de formation de tracés par calcul d'un changement de valeur de la métrique de performance sur la base d'un changement de valeur de la caractéristique optique ; et à identifier, sur la base de l'ensemble de sensibilités optiques, un ensemble de composantes (des composantes principales, par exemple) de la caractéristique optique qui comprennent des facteurs contributifs dominants dans le changement de valeur de la métrique de performance.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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