TUNING PATTERNING APPARATUS BASED ON OPTICAL CHARACTERISTIC

Described herein is a method for tuning a target apparatus of a patterning process. The method includes obtaining a reference performance, and measurement data of a substrate subjected to the patterning process at the target apparatus, the measurement data indicative of a performance of the target apparatus; determining a cause of a performance mismatch based on a difference between the reference performance and the performance of the target apparatus, wherein the cause includes an optical characteristic; and responsive to the cause, adjusting optical parameters associated with an adjustable optical characteristic to reduce the performance mismatch in the optical characteristic. La présente invention concerne un procédé de réglage d'un appareil de cible d'un processus de modélisation. Le procédé consiste à obtenir une performance de référence, et des données de mesure d'un substrat soumis au processus de formation de motif au niveau de l'appareil cible, les données de mesure indiquant une performance de l'appareil cible ; à déterminer une cause d'un défaut d'appariement de performances sur la base d'une différence entre les performances de référence et les performances de l'appareil cible, la cause comprenant une caractéristique optique ; et en réponse à la cause, à régler des paramètres optiques associés à une caractéristique optique réglable afin de réduire l'incompatibilité de performance dans la caractéristique optique.