METHOD OF MANUFACTURING A MEMRISTOR HAVING AN ELECTRIC FIELD NANO-CONCENTRATOR

A layer of tantalum oxide and a layer of yttrium-stabilized zirconium dioxide are sequentially formed using magnetron sputtering on the surface of one electrode, said electrode being made of titanium nitride. As tantalum oxide is deposited on said electrode, nitrogen atoms are partially substituted...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: PAVLOV, Dmitry Alekseevich, TETELBAUM, David Isaakovich, GORSHKOV, Oleg Nikolaevich, MIKHAILOV, Alexey Nikolaevich, SHARAPOV, Alexander Nikolaevich, BELOV, Alexey Ivanovich, ZUBKOV, Sergey Yurievich, ANTONOV, Ivan Nikolaevich, SUSHKOV, Artem Aleksandrovich, KOROLEV, Dmitry Sergeevich
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; rus
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
container_end_page
container_issue
container_start_page
container_title
container_volume
creator PAVLOV, Dmitry Alekseevich
TETELBAUM, David Isaakovich
GORSHKOV, Oleg Nikolaevich
MIKHAILOV, Alexey Nikolaevich
SHARAPOV, Alexander Nikolaevich
BELOV, Alexey Ivanovich
ZUBKOV, Sergey Yurievich
ANTONOV, Ivan Nikolaevich
SUSHKOV, Artem Aleksandrovich
KOROLEV, Dmitry Sergeevich
description A layer of tantalum oxide and a layer of yttrium-stabilized zirconium dioxide are sequentially formed using magnetron sputtering on the surface of one electrode, said electrode being made of titanium nitride. As tantalum oxide is deposited on said electrode, nitrogen atoms are partially substituted by oxygen atoms and an intermediate interface layer of titanium dioxide is formed, with the formation of electric field nano-concentrators in the form of nano-crystalline inclusions of tantalum in the regions of said interface layer and of the deposited tantalum oxide layer that are adjacent the surface boundary separating said layers. On a formé à la surface de l'une des électrodes en nitrure de titane, successivement et en recourant à une pulvérisation magnétron, une couche d'oxyde de tantale et une couche de zircone stabilisée à l'yttrium. Le dépôt d'oxyde de tantale sur ladite électrode s'accompagne de remplacement partiel des atomes d'azote par des atomes d'oxygène et de formation d'une couche d'interface intermédiaire de dioxyde de titane à la surface de cette électrode avec formation dans les sections de la couche d'interface spécifiée et la couche d'oxyde de tantale déposée adjacente à la limite de surface de leur interface de nanoconcentrateurs de champ électrique sous forme d'inclusions de tantale nanocristallines. На поверхности одного из электродов, изготовленного из нитрида титана последовательно формируют слой оксида тантала и слой диоксида циркония, стабилизированного иттрием, с использованием магнетронного распыления. Осаждение на указанный электрод оксида тантала, сопровождается частичным замещением атомов азота на атомы кислорода и формированием на поверхности этого электрода промежуточного интерфейсного слоя диоксида титана с образованием в участках указанного интерфейсного слоя и осаждаемого слоя оксида тантала, прилежащих к поверхностной границе их раздела, наноконцентраторов электрического поля в виде нанокристаллических включений тантала.
