PRE-CONDITIONED CHAMBER COMPONENTS
Embodiments of the disclosure generally relate to a process kit including a shield serving as an anode in a physical deposition chamber. The shield has a cylindrical band, the cylindrical band having a top and a bottom, the cylindrical band sized to encircle a sputtering surface of a sputtering targ...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | Embodiments of the disclosure generally relate to a process kit including a shield serving as an anode in a physical deposition chamber. The shield has a cylindrical band, the cylindrical band having a top and a bottom, the cylindrical band sized to encircle a sputtering surface of a sputtering target disposed adjacent the top and a substrate support disposed at the bottom, the cylindrical band having an interior surface. A texture is disposed on the interior surface. The texture has a plurality of features. A film is provided on a portion of the features. The film includes a porosity of about 2% to about 3.5%.
Des modes de réalisation de la présente invention concernent en générale un kit de traitement comprenant un écran servant d'anode dans une chambre de dépôt physique. L'écran comprend une bande cylindrique, la bande cylindrique ayant un côté haut et un côté bas, la bande cylindrique étant dimensionnée pour encercler une surface de pulvérisation d'une cible de pulvérisation disposée à proximité du côté haut et un support de substrat disposé au niveau du côté bas, la bande cylindrique ayant une surface intérieure. Une texture est disposée sur la surface intérieure. La texture possède une pluralité d'éléments. Un film est disposé sur une partie des caractéristiques. Le film comprend une porosité d'environ 2 % à environ 3,5 %. |
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