ION SOURCES WITH IMPROVED CLEANING BY ABLATING LIGHT

An ion source comprises an ionising light source arranged to output ionising light for ionising a sample material, an electrode presenting an electrode surface for attracting the ionised sample material and upon which contaminant material is able to accumulate, and an ablating light source arranged...

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Hauptverfasser: KALININA, Diana Vladimirovna, ALLISON, John Mark
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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creator KALININA, Diana Vladimirovna
ALLISON, John Mark
description An ion source comprises an ionising light source arranged to output ionising light for ionising a sample material, an electrode presenting an electrode surface for attracting the ionised sample material and upon which contaminant material is able to accumulate, and an ablating light source arranged to output an ablating light beam or pulse(s) for ablating material of the electrode from the electrode surface. The ablating light beam or pulse(s) does not include said ionising light. A reflector for reflecting the ablating light onto the electrode surface, therewith by a process of ablation a part of the electrode surface is removable from the electrode together with contaminant material when accumulated upon that part. La présente invention concerne une source d'anions comprenant une source de lumière ionisante agencée pour émettre une lumière ionisante pour ioniser un matériau d'échantillon, une électrode présentant une surface d'électrode pour attirer le matériau d'échantillon ionisé et sur laquelle un matériau contaminant peut s'accumuler et une source de lumière d'ablation conçue pour émettre un faisceau de lumière d'ablation ou une/des impulsion(s) pour l'ablation de matériau de l'électrode à partir de la surface d'électrode. Le faisceau lumineux d'ablation ou la/les impulsion(s) ne comprend(comprennent) pas ladite lumière ionisante. Un réflecteur pour réfléchir la lumière d'ablation sur la surface d'électrode, en outre par un processus d'ablation, une partie de la surface d'électrode est amovible de l'électrode conjointement avec un matériau contaminant lorsqu'il est accumulé sur cette partie.
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The ablating light beam or pulse(s) does not include said ionising light. A reflector for reflecting the ablating light onto the electrode surface, therewith by a process of ablation a part of the electrode surface is removable from the electrode together with contaminant material when accumulated upon that part. La présente invention concerne une source d'anions comprenant une source de lumière ionisante agencée pour émettre une lumière ionisante pour ioniser un matériau d'échantillon, une électrode présentant une surface d'électrode pour attirer le matériau d'échantillon ionisé et sur laquelle un matériau contaminant peut s'accumuler et une source de lumière d'ablation conçue pour émettre un faisceau de lumière d'ablation ou une/des impulsion(s) pour l'ablation de matériau de l'électrode à partir de la surface d'électrode. Le faisceau lumineux d'ablation ou la/les impulsion(s) ne comprend(comprennent) pas ladite lumière ionisante. Un réflecteur pour réfléchir la lumière d'ablation sur la surface d'électrode, en outre par un processus d'ablation, une partie de la surface d'électrode est amovible de l'électrode conjointement avec un matériau contaminant lorsqu'il est accumulé sur cette partie.</description><language>eng ; fre</language><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; CLEANING ; CLEANING IN GENERAL ; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ; ELECTRICITY ; PERFORMING OPERATIONS ; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL ; TRANSPORTING</subject><creationdate>2020</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20200220&amp;DB=EPODOC&amp;CC=WO&amp;NR=2019239145A8$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76547</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20200220&amp;DB=EPODOC&amp;CC=WO&amp;NR=2019239145A8$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>KALININA, Diana Vladimirovna</creatorcontrib><creatorcontrib>ALLISON, John Mark</creatorcontrib><title>ION SOURCES WITH IMPROVED CLEANING BY ABLATING LIGHT</title><description>An ion source comprises an ionising light source arranged to output ionising light for ionising a sample material, an electrode presenting an electrode surface for attracting the ionised sample material and upon which contaminant material is able to accumulate, and an ablating light source arranged to output an ablating light beam or pulse(s) for ablating material of the electrode from the electrode surface. The ablating light beam or pulse(s) does not include said ionising light. A reflector for reflecting the ablating light onto the electrode surface, therewith by a process of ablation a part of the electrode surface is removable from the electrode together with contaminant material when accumulated upon that part. La présente invention concerne une source d'anions comprenant une source de lumière ionisante agencée pour émettre une lumière ionisante pour ioniser un matériau d'échantillon, une électrode présentant une surface d'électrode pour attirer le matériau d'échantillon ionisé et sur laquelle un matériau contaminant peut s'accumuler et une source de lumière d'ablation conçue pour émettre un faisceau de lumière d'ablation ou une/des impulsion(s) pour l'ablation de matériau de l'électrode à partir de la surface d'électrode. Le faisceau lumineux d'ablation ou la/les impulsion(s) ne comprend(comprennent) pas ladite lumière ionisante. 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