format Patent
fullrecord <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_WO2020139141A1</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>WO2020139141A1</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_WO2020139141A13</originalsourceid><addsrcrecordid>eNqNyrEKwjAQgOEuDqK-w4FzoWldHI_rxQSaC8RrHUuROIkW6vujiA_g9MPPty4ksLrYQrQQUHqLpH3ycgKEwCH5s8YEDofvEuCOSZMnsJ67FgQllhSFWDThh26L1W26L3n366bYW1ZyZZ6fY17m6Zof-TVeYl3VlWmO5mDQNP-pN7_PL0Y</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>METHOD OF MANUFACTURING A MEMRISTOR HAVING AN ELECTRIC FIELD NANO-CONCENTRATOR</title><source>esp@cenet</source><creator>PAVLOV, Dmitry Alekseevich ; TETELBAUM, David Isaakovich ; GORSHKOV, Oleg Nikolaevich ; MIKHAILOV, Alexey Nikolaevich ; SHARAPOV, Alexander Nikolaevich ; BELOV, Alexey Ivanovich ; ZUBKOV, Sergey Yurievich ; ANTONOV, Ivan Nikolaevich ; SUSHKOV, Artem Aleksandrovich ; KOROLEV, Dmitry Sergeevich</creator><creatorcontrib>PAVLOV, Dmitry Alekseevich ; TETELBAUM, David Isaakovich ; GORSHKOV, Oleg Nikolaevich ; MIKHAILOV, Alexey Nikolaevich ; SHARAPOV, Alexander Nikolaevich ; BELOV, Alexey Ivanovich ; ZUBKOV, Sergey Yurievich ; ANTONOV, Ivan Nikolaevich ; SUSHKOV, Artem Aleksandrovich ; KOROLEV, Dmitry Sergeevich</creatorcontrib><description>A layer of tantalum oxide and a layer of yttrium-stabilized zirconium dioxide are sequentially formed using magnetron sputtering on the surface of one electrode, said electrode being made of titanium nitride. As tantalum oxide is deposited on said electrode, nitrogen atoms are partially substituted by oxygen atoms and an intermediate interface layer of titanium dioxide is formed, with the formation of electric field nano-concentrators in the form of nano-crystalline inclusions of tantalum in the regions of said interface layer and of the deposited tantalum oxide layer that are adjacent the surface boundary separating said layers. On a formé à la surface de l'une des électrodes en nitrure de titane, successivement et en recourant à une pulvérisation magnétron, une couche d'oxyde de tantale et une couche de zircone stabilisée à l'yttrium. Le dépôt d'oxyde de tantale sur ladite électrode s'accompagne de remplacement partiel des atomes d'azote par des atomes d'oxygène et de formation d'une couche d'interface intermédiaire de dioxyde de titane à la surface de cette électrode avec formation dans les sections de la couche d'interface spécifiée et la couche d'oxyde de tantale déposée adjacente à la limite de surface de leur interface de nanoconcentrateurs de champ électrique sous forme d'inclusions de tantale nanocristallines. На поверхности одного из электродов, изготовленного из нитрида титана последовательно формируют слой оксида тантала и слой диоксида циркония, стабилизированного иттрием, с использованием магнетронного распыления. Осаждение на указанный электрод оксида тантала, сопровождается частичным замещением атомов азота на атомы кислорода и формированием на поверхности этого электрода промежуточного интерфейсного слоя диоксида титана с образованием в участках указанного интерфейсного слоя и осаждаемого слоя оксида тантала, прилежащих к поверхностной границе их раздела, наноконцентраторов электрического поля в виде нанокристаллических включений тантала.</description><language>eng ; fre ; rus</language><subject>ELECTRICITY</subject><creationdate>2020</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20200702&amp;DB=EPODOC&amp;CC=WO&amp;NR=2020139141A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,309,781,886,25569,76552</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20200702&amp;DB=EPODOC&amp;CC=WO&amp;NR=2020139141A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>PAVLOV, Dmitry Alekseevich</creatorcontrib><creatorcontrib>TETELBAUM, David Isaakovich</creatorcontrib><creatorcontrib>GORSHKOV, Oleg Nikolaevich</creatorcontrib><creatorcontrib>MIKHAILOV, Alexey