PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND ANTIGLARE FILM

The present invention relates to a photosensitive resin composition for an antiglare film, comprising (A) a multifunctional (meth)acrylate having at least three or more (meth)acryloyl groups in the molecule, (C) a photopolymerization initiator, (D) polystyrene particles, and (E) silica, and also rel...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: KARINO Hirokazu, TAIRA Yoshihiko, HASEGAWA Ryo
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; jpn
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