Nikolaevich</creatorcontrib><creatorcontrib>SHARAPOV, Alexander Nikolaevich</creatorcontrib><creatorcontrib>BELOV, Alexey Ivanovich</creatorcontrib><creatorcontrib>ZUBKOV, Sergey Yurievich</creatorcontrib><creatorcontrib>ANTONOV, Ivan Nikolaevich</creatorcontrib><creatorcontrib>SUSHKOV, Artem Aleksandrovich</creatorcontrib><creatorcontrib>KOROLEV, Dmitry Sergeevich</creatorcontrib><title>METHOD OF MANUFACTURING A MEMRISTOR HAVING AN ELECTRIC FIELD NANO-CONCENTRATOR</title><description>A layer of tantalum oxide and a layer of yttrium-stabilized zirconium dioxide are sequentially formed using magnetron sputtering on the surface of one electrode, said electrode being made of titanium nitride. As tantalum oxide is deposited on said electrode, nitrogen atoms are partially substituted by oxygen atoms and an intermediate interface layer of titanium dioxide is formed, with the formation of electric field nano-concentrators in the form of nano-crystalline inclusions of tantalum in the regions of said interface layer and of the deposited tantalum oxide layer that are adjacent the surface boundary separating said layers. On a formé à la surface de l'une des électrodes en nitrure de titane, successivement et en recourant à une pulvérisation magnétron, une couche d'oxyde de tantale et une couche de zircone stabilisée à l'yttrium. Le dépôt d'oxyde de tantale sur ladite électrode s'accompagne de remplacement partiel des atomes d'azote par des atomes d'oxygène et de formation d'une couche d'interface intermédiaire de dioxyde de titane à la surface de cette électrode avec formation dans les sections de la couche d'interface spécifiée et la couche d'oxyde de tantale déposée adjacente à la limite de surface de leur interface de nanoconcentrateurs de champ électrique sous forme d'inclusions de tantale nanocristallines. На поверхности одного из электродов, изготовленного из нитрида титана последовательно формируют слой оксида тантала и слой диоксида циркония, стабилизированного иттрием, с использованием магнетронного распыления. Осаждение на указанный электрод оксида тантала, сопровождается частичным замещением атомов азота на атомы кислорода и формированием на поверхности этого электрода промежуточного интерфейсного слоя диоксида титана с образованием в участках указанного интерфейсного слоя и осаждаемого слоя оксида тантала, прилежащих к поверхностной границе их раздела, наноконцентраторов электрического поля в виде нанокристаллических включений тантала.</description><subject>ELECTRICITY</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2020</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNqNyrEKwjAQgOEuDqK-w4FzoWldHI_rxQSaC8RrHUuROIkW6vujiA_g9MPPty4ksLrYQrQQUHqLpH3ycgKEwCH5s8YEDofvEuCOSZMnsJ67FgQllhSFWDThh26L1W26L3n366bYW1ZyZZ6fY17m6Zof-TVeYl3VlWmO5mDQNP-pN7_PL0Y</recordid><startdate>20200702</startdate><enddate>20200702</enddate><creator>PAVLOV, Dmitry Alekseevich</creator><creator>TETELBAUM, David Isaakovich</creator><creator>GORSHKOV, Oleg Nikolaevich</creator><creator>MIKHAILOV, Alexey Nikolaevich</creator><creator>SHARAPOV, Alexander Nikolaevich</creator><creator>BELOV, Alexey Ivanovich</creator><creator>ZUBKOV, Sergey Yurievich</creator><creator>ANTONOV, Ivan Nikolaevich</creator><creator>SUSHKOV, Artem Aleksandrovich</creator><creator>KOROLEV, Dmitry Sergeevich</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20200702</creationdate><title>METHOD OF MANUFACTURING A MEMRISTOR HAVING AN ELECTRIC FIELD NANO-CONCENTRATOR</title><author>PAVLOV, Dmitry Alekseevich ; TETELBAUM, David Isaakovich ; GORSHKOV, Oleg Nikolaevich ; MIKHAILOV, Alexey Nikolaevich ; SHARAPOV, Alexander Nikolaevich ; BELOV, Alexey Ivanovich ; ZUBKOV, Sergey Yurievich ; ANTONOV, Ivan Nikolaevich ; SUSHKOV, Artem Aleksandrovich ; KOROLEV, Dmitry Sergeevich</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2020139141A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre ; rus</language><creationdate>2020</creationdate><topic>ELECTRICITY</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>PAVLOV, Dmitry Alekseevich</creatorcontrib><creatorcontrib>TETELBAUM, David Isaakovich</creatorcontrib><creatorcontrib>GORSHKOV, Oleg Nikolaevich</creatorcontrib><creatorcontrib>MIKHAILOV, Alexey Nikolaevich</creatorcontrib><creatorcontrib>SHARAPOV, Alexander Nikolaevich</creatorcontrib><creatorcontrib>BELOV, Alexey Ivanovich</creatorcontrib><creatorcontrib>ZUBKOV, Sergey Yurievich</creatorcontrib><creatorcontrib>ANTONOV, Ivan Nikolaevich</creatorcontrib><creatorcontrib>SUSHKOV, Artem Aleksandrovich</creatorcontrib><creatorcontrib>KOROLEV, Dmitry Sergeevich</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>PAVLOV, Dmitry Alekseevich</au><au>TETELBAUM, David Isaakovich</au><au>GORSHKOV, Oleg Nikolaevich</au><au>MIKHAILOV, Alexey Nikolaevich</au><au>SHARAPOV, Alexander Nikolaevich</au><au>BELOV, Alexey Ivanovich</au><au>ZUBKOV, Sergey Yurievich</au><au>ANTONOV, Ivan Nikolaevich</au><au>SUSHKOV, Artem Aleksandrovich</au><au>KOROLEV, Dmitry Sergeevich</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>METHOD OF MANUFACTURING A MEMRISTOR HAVING AN ELECTRIC FIELD NANO-CONCENTRATOR</title><date>2020-07-02</date><risdate>2020</risdate><abstract>A layer of tantalum oxide and a layer of yttrium-stabilized zirconium dioxide are sequentially formed using magnetron sputtering on the surface of one electrode, said electrode being made of titanium nitride. As tantalum oxide is deposited on said electrode, nitrogen atoms are partially substituted by oxygen atoms and an intermediate interface layer of titanium dioxide is formed, with the formation of electric field nano-concentrators in the form of nano-crystalline inclusions of tantalum in the regions of said interface layer and of the deposited tantalum oxide layer that are adjacent the surface boundary separating said layers. On a formé à la surface de l'une des électrodes en nitrure de titane, successivement et en recourant à une pulvérisation magnétron, une couche d'oxyde de tantale et une couche de zircone stabilisée à l'yttrium. Le dépôt d'oxyde de tantale sur ladite électrode s'accompagne de remplacement partiel des atomes d'azote par des atomes d'oxygène et de formation d'une couche d'interface intermédiaire de dioxyde de titane à la surface de cette électrode avec formation dans les sections de la couche d'interface spécifiée et la couche d'oxyde de tantale déposée adjacente à la limite de surface de leur interface de nanoconcentrateurs de champ électrique sous forme d'inclusions de tantale nanocristallines. На поверхности одного из электродов, изготовленного из нитрида титана последовательно формируют слой оксида тантала и слой диоксида циркония, стабилизированного иттрием, с использованием магнетронного распыления. Осаждение на указанный электрод оксида тантала, сопровождается частичным замещением атомов азота на атомы кислорода и формированием на поверхности этого электрода промежуточного интерфейсного слоя диоксида титана с образованием в участках указанного интерфейсного слоя и осаждаемого слоя оксида тантала, прилежащих к поверхностной границе их раздела, наноконцентраторов электрического поля в виде нанокристаллических включений тантала.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record>
fulltext fulltext_linktorsrc
identifier
ispartof
issn
language eng ; fre ; rus
recordid cdi_epo_espacenet_WO2020139141A1
source esp@cenet
subjects ELECTRICITY
title METHOD OF MANUFACTURING A MEMRISTOR HAVING AN ELECTRIC FIELD NANO-CONCENTRATOR
url https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2024-12-12T15%3A31%3A34IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=PAVLOV,%20Dmitry%20Alekseevich&rft.date=2020-07-02&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EWO2020139141A1%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true